【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文描述的实施方式大体涉及用于产生氟的装置和方法，并且更特别地涉及用于在氟的使用点处产生氟的装置和方法。
技术介绍
1、在半导体制造工艺期间产生的流出物包括许多化合物，由于法规要求和环境与安全考虑，这些化合物在处置前得以减排或处理。在这些化合物中有f-气体和含卤素的化合物，这些化合物例如用于蚀刻或清洁工艺。
2、诸如cf4、c2f6、nf3和sf6的f-气体通常用于半导体和平板显示器制造行业，例如，用于介电层蚀刻和腔室清洁。在制造或清洁工艺之后，在从工艺工具泵送出的流出物气体流中通常有剩余含量的氟气体。f-气体难以从流出物的流中移除，并且因为已知f-气体具有相对较高的温室活性，所以氟气体释放至环境中是不期望的。诸如远程等离子体源(remoteplasma source；rps)或直列等离子体源(in-line plasma source；ips)的减排系统通常用于f-气体和其他全球变暖气体的减排。为了确保准确性，这些减排系统通常涉及利用氟气的校准。然而，原子和分子状态的氟具有高度的毒性和反应性。由于与氟使用相关联的危险，大部分制造者不愿意现场具有大的氟源。
3、因此，需要从接近氟的使用点的无毒性来源产生氟。
技术实现思路
1、本公开内容大体涉及用于产生氟的装置和方法，并且更特别地涉及用于在氟的使用点处产生氟的装置和方法。
2、在一方面中，提供了一种用于产生氟(f2)气的装置。该装置包括外壳，该外壳具有可操作以接收惰性气体的入口。该装置进一步包括来
3、实施方式可包括以下各项中的一或多者。该装置进一步包括适配器，该适配器可操作以将出气道流体耦接至分析设备。该装置为可携式的。可操作以供应包含氟的进料气体的来源设置在外壳内。该装置进一步包括压力控制机构，该压力控制机构可操作以抑制在出气道处的再化合。压力控制机构为真空泵，该真空泵可操作以维持在出气道处的压力。该装置进一步包括第一流量控制设备，该第一流量控制设备可操作以计量所需量的含氟进料气体。第一流量控制设备位于可操作以供应包含氟的进料气体的来源的下游和稀释系统的上游。该装置进一步包括第二流量控制设备，该第二流量控制设备可操作以计量所需量的惰性气体以与含氟进料气体混合。第二流量控制设备设置在稀释系统内。稀释系统位于等离子体反应器单元的上游。稀释系统位于等离子体反应器单元的下游。包含氟的进料气体为nf3并且惰性气体为n2。稀释系统包括阀，惰性气体与含氟进料气体在该阀处混合。惰性气体与含氟进料气体在稀释系统中在线内(inline)混合。
4、在另一方面中，提供了一种用于产生氟(f2)气的系统。该系统包括用于产生氟(f2)气的可携式拖车。该可携式拖车包括外壳和位于外壳内的可操作以供应含氟气体的来源。该系统进一步包括设置在外壳内的稀释系统，该稀释系统可操作以将包含氟的进料气体与惰性气体混合。该系统进一步包括设置在外壳内的等离子体反应器单元，该等离子体反应器单元可操作以从包含氟的进料气体分离氟(f2)。等离子体反应器单元包括可操作以接收包含氟的进料气体的第一进气道，和可操作以输送氟(f2)气的出气道，其中稀释系统位于等离子体反应器单元的上游。
5、实施方式可包括以下各项中的一或多者。该系统进一步包括与外壳流体耦接的惰性气体源，该惰性气体源可操作以输送惰性气体至稀释系统。含氟进料气体选自nf3、cf4、sf6、c2f6、c3f8或上述气体的组合。惰性气体选自氮气(n2)和氩气。系统进一步包括适配器，该适配器可操作以将出气道流体耦接至分析设备。来源可操作以供应包含氟的进料气体并且设置在外壳内。该系统进一步包括压力控制机构，该压力控制机构可操作以抑制在出气道处的再化合。压力控制机构为真空泵，该真空泵可操作以维持在出气道处的压力。系统进一步包括第一流量控制设备，该第一流量控制设备可操作以计量所需量的含氟进料气体。第一流量控制设备位于可操作以供应包含氟的进料气体的来源的下游和稀释系统的上游。该系统进一步包括第二流量控制设备，该第二流量控制设备可操作以计量所需量的惰性气体以与含氟进料气体混合。第二流量控制设备设置在稀释系统内。稀释系统位于等离子体反应器单元的上游。稀释系统位于等离子体反应器单元的下游。包含氟的进料气体为nf3并且惰性气体为n2。稀释系统包括阀，惰性气体与含氟进料气体在该阀处混合。惰性气体和含氟的进料气体在稀释系统中在线内混合。
6、在又一方面中，提供了一种用于产生氟气(f2)的方法。该方法包括将含氟气体提供至氟产生器模块中。该氟产生器模块包括稀释系统和等离子体反应器单元。该方法进一步包括使用由等离子体反应器单元形成的等离子体将含氟进料气体解离为反应产物。该反应产物包括氟气。该方法进一步包括在稀释系统中将含氟的进料气体或氟气与氮气混合。该方法进一步包括用氟气来校准分析设备。
