提供装置的实施例，所述装置具有改良的线圈天线组件，所述改良的线圈天线组件有远程等离子体源与电子束生成系统，可在处理腔室提供增强的等离子体。一个实施例中，一种等离子体处理腔室包括：腔室主体、盖、衬底支撑件、双电感耦合源、以及远程等离子体源...

一种用于测量组件的检测元件，测量组件适于测量在基板上的已蒸发的材料的沉积速率。检测元件包括：振荡晶体，用于检测沉积速率；以及阻挡物层，包括阻挡材料，阻挡材料覆盖振荡晶体的至少一部分，并且被构造以防止已蒸发的材料扩散到振荡晶体中。

描述一种用于测量已蒸发的材料的沉积速率的测量组件(100)。测量组件(100)包括：振荡晶体(110)，用于测量沉积速率；测量出口(150)，用于将已蒸发的材料提供到振荡晶体(110)；以及磁性关闭机构(160)，被配置为用于通过磁力而...

描述了用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板的载体(100；320)。所述载体包括：基板支撑部分(110)，用于支撑一个或多个待处理基板，基板支撑部分(110)包括至少一个拐角(111)；和框架(120)，基本上围绕基板支撑部分(1...

一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括...

阴影掩模(200)，包含由金属材料制成的框架(210)，和耦接至所述框架(210)的一个或多个掩模图案(205)，所述一个或多个掩模图案(205)包括金属材料(所述金属材料具有小于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数)并且具有形成在...

一种设备包括工作台和覆盖工作台的分配系统。分配系统包括粉末源。分配系统进一步包括在工作台的顶表面上方延伸的粉末运输机、沿着粉末运输机的纵向轴线共轴地布置的环、和沿着管的长度延伸的盖板。粉末运输机经构造以从粉末源接收粉末。粉末运输机经构造...

一种用于增材制造系统的模块包括：框架，经构造以可移除地安装在可移动支撑件上；分配器，经构造以在与框架分开的工作台上输送颗粒层或在工作台上输送下伏层；热源，经构造以将颗粒层加热到低于颗粒熔融的温度的温度；和能量源，经构造以熔融颗粒。分配器...

一种增材制造系统包括：工作台，具有用于支撑正在制造的物体的顶表面；支撑件，可沿着竖直轴线移动；致动器，用于沿着竖直轴线移动支撑件；分配器，用于在工作台上方输送多个连续的供给材料层；能量源，经构造以熔融供给材料的至少一部分；和控制器。分配...

一种增材制造系统包括：工作台，具有顶表面以用于支撑要制造的物体；支撑结构；致动器，耦接至工作台或支撑结构中的至少一者以形成在这两者之间的沿着平行于顶表面的第一轴线的相对运动；多个打印头，安装在支撑结构上；以及能量源。每个打印头包括分配器...

一种用于形成物体的设备包括：平台；和分配系统，覆于平台上方，用于分配连续的粉末层。连续的层包括支撑层和在支撑层上的物体层。所述设备进一步包括能量源，用于熔融粉末。控制器经构造以致使能量源熔融支撑层中的每一个的支撑区域以形成零件支撑基座。...

一种用于形成物体的设备包括平台，平台用于支撑物体。平台包括第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板包括第一孔洞，第二支撑板布置在第一支撑板之下并且包括第二孔洞。第二支撑板可相对于第一支撑板在对准构型与不对准构型之间移动。所述设备进一步包括分配...

本公开内容涉及基板处理装置。本文提供用于处理基板的方法和装置。在一个实施方式中，装置包括耦接至传送腔室的装载锁定腔室。传送腔室耦接至热处理腔室，并且基板在装载锁定腔室、传送腔室和热处理腔室中的各个之间传送。在其他实施方式中，公开具有装载...

描述了在热应力方面是平衡的、具有触点的基板载体。在一个示例中，工件载体具有：刚性基板，所述刚性基板被配置用于支撑待承载进行处理的工件；在所述基板之上的第一介电层；在所述第一介电层之上的静电导电电极，所述静电导电电极用于静电保持待承载的工...

描述一种用于测量沉积在大面积基板上的材料层的性质的装置。所述装置包括：控制器；基板运输布置，所述基板运输布置与控制器通信以确定基板的位置和/或速度；至少三个源的阵列，所述至少三个源的阵列被配置成用于在基板的表面上沉积第一材料层，其中至少...

本实用新型公开了一种清洁系统。本公开内容的实施方式大体上涉及清洁基板，尤其是，涉及用于清洁工艺的终点检测的方法和装置。所述装置包括外部清洁槽、衬里和耦接至所述衬里的循环系统。所述循环系统包括用于将颗粒从流体中移除的过滤器。液体颗粒计数器...

本实用新型总体涉及图像投影装置及系统，图像投影装置包括倾斜反射镜和受抑立方体形组件以及数字微镜器件。受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边...

一种传输线RF施加器装置和用于将RF功率耦接至等离子体腔室中的等离子体的方法。装置包括内导体和一个或两个外导体。所述一个或两个外导体的每个外导体的主要部分包括多个孔，所述多个孔在外导体的内表面和外表面之间延伸。

本公开涉及处理腔室。所述处理腔室包括腔室主体、基板支撑组件和喷淋头组件。所述喷淋头组件包括：面板，所述面板具有第一侧和第二侧，所述第二侧面向所述喷淋头组件，所述面板具有多个孔隙，所述多个孔隙被配置成将工艺气体从所述第一侧输送到所述第二侧...

本公开的实施例一般涉及一种用于形成介电膜堆栈的改进方法，该介电膜堆栈用于3D NAND结构中的层间电介质(ILD)层。在一个实施例中，该方法包括提供具有栅堆栈沉积于其上的基板，使用第一RF功率及第一处理气体在该栅堆栈的暴露表面上形成第一...