本发明公开的一种多工位单片抛光机，包括抛光机台以及设置在抛光机台顶部的多个抛光工位；任一抛光工位顶部设置有摆动机构与下抛盘，下抛盘设置在摆动机构下方；抛光工位顶部设置有水槽，水槽设置在摆动机构一侧；摆动机构一端配合连接有分段加压抛盘；抛...

本实用新型公开了一种多头式抛光机设备，包括抛光盘单元、抛光头单元和驱动单元，所述抛光盘单元用于承载料件；所述抛光头单元的数量设置有两个，每个所述抛光头单元均包括至少两个抛光头件，其中四个所述抛光头件以所述抛光盘单元的中心为基点呈环形阵列...

本实用新型公开了一种作用于料件的抛光机，包括上抛组件、下抛组件以及驱动组件，所述上抛组件包括两个独立自转的上抛头，其中驱动组件与所述上抛组件传动连接，以推动两个所述上抛头在第一平面内相近或相反移动；所述下抛组件包括独立自转的下抛盘，所述...

本发明公开了一种双工位减薄方法，包括以下步骤：在第一工位处，对料件进行抓取并进行第一次清洗；在第二工位处，首先在Y轴的负方向上对第一次清洗后的料件进行抓取，旋转，并在Y轴的正方向上对料件进行输送以实现对料件的第一次减薄；抓取，旋转，并在...

本发明公开了一种双工位减薄机，包括：减薄单元，所述减薄单元包括第一减薄本体件和第二减薄本体件，所述第一减薄本体件和第二减薄本体件关于Y轴对称设置；沿Y轴设置且位于所述减薄单元左侧的第一搬运单元，所述第一搬运单元包括三坐标式搬运导轨件、第...

本实用新型公开了一种用于晶元搬运的联动式取放手臂机构及系统，该机构包括安装件、驱动件、第一取手臂件和第二取手臂件；所述第一取手臂件包括第一本体、第一传送带和第一连接件，所述第一连接件的第一端锁紧在第一传送带上、第二端锁紧在第一本体上，使...

本实用新型公开了一种用于晶元的贴合装置及系统，该装置包括承载单元、吸附单元和弹性压紧单元，所述承载单元用于支撑晶元；所述吸附单元包括多个吸附件、用于固定吸附件的安装件，多个所述吸附件能够吸附晶元并将晶元压紧在所述承载单元上，所述安装件的...

本实用新型公开了一种非接触式移动测量设备及系统，用于料件厚度测量，该料件包括第一本体和第二本体，该设备包括测量单元和多驱单元，所述测量单元包括光源件和光谱仪，所述光源件能够朝向料件表面发射入射光线，所述入射光线在作用于第一本体表面被反射...

本实用新型公开一种压附装置的第三承载台，用于承载预贴有背面滴蜡的晶片的承载工件，其包括：上盘、下盘、第三加热机构和冷却机构，所述上盘和所述下盘上下对应设置，所述上盘的正面用于承托所述承载工件，所述上盘的背面用于与所述下盘的正面相抵接，所...

本实用新型公开一种压附装置，用于将背面滴蜡的晶片压附在承载工件上。其包括：第三承载台和设置在所述第三承载台上方的压机模组，所述第三承载台用于承载预贴有所述晶片的所述承载工件，所述压机模组用于对所述承载工件上的所述晶片进行加压，所述第三承...

本实用新型公开了一种加热系统，包括载具单元、加热单元及夹持单元，所述载具单元的数量设置有两个，每个所述载具单元均能够对料件进行承载；所述加热单元包括第一加热件和第二加热件；所述第一加热件能够对位于第一预设位置且未承载有料件的所述载具单元...

本实用新型公开了一种自动上料工作台，包括安装平台、承载单元、移载单元及驱动单元；每个所述承载单元均能够承载料件；所述移载单元包括固定件和滑动件，所述固定件设置在所述安装平台上，所述滑动件设置在所述固定件上；所述驱动单元包括丝杆件和辅助驱...

本实用新型公开了一种单轴气缸压片组合装置，包括承载单元、多个下压单元，所述承载单元用于承载多个镀蜡的料件；所述下压单元与料件一一对应设置，所述下压单元能够挤压料件；所述下压单元包括驱动部、调节部及压头部，所述调节部用于连接驱动部和压头部...

本实用新型公开了一种用于料件的加工系统，包括用于料件的贴蜡机构、转移机构及分离机构，所述分离机构包括承载单元、铲片单元、驱动单元以及导向单元，所述承载单元能够在驱动单元的作用下由水平面转动至倾斜平面后与所述铲片单元对应设置；所述承载单元...

本实用新型公开了一种全自动单面减薄系统，包括多轴机械手、承载单元及减薄单元，所述承载单元与所述多轴机械手对应设置；所述减薄单元的数量至少设置有两个，两个所述减薄单元与所述多轴机械手对应设置；每个所述减薄单元均包括砂轮件、与所述砂轮件对应...

本发明公开了一种用于晶元搬运的联动式取放手臂机构及系统，该机构包括安装件、驱动件、第一取手臂件和第二取手臂件；所述第一取手臂件包括第一本体、第一传送带和第一连接件，所述第一连接件的第一端锁紧在第一传送带上、第二端锁紧在第一本体上，使得所...

本实用新型公开了一种用于料件的支撑转移机构，包括支撑单元、驱动单元以及铲片单元；所述支撑单元包括支撑基座、用于支撑料件的支撑平台，所述支撑平台设置在所述支撑基座上且位于第一平面内；所述驱动单元能够与所述支撑基座驱动连接，以驱动所述支撑基...

本发明公开了一种用于晶元的贴合方法，该晶元包括边缘部和本体部，该方法包括以下步骤；采用真空吸附方式将多个晶元依次转移至承载治具上；每个晶元在被转移至承载治具上均包括定位步骤和压紧步骤：所述定位步骤包括：对晶元的边缘部施加朝向所述承载治具...

本实用新型公开了一种研磨装置，包括：主轴；抛盘，其包括与主轴连接的连接部和设在连接部背离主轴一端的研磨部，连接部沿主轴的轴线方向上设有相互连通的第一内腔和第二内腔，第一内腔贯通连接部背离研磨部的一端，第二内腔贯通连接部朝向研磨部的一端，...

本实用新型公开了一种自动抛光装置，其用于对陶瓷盘上的多个晶片进行抛光，其包括：多个旋转台，任一所述旋转台用于带动位于其上的所述陶瓷盘转动；多个抛光单元，一个所述抛光单元位于一个所述旋转台的上方以对所述陶瓷盘内的所述晶片进行抛光；进料台，...