本发明提供一种分级装置，该分级装置即使在对例如锂离子电池的电极材料等附着性强的粉体进行分级的情况下，网也不会破损，并且能够在确保规定的生产率的基础上进行分级，因此采用了以下的结构。一种分级装置以及使用了该分级装置的粉体的分级方法，所述分...

本发明具有：第一清洗部（52），其从第一方向对检体分注探针（21）的前端放出第一清洗水；第二清洗部（54），其从隔着检体分注探针（21）而与第一方向对置的第二方向对检体分注探针（21）的前端放出第二清洗水，在检体分注探针（21）的前端，...

本发明的目的在于，提供能够考虑评价进展度来管理与制造配方开发相关的多个评价的进展的技术。本发明的进展管理系统之一的特征在于，由进展管理应用执行以下步骤：以全部评价结束的时间即评价结束时间或与各个评价的内容对应的应用的使用顺序为基础，来算...

为了提供一种即使在输送中容器成为异常姿势的情况下也不易发生容器堵塞的容器供给装置，做成以下的结构。一种容器供给装置，其中，容器输送部具有：环状带；区分部件，其设置于环状带，能够将管状容器一个一个地区分并载置；以及带旋转机构，其使环状带向...

为了提供能够以现实的装置尺寸对大量的粉体进行处理的异物除去方法以及异物除去装置，本发明采用以下结构。一种粉体处理装置，其具备：基板，其能够载置粉体；多个处理部，其对载置于所述基板的粉体进行处理；以及基板输送机构，其在所述多个处理部之间输...

本公开提供了一种自动分析装置，即使在容器与探针之间的静电容量过度变大的情况下，也能够检测出探测器的前端接触到液面的情况。用于分析检体的自动分析装置的特征在于，包括用于容纳液体的容器、用于吸引所述液体的探针、用于根据所述容器与所述探针之间...

本发明的目的在于，提供能够考虑感测数据的生成过程而对感测数据进行压缩并进行形状预测的技术。因此，本发明的搜索装置的特征在于，在对等离子体处理装置中的获得期望的蚀刻形状的配方进行搜索的搜索装置中，基于由等离子体处理装置蚀刻的试样的材料、构...

本发明提供不需要处理容器内的构件的涂层也能应对以蚀刻工艺为起因的异物的技术。本发明的半导体器件制造系统之一的特征在于：在具备安装有用于确定附着于由半导体制造装置处理的样品的异物的产生原因的应用的平台的半导体器件制造系统中，由应用执行如下...

本公开目的在于，提供能对具有产生图案变形的构造的截面图像测量变形前的图案的尺寸的手法。本发明的尺寸测量装置之一在于，在使用包含所蚀刻的图案的截面图像测量图案的所期望部位的尺寸的尺寸测量装置中，在图案与其他的图案接触的情况下，在将图案的接...

本发明为了提供即使持续进行高压条件下的送液也不易发生由放电引起的装置误动作的液相色谱仪，设计为以下的构成。一种液相色谱仪，其具有柱连接机构，柱连接机构具备设置柱的柱设置部以及流路移动机构，流路移动机构使分析流路相对于设置在柱设置部的柱移...

在本发明中，其目的在于，通过考虑与学习模型的输出对应的正解数据的分布，能够将偏差也包含在内地判定学习模型的输出，提高图像处理系统的可靠性。例如，具备：模型应用部，对低品质图像应用机器学习模型来生成推测高品质图像；评价值计算部，计算所述推...

本发明的目的在于提供一种能够促使用户针对警报采取符合检查设施的运用的处置方法的自动分析装置以及自动分析系统。因此，本发明所涉及的自动分析装置包括：分析动作部，该分析动作部进行样本的分析动作；显示部，该显示部显示所述分析动作部的分析结果；...

本发明提供一种提高半导体制造装置的处理室的内壁的清洁的生产率的技术。半导体制造装置的运转方法对配置于处理室内的晶片进行处理，其中，包括：在一个晶片的处理结束之后在处理室内配置另一个晶片的工序；以及，在另一个晶片配置于处理室内的状态下向处...

本发明公开一种能够提高用于带电粒子束装置的自动调整的机器学习模型的预测性能的训练数据的收集方法。将训练数据的收集开始点设为调整完成点或从调整完成点施加预定的偏移而得的点，一边从收集开始点向一个方向变更控制值一边取得拍摄数据，收集包含多个...

本发明提供一种就诊时刻预测系统，该就诊时刻预测系统预测对象患者的就诊呼叫时刻，包括：存储装置，该存储装置按照每次就诊存储并积蓄从受理到呼叫为止的多个工序的进展及与样本相关的实绩数据；处理装置，该处理装置基于所述实绩数据，运算所述对象患者...

在包含无机抗蚀剂的掩模图案的等离子体处理方法中，提供抑制所述掩模图案的薄膜化并且粗糙度小的图案。一种等离子体处理方法，降低通过EUV曝光的氧化锡的包含无机抗蚀剂的掩模图案的粗糙度，其中，包括如下工序：利用使用脉冲调制后的高频电力生成并且...

提供除害设备的运行成本变得最少的等离子处理装置。等离子处理装置具备：对样品进行等离子处理的处理室；供给用于生成等离子的高频电力的高频电源；载置样品的样品台；将来自处理室的废气分解的除害设备；和控制除害设备的控制装置。控制装置通过以使用蚀...

在将采用用于生成变换图像的学习模型生成的变换图像用于测量的情况下，将学习模型的参数最优化，使得能够改善尺寸度量。因此，参照图1，本公开提出一种参数最优化系统，其将用于根据输入图像生成变换图像的参数最优化，其具备：存储设备，其保持参数最优...

本公开提供一种等离子体处理方法，在将被绝缘膜包围且存在接缝的导电材料回蚀至规定的深度的等离子体处理方法中，能够构建蚀刻深度的均匀性优异且与周边材料的选择比高的工艺。一种等离子体处理方法，对被绝缘膜包围且产生了接缝的导电材料进行回蚀，其中...

本公开的目的在于提供一种能够通过向语言模型输入字符串，从该语言模型得到针对用于评价半导体设备的评价装置的指示的技术。本公开的方法通过对语言模型输入针对半导体设备的评价装置的指示，从所述语言模型接收记述了所述评价装置的动作规格的规格数据。...