一种制造抛光垫的方法，包括确定待引入所述抛光垫的抛光层的聚合物基质内的期望空隙分布。生成电子控制信号，所述电子控制信号配置为由三维打印机所读取，且所述电子控制信号指定待沉积聚合物基质前驱物的位置，以及指定无材料待沉积的期望空隙分布的位置...

一种监控系统及其操作方法包括：提供基板于平台上；执行扫描基板；沉积材料层于基板上；监控材料层的沉积厚度；及基于沉积厚度的误差产生警报。

本公开的实施例使用反射测量实现膜属性(诸如厚度)的测量，而不考虑在基板或基层上的下层图案，因为生长的膜在任何波长上所造成的相移的量与所述基板或所述基层无关。所述方法的一个实施例包括从时间序列数据确定所述基板的属性。所述方法的另一个实施例...

本文所述的实施例涉及用于显示基板的处理的掩模腔室装置。所述掩模腔室可以是配置成用于制造OLED器件的较大的处理系统的部分。所述掩模腔室可配置成对在处理系统中的诸沉积工艺期间所利用的掩模加热和冷却。所述掩模腔室可以包括腔室体，所述腔室体限...

通过以下步骤在不存在氧化剂的情况下沉积含硅和氧的膜，诸如二氧化硅膜：将硅氧烷前体引入等离子体处理腔室中并且例如通过将所述硅氧烷前体暴露于低能等离子体来离解所述硅氧烷前体的Si‑H键中的至少一些。可以在不氧化易氧化的表面的情况下，在所述易...

本文所描述的是针对在电极(例如Li金属、LiCoO2、WO3、NiO等)上沉积LiPON、或其它的锂离子传导性电解质、薄膜的，用于改良薄膜电化学器件(例如薄膜电池和电致变色器件)的制造的方法和设备。一种在沉积系统中制造电化学器件的方法可...

提供一种用于溅射沉积设备的电极组件(120；200；300；400；700；800；900)。这种电极组件包括组件元件(210；310；410；710；810；910)，用于提供将沉积的材料和固持可旋转靶材中的至少一者；磁铁系统(230...

本发明的实施例总体上涉及用于在基板上形成可流动含碳膜的方法。在一个实施例中，含氧气体流入远程等离子体区域内以产生含氧等离子体流出物，并且在含有该基板的基板处理区域中使含碳气体与该含氧等离子体流出物结合。含碳膜被形成在形成在该基板上的沟槽...

本发明提供种用于从基板移除挥发性残余物的设备。在实施例中，种用于从基板移除含卤素的残余物的设备包括适于操作以维持腔室内的真空的腔室及经定位以加热安置于该腔室中的基板的热模块。用于从基板移除含卤素的残余物的该设备亦包括以下至少者：A)温度...

提供一种用于腔室部件上的纹理化表面的方法，并且所述方法包括：提供腔室部件；将光刻胶层施加至所述腔室部件的表面；使用掩模来将所述光刻胶的一部分暴露于光能，以便固化所述光刻胶的一部分；将未固化的光刻胶从所述表面上移除；和对所述腔室部件进行电...

本发明揭露一种用于蒸发材料及用于将所述材料沉积于基板上的沉积装置，所述材料包括碱金属或碱土金属。沉积装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置为用于使材料液化，其中第一腔室包括气体入口，所述气体入口被配置为用于使气体进入第一腔室；蒸发区域，...

一种静电夹盘包括：介电盘，具有支撑基板的支撑表面以及相对的第二表面，其中至少一个夹持电极设置于所述介电盘内；射频(RF)偏压板，设置在所述介电盘下方；多个灯，设置在所述射频偏压板下方以加热所述介电盘；金属板，设置在这些灯下方以吸收由这些...

一种等离子体源包括：等离子体容器，所述等离子体容器包括电介质材料，所述等离子体容器围封环形形状的空腔。所述环形形状界定贯穿该环形形状的环形轴。所述容器形成输入和输出连接装置，输入和输出连接装置中的每一个与空腔流体地连通。一个或更多个金属...

制造包含锂金属电极的电化学装置的方法可包含：提供基板，在所述基板表面上具有锂金属电极；沉积第一电介质材料层至锂金属电极上，且沉积第一电介质材料层是在氩环境中溅射Li3PO4；在沉积第一电介质材料层后，在第一电介质材料层上方诱发及维持氮等...

本文提供用于基板处理腔室的靶材组件的实施方式。在一些实施方式中，靶材组件包括：板，所述板包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面；靶材，所述靶材设置于所述中央部分上；多个凹槽，所述多个凹槽形成于所述支撑部分中；及多个垫，所述多个垫部分地设置...

提供了一种用于基座的方法和装置。在一个实施例中，所述基座包括：包含陶瓷材料并且具有凸缘的主体；嵌入在主体中的一或多个加热元件；耦接到凸缘的第一轴；以及耦接到第一轴的第二轴；其中第二轴包括在所述第二轴中形成的多个流体通道，所述流体通道在所...

本文揭示的实施方式涉及用于减少处理期间，比如半导体制造处理期间，产生的氮氧化物(NOx)的方法和设备。处理系统可包括消减控制器和流出物消减系统，其中消减控制器控制流出物消减系统以减少NOx产生，同时确保来自处理系统的流出物气体的消减。流...

一种被配置成从基板的表面和从基板处理腔室的内部移除金属蚀刻副产物的设备。等离子体与固态光源(诸如LED)结合使用以脱附金属蚀刻副产物。接着可从腔室移除被脱附的副产物。

本发明提供一种包括设置于物理气相沉积腔室中的双极准直器的设备和使用所述设备的方法。在一个实施方式中，设备包括腔室主体和设置在腔室主体上的腔室盖从而界定处理区于内、设置于处理区中的准直器及耦接至准直器的电源。

一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤：确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层，所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分...