一种静电夹盘组件包括定位盘与冷却板。定位盘包括电性绝缘的上定位盘板，上定位盘板包括一个或更多个加热元件以及一个或更多个电极，以用于静电地固定基板，且定位盘进一步包括下定位盘板，下定位盘板通过金属接合而接合至上定位盘板，下定位盘板包括多个...

本文公开了用于沉积纳米晶金刚石层的方法。该方法可以包括以下步骤：输送溅镀气体到基板，该基板被定位在第一处理腔室的处理区域中，该第一处理腔室具有含碳溅镀靶材；输送能量脉冲到该溅镀气体，以产生溅镀等离子体，该溅镀等离子体具有溅镀持续时间，该...

所公开的技术用于在处理腔室中提高击穿电压、同时在超过约300摄氏度的温度下大幅减少静电夹盘的电压泄漏的方法和设备。

描述了一种用于处理基板的处理设备。处理设备包括：处理腔室，所述处理腔室用于在柔性基板上沉积材料；卷绕腔室，所述卷绕腔室用于引导柔性基板进入和离开处理腔室；低温冷却器；和低温表面，所述低温表面被连接到低温冷却器，其中低温表面包括位于处理腔...

本文公开的实施方式描述一种衬垫组件，该衬垫组件包括多个单独分开的气体通路。该衬垫组件提供跨正受处理的基板上的流动参数的控制，这些参数诸如流速、密度、方向与空间位置。利用根据本实施方式的衬垫组件，跨正受处理的基板的工艺气体可特定地经调整以...

本发明的实施方式提供包含注射插件的衬垫组件。所述注射插件使得跨过正在被处理的基板的流动参数的可维持性变为可能，例如速度、密度、方向和空间位置。根据本发明的实施方式，跨过正在被处理的基板的处理气体可被特定地定制用于使用衬垫组件的个别处理。

本文所公开的实施方式包括一种用于处理系统的控制器，该控制器用于减轻处理系统中所产生的排放物的危险性。

本公开内容提供了电镀处理器。本公开内容提供了供电镀处理器中使用的搅拌桨。电镀装置搅动电解质以在晶片的表面处提供高速流体流。所述装置包括搅拌桨，所述搅拌桨在整个晶片上提供均匀的高质量传递，甚至在搅拌桨与晶片之间具有相对较大间隙的情况下也如...

描述了一种配置成用于将工艺气体供应到蒸发器源中的气体注入器单元。所述蒸发器源包括间隔开的坩埚以用于处理基板，其中在所述坩埚之间设有间距。所述气体注入器单元包括：气体注入器外壳，所述气体注入器外壳包括温度调整单元；气体引导管，所述气体引导...

本公开的实施例提供了一种用于在高温下维持在等离子体反应器中处理的基板的平坦度的静电卡盘。在一个实施例中，所述静电卡盘包括：耦接到支撑杆的卡盘主体，所述卡盘主体具有基板支撑表面，并且所述卡盘主体在约250℃至约700℃的温度下具有约1×1...

本文描述一种处理基板的方法。所述方法包括将基板定位于阶台上，阶台与无掩模直写图案产生器相关联。基板具有形成于其上的未显影、未曝光的光刻胶层。光刻胶层具有多个写入像素位置。所述方法包括将预定用量的电磁能从图案产生器传送至每个写入像素位置。...

本公开内容的实施方式关于用于清洁排气管的远程等离子体源。在一个实施方式中，设备包含基板处理腔室；被定位用以抽空基板处理腔室的泵；以及减排系统。减排系统包括定位在基板处理腔室和泵之间的等离子体气体传送系统，该气体传送系统具有与基板处理腔室...

本文中提供了多基板热管理设备的实施例。在一些实施例中，多基板热管理设备包括：多个板，所述多个板竖直地布置在彼此上方；多个通道，所述多个通道延伸穿过所述多个板中的每一个；供应歧管，所述供应歧管包括供应通道，所述供应通道在第一位置耦接到所述...

本公开涉及了一种具有多个流体输送区的喷淋头组件。所述喷淋头组件包括：面板，所述面板被配置成将工艺气体输送到限定在所述喷淋头组件与所述基板支撑件之间的处理区域；以及底板，所述底板被定位在所述面板上方，在所述盖与所述底板之间限定第一气室，所...

通过入口接收气体。气体的部分供应至静电夹盘。气体的部分通过压缩器再循环。增加气体的第二部分的压力。将气体的第二部分储存在气体储存器中。

一种用于均匀等离子体处理的喷嘴包括入口部及出口部。该入口部具有基本上平行于垂直轴的侧表面。该入口部包括多个气体通道。该出口部被耦接到该入口部。该出口部包括多个出口。所述出口中的至少一个相对于该垂直轴成非直角的角度。

本文中公开了用于使用固体二氧化碳(CO2)颗粒流清洁陶瓷制品的系统和方法。方法包括使液体CO2流入喷嘴，以及从喷嘴向陶瓷制品引导第一固体CO2颗粒流达第一历时时长，以清洁陶瓷制品。液体CO2在离开喷嘴时转变为第一固体CO2颗粒流。第一固...

本文提供在标靶生命期的期间维持低非均匀性的改良方法和设备的实施方式。在一些实施方式中，一种在物理气相沉积腔室中处理基板的方法包括：配置基板在基板支座顶上，所述基板支座具有围绕所述基板支座的盖环，使得所述基板的上表面被定位在所述盖环的上表...

本发明实施例提供用于屏蔽性和反射性光学偏振器的系统、设备与方法。该偏振器包括光学反射且导电的线的细线阵列；及光学反射且导电的线的粗栅格。细线阵列与粗栅格彼此电耦接且耦接至接地终端。公开了多个额外的方面。

提供了一种用于将掩模夹持至基板的处理系统。所述处理系统包括工艺腔室以及设置在所述工艺腔室中的磁性夹持件。所述磁性夹持件包括夹持表面、一个或多个旋转机构以及多个磁体，所述多个磁体相对于夹持表面在一个或多个海尔贝克阵列中取向。每一个磁体都具...