本发明提供一种无论是怎样的被检验者均能够确保检查所需的采血量的采血装置以及采血方法。采血装置具备独立地压迫手指的基节和/或中节、末节的压迫机构，按照所述基节和/或中节、所述末节的顺序反复压迫所述手指来采集从手指尖的穿刺痕迹出血的血液，其...

本公开的电泳装置的特征在于，具备：毛细管，其填充有泳动介质；缓冲液容器，其收容有缓冲溶液；保管部，其保管收容有样品的样品容器；至少一个自动采样器，其分别搬送所述样品容器以及所述缓冲液容器；以及控制部，其控制所述自动采样器的驱动，所述控制...

本技术提供一种输送车，能够输送多种带有万向轮的对象物且通用性较高。一种输送车(1)，其输送具有至少2个万向轮的对象物，该输送车(1)具有：一对侧框架(11、12)，其沿着对象物(100)的两侧向前后延伸；前框架(13)，其在一对侧框架的...

提供能使排气气体中的负荷气体通过除害装置合适地减少的晶片处理装置。晶片处理装置具备：晶片处理单元，其对容器供给处理用气体，进行配置于容器内的处理对象即晶片的处理，并且与进行减少从容器排出的排气气体中的负荷气体的除害处理的除害装置连结；和...

为了提供能够使装置壳体小型化、能够节省空间地使多个装置同时运转的自动培养装置、自动培养系统，采用了以下的结构。一种自动培养系统，具备能够收容培养容器的自动培养装置和控制多个自动培养装置的集中管理计算机，所述自动培养装置具备：温度保持机构...

本发明提供一种工作台装置、具备该工作台装置的带电粒子束装置，即使是在固定侧的工作台配置珀尔帖模块的方式，也能防止工作台的热变形，提高工作台定位的位置精度。工作台装置具备：直线移动的第一工作台；第一翅片，其在第一工作台的直线移动的方向上延...

本发明的目的在于，提供一种对频率不同的多个高频电力进行控制的技术。本发明的等离子处理装置之一具备：处理室，对样品进行等离子处理；第一高频电源，将第一频率的高频电力经由第一阻抗匹配器和第一滤波器供给到第一电极；第二高频电源，将第二频率的第...

本发明提供一种工作台装置、带电粒子束装置以及真空装置，抑制Z马达的温度变动而能够进行高精度的定位且漏磁场小。其构成为：利用可动磁轭(403)将多个磁铁(502)的底面结合而形成磁路，将多个线圈(501)与可动磁轭(403)分开(分离)而...

本发明的目的在于提供一种将基于AI模型的预测的不确定性活用于配方的搜索的技术。本发明的配方推荐装置之一具有处理器以及存储能够由所述处理器执行的程序的存储器，在用于得到蚀刻形状的配方的搜索过程中，对过去的实验的结果数据进行分析，决定表示分...

本发明涉及一种测量装置，该测量装置使用在进行针对半导体制造装置的维护作业的空间中设置的3D传感器，来获取测量由作业人员进行的维护作业而得到的测量数据。测量装置包含：物体识别部（223），对从3D传感器获取到的原始数据的图像中包含的物体进...

本发明的目的在于，提供能够按每个区域推定晶片的温度并高精度地进行控制的技术。代表性的本发明的等离子处理装置之一具备：处理室，形成用于对处理对象的晶片进行处理的等离子；样品台，配置于处理室内，在上表面载置晶片；多个加热器，在覆盖样品台内部...

本发明提供一种自动培养装置以及使用了多个该自动培养装置的自动培养系统，该自动培养装置能够在打开了上门的状态下一边观察流路等一边操作操作部，且能够确认流路中的实际动作、显示部的显示，使用方便。该自动培养装置具备能够收纳至少一个细胞培养容器...

本发明提供蚀刻量的均匀性高且蚀刻处理的成品率提高的蚀刻技术。一种蚀刻方法，其对配置于晶片的表面的包含碳化钛的处理对象的膜层进行蚀刻，其中，包括：向膜层的表面供给包含氟、氧且不含氢的反应性的粒子而在该膜层的表面形成反应层的工序；以及对膜层...

本发明的自动分析系统(J)包括：多个自动分析装置(1a)，其分别设置在多个设施(S)中，并分析检体；输入部(3c)，其可由使用者输入规定期间；获取部(2a1)，其在规定期间内，从自动分析装置(1a)获取在自动分析装置(1a)中已处理的检...

致动器用传感器(248)通过致动器用传感器遮光部件(250)进入第一投光部与第一受光部之间而遮挡第一检测光，来检测致动器(243)是进行打开把持部件(241)、(242)的动作的状态、进行关闭动作的状态中的哪一个，把持部件用传感器(24...

提供一种能够高精度地测量重叠偏移量等的技术。在测量系统中，处理器取得通过显微镜对半导体器件的构造进行拍摄而得的图像(309)，取得与构造相关的测定区域生成规则(308)，根据图像和测定区域生成规则，生成用于对构造进行配置的测定区域，对图...

具有：多个检体容器支架(203)，其保持1个检体容器(201)；功能模块(3)，其进行与检体的分析相伴的处理；输送部(4)，其与功能模块(3)连接，将检体容器支架(203)中保持的检体容器(201)输送到功能模块(3)；以及控制部(2)...

本发明提供一种半导体处理装置，其校正因输送要处理的试样的输送机器人而产生的输送误差，实现高精度的试样输送。本公开的半导体处理装置在输送机构将试样载置在试样台上之前，使用传感器测量出的所述输送机构的角度或位置，计算所述试样从理想位置的位置...

已经开发出一种用于在低温使用雾/蒸气/等离子体进行无损和选择性各向同性刻蚀的新型循环刻蚀方法，即，类湿法原子层刻蚀(ALE)、或类湿法(等离子体) ALE、或纳米雾(等离子体) ALE，所述方法可以最大限度地减少由于等离子体ALE中的溅...

具有DA转换电路的装置(1)至少具有：处理器(10P)，其输出DA转换对象值；前级电路(10FNT)，其从处理器(10P)接收DA转换对象值，按照校正用数据进行校正并输出；主体电路(10BDY)，其包含1个以上的校正对象DA转换器元件，...