7、实施方式可包括以下各项中的一或多者。含氟进料气体选自nf3、cf4、sf6、c2f6、c3f8或上述气体的组合。反应产物进一步包含氮气。稀释系统被设置在外壳内，并且可操作以将包含氟的进料气体与惰性气体混合。等离子体反应器单元被设置在外壳内，并且可操作以从含氟进料气体分离氟(f2)。等离子体反应器单元具有可操作以接收包含氟的进料气体的第一进气道，以及可操作以输送氟气的出气道。外壳进一步包括适配器，该适配器可操作以将出气道流体耦接至分析设备。氟产生器为可携式的。可操作以供应包含氟的进料气体的来源设置在外壳内。氟产生器进一步包括压力控制机构，该压力控制机构可操作以抑制在出气道处的再化合。压力控制机构为真空泵，该真空泵可操作以维持在出气道处的压力。氟产生器进一步包括第一流量控制设备，该第一流量控制设备可操作以计量所需量的含氟进料气体。第一流量控制设备位于可操作以供应包含氟的进料气体的来源的下游和稀释系统的上游。氟产生器进一步包括第二流量控制设备，该第二流量控制设备可操作以计量所需量的惰性气体以与含氟进料气体混合。第二流量控制设备设置在稀释系统内。稀释系统位于等离子体反应器单元的上游。稀释系统位于等离子体反应器单元的下游。包含氟的进料气体为nf3并且惰性气体为n2。稀释系统包括阀，惰性气体与含氟进料气体在该阀处混合。惰性气体和含氟的进料气体在稀释系统中在线内混合。
8、在另一方面中，一种非瞬态计算机可读介质具有储存于其上的指令，这些指令当由处理器执行时，使得该过程执行上述装置和/或方法的操作。
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1.一种用于产生氟(F2)气的装置，包括：
2.如权利要求1所述的装置，进一步包括适配器，所述适配器能操作以将所述出气道流体耦接至分析设备。
3.如权利要求1所述的装置，其中所述装置为可携式的。
4.如权利要求1所述的装置，其中能操作以供应所述含氟进料气体的所述来源设置在所述外壳内。
5.如权利要求1所述的装置，其中所述装置进一步包括压力控制机构，所述压力控制机构能操作以抑制在所述出气道处的再化合。
6.如权利要求5所述的装置，其中所述压力控制机构为真空泵，所述真空泵能操作以维持在所述出气道处的压力。
7.如权利要求1所述的装置，进一步包括第一流量控制设备，所述第一流量控制设备能操作以计量所需量的所述含氟进料气体，所述第一流量控制设备位于能操作以供应所述含氟进料气体的所述来源的下游和所述稀释系统的上游。
8.如权利要求7所述的装置，进一步包括第二流量控制设备，所述第二流量控制设备能操作以计量所需量的惰性气体以与所述含氟进料气体混合，所述第二流量控制设备设置在所述稀释系统内。
9.如权利
10.如权利要求1所述的装置，其中所述稀释系统位于所述等离子体反应器单元的下游。
11.如权利要求1所述的装置，其中所述含氟进料气体为NF3并且所述惰性气体为N2。
12.如权利要求1所述的装置，其中所述稀释系统包括阀，所述惰性气体与所述含氟进料气体在所述阀处混合。
13.如权利要求1所述的装置，其中所述惰性气体和所述含氟进料气体在所述稀释系统中在线内混合。
14.一种用于产生氟(F2)气的系统，包括：
15.如权利要求14所述的系统，进一步包括与所述外壳流体耦接的惰性气体源，所述惰性气体源能操作以将所述惰性气体输送至所述稀释系统。
16.如权利要求15所述的系统，其中所述含氟进料气体选自NF3、CF4、SF6、C2F6、C3F8或上述气体的组合。
17.如权利要求16所述的系统，其中所述惰性气体选自氮气(N2)和氩气。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于产生氟(f2)气的装置，包括：
2.如权利要求1所述的装置，进一步包括适配器，所述适配器能操作以将所述出气道流体耦接至分析设备。
3.如权利要求1所述的装置，其中所述装置为可携式的。
4.如权利要求1所述的装置，其中能操作以供应所述含氟进料气体的所述来源设置在所述外壳内。
5.如权利要求1所述的装置，其中所述装置进一步包括压力控制机构，所述压力控制机构能操作以抑制在所述出气道处的再化合。
6.如权利要求5所述的装置，其中所述压力控制机构为真空泵，所述真空泵能操作以维持在所述出气道处的压力。
7.如权利要求1所述的装置，进一步包括第一流量控制设备，所述第一流量控制设备能操作以计量所需量的所述含氟进料气体，所述第一流量控制设备位于能操作以供应所述含氟进料气体的所述来源的下游和所述稀释系统的上游。
8.如权利要求7所述的装置，进一步包括第二流量控制设备，所述第二流量控制设备能操作以计量所需量的惰性气体以与所述含氟进料气体混合，所述第二流量控制设...
【专利技术属性】
技术研发人员：约瑟夫·A·范戈佩尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：
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