用于光学器件增强的润湿层制造技术

在此所述的实施方式涉及光学器件制作的方法及材料。在一个实施方式中，提供一种制作光学器件的方法。方法包括在基板上沉积介电膜，在介电膜上沉积润湿层，及在润湿层上沉积含金属膜。在另一实施方式中，提供一种光学器件。器件包括基板，沉积在基板上且接触基板的介电膜，沉积在介电膜上且接触介电膜的润湿层，和沉积在润湿层上且接触润湿层的含金属膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光学器件增强的润湿层
本公开内容的实施方式一般地涉及用于光学器件制作的材料及方法。
技术介绍
诸如透镜或类似器件的光学器件建构成展现某些合乎需要的特性。光学器件特性的实例包括光反射性及光透射性。例如具有沉积于其上的涂布材料的透镜之类的传统光学器件可足够用于某些应用。然而，诸如在先进成像及半导体应用中利用的那些先进光学器件在传统涂布下常常无法按预期执行。此外，即使诸如利用介电及金属膜的交替层的那些先进光学器件亦可能无法适当地执行，此归因于用以形成先进光学器件的材料的固有特性。举例而言，具有以交替方式布置的薄的介电及金属膜的光学器件可能遭受从电介质分层金属，或在电介质之上不完全覆盖的金属。尽管可利用较厚金属膜达成在介电膜之上金属的改良聚结，但通常直到金属膜为数十纳米的厚度才达成金属的完全聚结，这样常对先进光学器件应用而言太厚。因此，本领域中需要用于光学器件的改良的方法及材料。
技术实现思路
在一个实施方式中，提供一种制作光学器件的方法。方法包括在基板上沉积含氧化物介电膜，在介电膜上沉积润湿层且润湿层与介电膜接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作光学器件的方法，包含以下步骤：/n加热基板；/n在所述基板上沉积介电膜，所述介电膜由含氧化物材料形成；/n在所述介电膜上沉积润湿层，且所述润湿层与所述介电膜接触；和/n在所述润湿层上沉积含金属膜，且所述含金属膜与所述润湿层接触，所述含金属膜由反射金属材料形成，所述反射金属材料包含以下一或多种材料：铝、银及金。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180129 US 62/623,382;20180214 US 62/630,591;20181.一种制作光学器件的方法，包含以下步骤：
加热基板；
在所述基板上沉积介电膜，所述介电膜由含氧化物材料形成；
在所述介电膜上沉积润湿层，且所述润湿层与所述介电膜接触；和
在所述润湿层上沉积含金属膜，且所述含金属膜与所述润湿层接触，所述含金属膜由反射金属材料形成，所述反射金属材料包含以下一或多种材料：铝、银及金。


2.如权利要求1所述的方法，其中所述含氧化物材料为二氧化钛。


3.如权利要求1所述的方法，其中所述介电膜为多层堆叠。


4.如权利要求1所述的方法，其中所述润湿层包含半导体材料。


5.如权利要求1所述的方法，其中所述润湿层包含金属材料。


6.如权利要求1所述的方法，进一步包含以下步骤：
在所述基板上沉积所述介电膜之前，蚀刻所述基板的表面。


7.如权利要求1所述的方法，其中所述介电膜、所述润湿层或所述含金属膜中的一或多个由物理气相沉积工艺沉积。


8.一种制作光学器件的方法，包含以下步骤：
将基板传送至处理腔室中；
通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：卡尔·J·阿姆斯特朗，傅晋欣，威尔逊·班茨，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US