本文的实施例大抵涉及抛光垫和形成抛光垫的方法。抛光垫包括多个抛光元件和设置在抛光元件之间的多个凹槽。每个抛光元件包括多个独立柱。每个柱包括形成抛光垫的抛光表面的一部分的独立表面，和从独立表面向下延伸的一个或多个侧壁。多个独立柱的侧壁限定...

一种在半导体工艺期间表征等离子体的方法可包括接收用于半导体工艺的操作条件，其中半导体工艺可被配置成在半导体处理系统的腔室内部产生等离子体。所述方法还可包括将用于半导体工艺的操作条件作为输入提供至模型，其中模型可以经训练以表征腔室中的等离...

描述一种半导体存储器器件及制造方法。半导体存储器器件包括存储器阵列，其包括至少一个漏极选择栅极(SGD)晶体管及至少一个存储器晶体管，该存储器阵列具有至少一个搭接区域及至少一个搭接接触件，搭接接触件将漏极选择栅极(SGD)晶体管连接至搭...

本公开内容的各方面整体上涉及底座、其部件以及将其用于衬底处理腔室的方法。在一个实现方式中，一种用于在衬底处理腔室中进行设置的底座包括主体。所述主体包括支撑表面。所述主体还包括从所述支撑表面向上突出的台阶状表面。所述台阶状表面围绕所述支撑...

一种化学机械抛光设备包括：平台；抛光垫，所述抛光垫被支撑在平台上；承载头，所述承载头用于抵靠抛光垫固持基板表面；电机，所述电机用于在平台与承载头之间产生相对运动，以便抛光基板上的上覆层；原位声学监测系统，所述原位声学监测系统包含从基板表...

路由器可包括接收从源传输到目的地的包的输入缓冲器、确定所述包的状态的状态生成器、及表示对应于可能状态的动作的权重的存储器。所述存储器可被配置为返回对应于包的状态的动作，其中所述动作可指示在源与目的地之间的路由中的下一跃点。路由器还可包括...

一种用于将材料施加到电子装置的方法及系统可包括生成装置的电磁(EM)图。EM图可指示从电子装置发射的EM辐射的位置。方法亦可包括生成电子装置的热图，该热图可指示从装置发射的热能的位置。方法亦可包括由EM热图生成屏蔽图。屏蔽图可包括用于控...

本文公开一种泵送衬垫，泵送衬垫具有被构造为接收处理气体的气体入口；与气体入口连通的开口，开口被构造为围绕基板支撑件并将处理气体引导到基板支撑件上。每个开口的至少一部分具有不同的尺寸。每个开口被构造为提供在目标气体质量流动速率的±5％以内...

公开了蚀刻碱金属化合物的方法。本公开内容的一些实施方式将碱金属化合物暴露于醇，以形成挥发性金属醇盐。本公开内容的一些实施方式将碱金属化合物暴露于β‑二酮，以形成挥发性碱金属β‑二酮酸盐化合物。在沉积工艺之后原位执行本公开内容的一些实施方...

用于降低半导体器件的界面电阻的方法利用双工作功能金属硅化物。在一些实施例中，方法可包含：在Epi表面上选择性地沉积金属硅化物层，以及在沉积期间调整金属硅化物层的金属与硅的比，以基于Epi表面为P型Epi表面还是N型Epi表面来改变金属硅...

清洁基板支座的方法包含：将清洁气体引入包含基板支座的处理腔室中；向远程等离子体源施加射频(RF)功率，远程等离子体源与处理腔室流体连通以从处理腔室中的清洁气体建立反应蚀刻等离子体；使基板支座上的沉积物与反应蚀刻等离子体反应以形成副产物相...

本公开内容提供一种用于在真空腔室内运输载体100的载体运输系统、一种用于载体运输系统的载体、一种载体的运输的方法、和一种用于基板的真空处理的设备。所述载体运输系统包括：轨道组件，所述轨道组件具有：第一被动磁单元A(410)，所述第一被动...

提供了一种用于产生氟气的装置和系统。该装置和系统可在使用点处原位产生氟气(F2)。可携式氟产生器包括稀释系统，该稀释系统设置在外壳内并且可操作以将包含氟的进料气体与惰性气体混合。该可携式氟产生器进一步包括等离子体反应器单元，该等离子体反...

示例性基板边缘抛光设备可包括定义基板支撑表面的夹盘主体。设备可包括搁置在夹盘主体上的边缘环。设备可包括从边缘环径向向外设置的保持壁。设备可包括从保持壁径向向内设置的浆料递送端口。设备可包括在夹盘主体上方可定位的圆柱形心轴。设备可包括与圆...

一种化学机械抛光设备包括平台、支撑在平台上的抛光垫、用以保持基板的表面抵靠抛光垫的抛光表面的承载头，及用以在平台与承载头之间生成相对运动以便抛光基板的上覆层的电机。抛光垫包括抛光层及背托层，所述抛光层为具有经液体填充的孔的固体基质材料。...

涂布半导体部件基板的示例性方法可包括将此半导体部件基板浸没在碱性电解质中。此碱性电解质可包括钇。此方法可包括在此半导体部件基板的表面处点燃等离子体持续小于或约12小时的时间段。此方法可包括在此半导体部件基板上形成含钇氧化物。此含钇氧化物...

提供了金属电极、更具体地含锂阳极、包括前述的含锂电极的诸如二次电池组的高性能电化学装置、及其制造方法，在一个实现方式中，提供了阳电极结构。阳电极结构包含：包含铜的集电器、在集电器上形成的锂金属膜、在锂金属膜上形成的铜膜、和在铜膜上形成的...

提供了一种用于为反应性沉积工艺、反应性沉积设备、及反应性沉积方法提供气体的蒸发系统。蒸发系统包括用于单侧或双侧连续辊到辊或分批涂覆卷材基板的多区扩散器组件。扩散器组件的大小经调节为容纳涂覆滚筒的至少一部分。扩散器组件包括用于朝向卷材基板...

一种为神经网络层的输出引起稀疏性的方法可包括：从神经网络层接收输出；将输出分割为多个分区；识别可以视为具有零值的多个分区中的第一分区；产生识别在多个分区中的剩余第二分区之间的第一分区的位置的编码；和将编码及第二分区发送到在神经网络中的后...

一种包括处理装置的系统及方法。处理装置接收包括等离子体处理的一个或多个等离子体暴露持续时间的数据。等离子体暴露持续时间与受控元件的集合相关联。处理装置促使受控元件的每个集合在第一操作模式与第二操作模式之间切换。受控元件的每个集合将基板的...