描述了一种用于蒸发源的温度控制遮蔽件。温度控制遮蔽件被配置成提供预加热区或后冷却区。却区。却区。

提供了一种用于训练机器学习模型来预测正在制造系统处被处理的当前基板的计量测量结果的方法。产生用于该机器学习模型的训练资料。产生第一训练输入，该第一训练输入包括关联于在该制造系统处被先前处理的先前基板的表面的历史光谱数据和/或历史非光谱数...

本文描述的实施方式涉及用于控制衍射效率和方向性的波导耦出器光栅的梯度密封。装置包括形成在基板之上的第一光栅，第一光栅具有远离基板延伸的复数个第一结构，第一光栅对应于耦出器。装置包括设置在相邻第一结构之间所形成的一个或多个间隙中的第一密封...

一种将多状态存储器元件设定为至少一个低功率状态的方法可以包括以下步骤：接收使存储器元件过渡到三个或更多个状态中的一个状态中的命令；向所述存储器元件施加第一信号以使所述存储器元件过渡到所述三个或更多个状态中的所述一个状态中，其中所述三个或...

描述一个安装在加热样品腔室内的石英晶体微天平(QCM)装置。样品腔室的温度维持成比前驱物容器的温度高约10℃至约30℃。样品腔室连接到前驱物输送管线，并包括高温阀和与高温阀前流(foreline)的流路，以允许去除多余的材料。QCM装置...

本公开内容的实施方式涉及用于基板处理的设备、系统和方法。可拆卸的基板支撑件设置在处理腔室的处理空间内，并且该基板支撑件包括基板界面表面和背表面。基座毂具有可移除地耦接至基板支撑件的支撑表面。基座毂的毂空间包括设置在其中的温度测量组件，温...

一种含有经金属氧化物涂布的颗粒的医药组成物，该医药组成物包含1)含有活性医药成分(API)和聚合物的非晶固体分散体(ASD)芯；和2)金属氧化物涂层，和通过原子层沉积(ALD)制成该经金属氧化物涂布的颗粒的方法。经金属氧化物涂布的颗粒是...

本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在...

于此公开的示例通常涉及用于检测流体中的颗粒的尺寸的系统和方法。在一个示例中，一种用于使颗粒成像的系统包括第一成像装置。第一成像装置包括透镜和数字检测器。系统进一步包括激光源。氦激光源配置为发射第一激光束和第二激光束。数字检测器配置为累积...

提供了使用机器学习来检测及校正基板处理漂移的方法及系统。将与根据处理配方在制造系统中处理第一组基板中的每一个基板相关联的数据作为输入提供至经训练的机器学习模型。从经训练的机器学习模型中获得一个或多个输出。根据一个或多个输出，确定第一组基...

一种检测器盘包括盘主体，盘主体具有底盘和顶盖，顶盖包括第一孔。传感器设置在盘主体内部并定位成经由顶盖中的第一孔而暴露于外部环境。固态传感器适于检测化学气体污染物的水平并基于化学气体污染物的检测的水平输出检测信号。微控制器设置在PCB上并...

本公开内容描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括用于支撑待涂覆的基板的基板支撑件；具有多个喷嘴的蒸气源，用于通过蒸气传播空间将蒸气引导朝向基板支撑件；和从蒸气源向基板支撑件延伸的可加热屏蔽物。可加热屏蔽物至少部分地围绕蒸气传播空间，并...

公开了用于清洁及包封微型发光二极管特征结构的方法。一些实施方式提供湿式清洁处理与干式清洁处理来从微型发光二极管特征结构移除污染物。一些实施方式提供干净微型发光二极管特征结构的包封。一些实施方式提供微型发光二极管特征结构与覆盖层的改善的结...

本文的实施方式涉及可用于在CMP系统部件上提供疏水表面的化学浸渍施加器和相关的施加方法。在一个实施方式中，一种在抛光系统部件的表面上形成疏水涂层的方法包括清洁抛光系统部件的表面以从其移除抛光流体残留物并且将导致疏水性的化学溶液施加到抛光...

锂离子电池可包含正电极、负电极以及涂覆有锂金属薄膜的分隔件，所述锂的厚度小于或等于足以补偿在电池的第一循环期间锂的不可逆损失的厚度。此外，在分隔件上可存在介于分隔件与锂金属薄膜之间的陶瓷层。此外，在陶瓷层与锂金属薄膜之间可存在阻挡层，其...

半导体处理的示范性方法可包括：将含硼前驱物提供至半导体处理腔室的处理区域。基板可设置在半导体处理腔室的处理区域内。这些方法可包括：将含碳前驱物提供至该半导体处理腔室的该处理区域。该含碳前驱物可特征在于碳

一种用于基板处理的方法及设备以及包括移送腔室组件及多个处理组件的群集工具。移送腔室组件及处理组件可包括用于ALD、CVD、PVD、蚀刻、清洁、注入、加热、退火、及/或抛光工艺的处理平台。处理腔室容积使用其上设置有基板的支撑卡盘密封隔开移...

一种方法包括识别用于在基板处理系统的处理腔室中的基板上沉积多个层的配方。该配方包括一组处理的迭代。每个迭代用于沉积至少一层。该方法进一步包括确定用以造成层的均匀性的迭代调整。每一个迭代调整对应于相应迭代。该方法进一步包括确定用以造成各层...

一种减少基板处理腔室中的反射射频(RF)功率的方法可包括存取处理腔室的输入参数，输入参数自配方导出以在基板上执行工艺。可将输入参数提供至模型，已使用该腔室的先前输入参数及对应的传感器测量值训练该模型。可自模型接收预测的反射RF功率量，且...

本文中所提供的本公开的实施例包括用于在处理腔室中对基板进行等离子体处理的装置和方法。更具体地，本公开的实施例描述一种偏置机制，所述偏置机制被配置成将从RF发生器射频(RF)产生的RF波形提供至处理腔室内的一个或多个电极，且将从一个或多个...