盛吉盛韩国半导体科技有限公司专利技术

盛吉盛韩国半导体科技有限公司共有32项专利

  • 本发明涉及气体喷射器及具有该气体喷射器的基板处理装置,该基板处理装置用的气体喷射器用于向执行基板处理工艺的工艺腔室提供工艺气体,其包括:气体供应管,形成有沿上下方向的通道,且下端设置有吐出口;气体注入口,用于注入工艺气体,以在所述气体供...
  • 本发明提供一种基板处理装置,即使因第一供气管和第二供气管的尺寸和组装公差带来的流动阻力的偏差,导致第一供气管和第二供气管中提供的工艺气体的单位时间供给量互相不同,也能够通过将从配置于工艺腔室下部的一个气体供给源延伸的第一垂直供应管和第二...
  • 本发明涉及一种基板处理装置的供气结构体,在具有与从气体供给源沿上下方向延伸的供应管道连通的上方通道;以及与连接到各工艺腔室的移送管道连通的分支通道的分配体的分支位置上,利用密封状态的旋转轴旋转调节板来设定旋转位置,并利用机械工具进行固定...
  • 本发明的基板处理装置包括:工艺腔室,其内部设置有内部空间;喷淋头,其用于向所述内部空间提供工艺气体;基板支撑台,其可上下移动地设置,且在所述内部空间执行基板的处理工艺期间将所述基板搁置于支撑面;RF电力施加部,其用于向等离子体电极施加R...
  • 本发明提供一种基板处理装置的腔室支撑结构以及基板处理装置,所述腔室支撑结构包括:第一尺寸的通孔,设置于所述基板处理装置的机架;支撑柱,其一侧插通所述通孔与所述机架结合,另一侧与所述基板处理装置的腔室结合,所述支撑柱插通到所述通孔中的部分...
  • 本技术提供一种CVD系统的输气管道,包括CVD系统的腔体内的输气管道,在所述输气管道的外壁一周设置有加热构件。采用本技术能够使工艺气体在腔体内输气管道中输送时,保持气体状态,不会液化。
  • 本发明涉及基板处理装置,其包括:处理室,其内部形成有内部空间;基座,其用于在所述内部空间放置基板;喷淋头,其从放置于所述基座的基板的上侧供给工艺气体;抽气通道,其在所述处理室的侧面以连续的环状凹陷形成,并通过抽气孔与所述内部空间连通地形...
  • 本发明涉及一种基板处理装置的气体歧管,提供一种基板处理装置的气体歧管,其用于从供气源向进行基板处理工艺的工艺腔室提供工艺气体,包括:金属材料的供给配管,其从所述供气源沿上下方向延伸至分配体;金属材料的流入配管,其与所述工艺腔室连接,用于...
  • 本发明涉及基板处理装置。本发明提供一种基板处理装置,其包括:第一工艺腔室,其用于执行基板的第一处理工艺;第二工艺腔室,其用于执行基板的第二处理工艺;共同排出通道,其用于排出从所述第一工艺腔室排出的第一工艺气体和从所述第二工艺腔室排出的第...
  • 本发明涉及基板处理装置,其包括:处理室,其内部形成有内部空间;基座,其用于在所述内部空间放置基板,并与所述处理室的侧面隔开布置;喷淋头,其从放置于所述基座的基板的上侧供给工艺气体;抽气通道,其以沿着所述处理室的底面的周围连续的环状,在所...
  • 本实用新型提供一种喷淋头定位冶具及喷淋头单元,包括:第一固定件和第二固定件;在喷淋头单元盖板与嵌入喷淋头单元盖板的安装槽内的射频绝缘体之间设置有第一定位孔;在喷淋头单元盖板的外部边缘的上方设置有第二定位孔;第一固定件包括第一竖直插接体,...
  • 本实用新型提供一种种腔室定心工装,包括腔室卡件
  • 本实用新型提供一种电子装置,包括被动件以及通过传动轴与被动件连接的驱动件;其中,在传动轴上设置有限位驱动件的限位环和限位件;传动轴的一端与被动件连接,传动轴的另一端穿过驱动件并通过限位件锁定在驱动件上;限位环位于限位件与驱动件之间,并用...
  • 本实用新型提供一种晶圆处理设备机柜,属于沉积技术领域,包括两个以上的处理柜体,相邻的处理柜体之间形成维修拐角;在处理柜体上设置有至少一个安装箱;在安装箱上设置有箱体切角,箱体切角位于维修拐角中
  • 本实用新型提供一种CVD设备的箱体结构,包括下部框架,在所述下部框架的上方架设有电气箱体,工艺装置位于所述下部框架和所述电气箱体之间,在所述工艺装置的操作侧设置有遮挡所述工艺装置的前门;控制所述工艺装置工作的电气元件位于所述电气箱体中。...
  • 本实用新型提供一种框架门固定装置及化学气相沉积设备,其中的装置包括框架门固定装置,其特征在于,包括设置在框架门的门板中部位置的把手以及与把手连接的上限位杆和下限位杆;其中,在框架门的门框上设置有与上限位杆位置对应的上限位孔,以及与下限位...
  • 本实用新型提供一种框架的水平脚装置及框架,包括:固定孔、固定脚、固定杆和高度调节机构;在框架的两侧的底部均设置有固定孔;在固定脚的内部竖直设置有插接孔,在固定脚的顶部固设有固定环,固定环的环孔与插接孔的位置对应;固定杆的顶端插接在固定孔...
  • 本实用新型提供一种密封壳体装置及化学气相沉积设备,其中的密封壳体装置包括壳体的框架部以及活动连接在框架部上的盖体部;其中,在框架部与盖体部的结合处设置有限位凸台,在盖体部上设置有与限位凸台相适配的避让缺口;在避让缺口与限位凸台相贴合的侧...
  • 本实用新型提供一种罩体定位装置,包括设置在罩体之外的定位支架和定位销,在所述罩体的侧壁外表面设置有定位孔;所述罩体开启后,所述定位销被支撑在所述定位支架上,并穿入所述定位孔内。本实用新型位于罩体的外部,便于操作,提高了工作效率。提高了工...
  • 本实用新型提供一种框架门固定装置,包括:固定在门框上的定位结构以及固定在门板上的限位结构;其中,当门板打开至预设位置时,限位结构运动至与定位结构位置对应,定位结构与限位结构配合限位,以对打开后的门板进行位置固定。利用上述实用新型能够简化...