在一个方面，控制抛光的方法包括以下步骤：在抛光第一基板之前接收来自直联式或单机监测系统的对第一基板上的导电膜的初始厚度的测量；在抛光系统中抛光一个或更多个基板，所述一个或多个基板包括第一基板；在抛光所述一个或更多个基板的期间，利用涡电流...

提供一种EUV光刻系统及其制造方法，该EUV光刻系统包括：EUV光源；夹盘，其为热传导及平滑的且具有预定夹盘平坦度的表面；及反射透镜系统，其用于在夹盘表面之上引导来自EUV光源的EUV光线。

本公开内容的实施方式大致关于一种用于在热处理腔室中使用的反射体。在一个实施方式中，所述热处理腔室大致包含上圆顶；下圆顶，所述下圆顶与上圆顶相对，上圆顶及下圆顶界定处理腔室的内部空间；基板支撑件，所述基板支撑件设置在内部空间内；以及反射体...

本发明的实施方式大体涉及RTP腔室。该腔室通常包括腔室主体和腔室盖。该腔室主体包括基板支撑件，该基板支撑件具有多个电阻式加热器区域，以加热定位在该基板支撑件上的基板。该腔室主体视情况也包括冷却通道和热绝缘衬里，冷却通道用于缓和热应力，热...

本发明的实施方式提供用于堆叠的材料的氮化作用的改良设备与方法。在一个实施方式中，远程等离子体系统包括远程等离子体腔室、处理腔室与输送构件，远程等离子体腔室界定第一区，第一区用于产生包括离子与游离基团的等离子体，处理腔室界定第二区，第二区...

描述了一种用于热处理腔室的支撑构件。所述支撑构件于至少一个表面上具有溶胶涂层。所述溶胶涂层含有阻挡预期波长或光谱的辐射的材料，使得所述辐射无法透过所述支撑构件的材料。所述溶胶涂层可为多层结构，除了辐射阻挡层以外，所述多层结构可还包含粘接...

本发明实施方式提供用于在设置在处理腔室中的大尺寸基板上沉积含氮材料的方法。在一个实施方式中，所述方法包括：在处理腔室中处理一批基板，以在出自所述一批基板的基板上沉积含氮材料；以及在处理所述一批基板期间以预定间隔执行陈化处理，以在设置在所...

本文所述的实施例涉及形成气隙互连的方法。将金属间隔垫层共形地沉积在其上形成有心轴结构的基板上。蚀刻金属间隔垫层以形成间隔垫特征并从基板移除心轴结构。可执行多种其他电介质沉积、图案化与蚀刻步骤以期望地图案化基板上存在的材料。最终，在相邻的...

一种被配置成从基板的表面和从基板处理腔室的内部移除金属蚀刻副产物的设备。等离子体与固态光源(诸如LED)结合使用以脱附金属蚀刻副产物。接着可从腔室移除被脱附的副产物。

揭示根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的多射束图案产生器及相关方法。图案产生器可在具有光刻胶的基板上写入图案，光刻胶对写入射束敏感。当写入射束在写入像素位置写入图案的至少一部分时，可于各写入周期写入图案。图案产生器的射束致动...

本发明的实施方式涉及利用主动对准在柔性基板上进行无掩模光刻的设备和方法。在一个实施方式中，一种光刻设备包括圆柱形滚轴，所述圆柱形滚轴可绕着中心轴旋转并且配置成在圆柱形基板支撑表面上传送柔性基板。多个印刷单元的每一者包括图像感测装置和图像...

本实用新型涉及用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置。在一实施方式中，一种装置包括处理腔室，所述处理腔室包括：基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；热源，所述热源嵌入在所述基板支撑件中，配置用于将定位在所述基板支撑表面上的...

本文所述实施方式一般地涉及沉积生物功能化材料的方法，诸如制造生物医用器件。方法可包括将基板置于基板支撑件上，基板具有多个井形成于基板内。将印刷掩模置于基板上方，印刷掩模具有多个掩模开口，多个掩模开口对应多个井。接着经由印刷掩模沉积生物功...

增材制造系统包含：工作台；供给材料分配装置，该供给材料分配装置经构造以输送供给材料至该工作台上；激光源，该激光源经构造以在使用该增材制造系统期间产生激光束；控制器，该控制器经构造以引导该激光束至工作台上电脑辅助设计程序所规定的位置处以造...

一种增材制造系统，该增材制造系统包括：工作台；馈给材料输送系统，该馈给材料输送系统经构造以将馈给材料输送至工作台上由电脑辅助设计程序所指定的位置；及热源，该热源经构造以跨整个层或跨工作台的宽度延伸的区域同时升高馈给材料的温度并跨工作台的...

本发明的实施例提供非均匀基板抛光设备，所述基板抛光设备包括具有两个或更多个区的抛光垫，每一个区经适配以将不同的浆料化学品施加至基板上的不同区以在基板上产生具有至少两个不同膜厚度的膜厚度分布。还提供经适配以抛光基板的抛光方法和系统，如同众...

描述一种处理腔室。所述处理腔室包含具有内部体积的腔室、耦接至腔室的光管阵列以及辐射热源，所述光管阵列包括壁构件，壁构件界定腔室的内部体积的边界，其中光管阵列包含多个光管结构，辐射热源包括与所述多个光管结构中的每一个光学通讯的多个能量源。

本公开内容的实施方式提供用于在基板上形成外延层的方法及装置。将基板暴露于脉冲激光辐射以清洁、退火，和/或活化基板的表面。然后在自限制沉积工艺中将基板暴露于沉积前驱物。可再次将基板暴露于脉冲激光辐射，然后在第二自限制沉积工艺中将基板暴露于...

本实用新型一般涉及一种溅镀靶材组件。锌被用于金属氧化物半导体材料，如IGZO、氧化锌和氮氧化锌。所述锌可通过在期望气氛下溅镀锌靶材来传递。如果使用纯锌溅镀靶材，那么除非使迁移率(mobility)减至10cm2/V-s以下，否则无法生产...

描述了一种用于触摸面板的层堆叠(100；200)。所述层堆叠包括：基板(110；210)，包括用于在基板上沉积一个或更多个层的聚合物；图案化的透明导电氧化物(TCO)层(160；260)，提供在所述基板(110；210)上方，所述图案化...