化学机械研磨设备包括平台以支撑研磨垫，及原位(in‑situ)声学发射监控系统，该原位声学发射监控系统包括由该平台支撑的声学发射传感器、经配置以延伸穿过研磨垫的至少一部分的波导，及用以接收来自声学发射传感器的信号的处理器。原位声学发射监...

本文中的实施方式提供监测流体输送管道和其他部件的温度的方法和与所述方法相关的监测系统，所述流体输送管道用于将流体输送到在电子装置制造中使用的处理腔室的处理空间，所述其他部件在处理腔室的处理空间外部。在一个实施方式中，一种监测处理系统的方...

描述一种用于真空溅射沉积的设备(100)。所述设备包括：真空腔室(110)；真空腔室(110)内的三个或更多个溅射阴极，用于在基板(200)上溅射材料；气体分配系统(130)，用于向真空腔室(110)提供包括H

本文公开了一种衬底支撑组件，所述衬底支撑组件具有沿着所述衬底支撑组件的侧表面设置在所述衬底支撑组件中的接地电极网。所述衬底支撑组件具有主体。所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的...

可以执行处理方法，以在半导体基板上形成空气间隙间隔件。所述方法可以包括以下步骤：形成间隔件结构，间隔件结构包括第一材料和与第一材料不同的第二材料。所述方法可以包括以下步骤：形成源/漏结构。源/漏结构可以通过至少一种其他材料从间隔件结构的...

本发明提供用于在基板的化学机械平坦化(CMP)期间监控和控制跨研磨垫表面的研磨流体添加剂的相对浓度以及/或研磨流体和/或研磨流体添加剂的分布的方法和设备。在一个实施例中，一种用于研磨基板的方法，包括：将研磨流体输送到研磨垫的研磨表面上的...

提供了一种制备药物组合物的方法，所述药物组合物具有由一种或多种金属氧化物材料包裹的含药核心。所述方法包括以下顺序步骤：(a)将包含药物的颗粒装入反应器，(b)将蒸汽态或气态金属前体施加至所述反应器中的所述颗粒，(c)使用惰性气体执行所述...

本公开的各方面包括处理基板的方法。所述方法包括将共形层沉积在包含接缝的基板上。在存在氧化剂时使用高压退火来处理所述基板。

在此所述的实施方式涉及光学器件制作的方法及材料。在一个实施方式中，提供一种制作光学器件的方法。方法包括在基板上沉积介电膜，在介电膜上沉积润湿层，及在润湿层上沉积含金属膜。在另一实施方式中，提供一种光学器件。器件包括基板，沉积在基板上且接...

描述一种用于涂覆基板(10、10b)的沉积设备(100、101)。所述沉积设备包括：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供所述柔性基板(10)的存储卷筒(112)；沉积腔室(120)，布置在所述第一卷筒腔室(110)的下游；和第二卷筒腔室...

增材制造设备具有：平台；一个或多个支撑件，定位于平台上方；致动器，耦接到平台和一个或多个支撑件中的至少一者，并且经配置以在平台与支撑件之间产生相对运动，使得一个或多个支撑件扫描整个平台；第一分配器系统，经配置以将多个连续的粉末层分配到由...

一种产生矩阵以将化学机械抛光系统的多个可控制参数与抛光速率分布相关的方法包括抛光测试基板。使用将第一参数设置为第一值的基线参数值，来针对第一时间段抛光测试基板，并且使用将第一参数设置为修改的第二值的第一修改参数值，来针对第二时间段抛光测...

本文描述了电子装置处理系统，包括工厂接口的环境控制、载体净化腔室，和一个或多个基板载体。一个电子装置处理系统具有工厂接口，工厂接口具有工厂接口腔室、耦合至工厂接口的一个或多个基板载体、和环境控制系统；所述环境控制系统耦合至所述工厂接口、...

本文涉及处理基板的方法。本文揭示的实施例通常涉及形成氧化硅膜的方法。此方法可包括在具有末端羟基的基板的表面上执行硅烷化。接着使用等离子体与H

本公开内容的实施方式大体涉及一种改良的基板支撑基座组件。在一个实施方式中，基板支撑基座组件包括轴。基板支撑基座组件进一步包括基板支撑基座，所述基板支撑基座机械耦接至轴。基板支撑基座包括基板支撑板，所述基板支撑板以陶瓷材料涂布于顶表面。

确定基板是否被适当抛光的方法包含：获得基板的图像；获得图像的亮度平面的强度值；从亮度平面的强度值产生强度直方图；以及分析强度直方图，以确定强度直方图是否满足一个或更多个标准。

本文描述的实施方式涉及使用嵌入在抛光垫的抛光材料中的一个或多个传感器来检测抛光终点的方法、抛光垫和形成抛光垫的方法。在一个实施方式中，抛光基板的方法包括以下步骤：对着抛光垫的抛光表面(抛光垫具有嵌入在抛光垫的抛光垫材料中的一个或多个传感...

本文的实施例提供使用可流动化学气相沉积(FCVD)工艺沉积的氮化硅层的基于自由基的处理。该FCVD沉积的氮化硅层的基于自由基的处理期望地增加层中稳定的Si‑N键的数目，从该层移除不期望的氢杂质，且期望地提供所得的氮化硅层中的进一步交联、...

一种位于真空环境中的磁浮系统，及一种在真空环境中非接触式地运输载体的方法。系统包含：在正方向上可非接触式地移动的载体；至少一磁性轴承，被构造为在与重力相反的保持方向上对载体施加磁力，并将载体非接触式地保持于轴承处；以及作用于载体上的减振...

描述了一种用于将蒸发材料沉积到基板(101)上的沉积设备(100)。沉积设备包括：沉积源(110)，所述沉积源(110)用于提供蒸发材料；材料沉积区(111)，所述材料沉积区(111)提供在所述沉积源(110)和所述基板(101)之间；...