一种1,4‑环己烷二羧酸衍生物的制造方法，其具备如下工序：通过将1,4‑环己烷二羧酸的氨水溶液进行加热浓缩，使1,4‑环己烷二羧酸衍生物以晶体的形式析出。

本发明提供一种即使在高温环境下使用也能够维持透明性并且能够防止黄色着色所导致的外观变差的下述的聚酯树脂组合物。该聚酯树脂组合物包含：含有下述通式(1)所示的单元(A)的聚酯树脂；和抗氧化剂。(在所述通式(1)中，R

聚酰亚胺树脂、及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B，其中，构成单元A包含源自下述式(a‑1)所示化合物的构成单元(A‑1)、和源自下述式(a‑2)所示化合...

本发明的聚酰亚胺树脂为具有源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B的聚酰亚胺树脂，构成单元A包含源自式(a‑1)所示化合物的构成单元(A‑1)、构成单元B包含构成单元(B‑1)，所述构成单元(B‑1)为选自由源自式(b‑1‑1)...

本发明提供通过在抑制了金属催化剂的析出的状态下进行氰基化反应从而能够省略氰基化反应工序后的催化剂的过滤工序的、新的二氰基烷烃的制造方法。根据本发明的一个方案，提供一种方法，其为二氰基烷烃的制造方法，其包括使选自由脂肪族二羧酸及其盐组成的...

一种钻孔用盖板，其具有：金属箔、和该金属箔上的至少单面所形成的树脂组合物层，该树脂组合物层的剪切储能模量满足下述式(i)、(ii)所示的关系。‑3.0≤△G’≤‑1.0…(i)4.5×10

本发明提供抑制了对IGZO的损伤的蚀刻液。本发明的蚀刻液的特征在于，其含有：羟基乙烷二膦酸(A)、膦酸(B)、过氧化氢(C)、硝酸(D)、氟化合物(E)、唑(F)及碱(G)，前述膦酸(B)含有选自由二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、N,N,N’...

本发明的聚酰亚胺树脂为具有源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B的聚酰亚胺树脂，构成单元A包含源自式(a‑1)所示化合物的构成单元(A‑1)、和源自式(a‑2)所示化合物的构成单元(A‑2)，构成单元B包含源自式(b‑1)所示...

本发明提供一种具有适当的折射率和阿贝数、并且耐热性、全光线透射率和色相总体上优异的聚碳酸酯及其成型体。该聚碳酸酯包含式[I]所示的结构单元和具有含环状结构的烃基的结构单元，式[I]中，R

一种环己烷二羧酸类的制造方法，其具备如下工序：使氨水溶液中的苯二甲酸类在反应器中、在固定床催化剂的存在下与氢接触，从而得到环己烷二羧酸类或环己烷二羧酸类氨水溶液。

根据本发明，可以提供如下清洗液，其含有：胺化合物(A)0.2～20质量％、水溶性有机溶剂(B)40～70质量％及水，前述胺化合物(A)含有选自由正丁胺、己胺、辛胺、1,4‑丁二胺、二丁胺、3‑氨基‑1‑丙醇、N,N‑二乙基‑1,3‑二氨...

根据本发明，可以提供1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷的制造方法，其依次具备A工序、B工序和C工序。A工序：在具有水层和有机层的多层体系中，用相转移催化剂使三硫代碳酸盐、硫和二卤代甲烷进行反应的工序B工序：分离水层和有机层的工序C工序：使...

本发明提供通式(1)所示的二元醇的制造方法，其包括：在使通式(2)所示的1,4－环己二酮衍生物与通式(3)所示的三元醇进行脱水环化反应而制造通式(1)所示的二元醇时，以水为溶剂进行反应的步骤，通式(1)中，R

下述式(0)所示的化合物。(上述式(0)中，R

依照本发明，能够提供一种含有Li

根据本发明，可以提供一种芳香族腈的制造方法，该方法使用包括多个反应管的固定床反应器使包含芳香族烃、氨和氧的混合气体在催化剂上进行催化反应来制造对应的芳香族腈，前述催化剂由包含钒、铬和硼的氧化物、以及选自氧化铝、二氧化硅氧化铝、氧化锆和二...

本发明涉及在半导体集成电路的制造工序中抑制氧化铝的损伤的同时、能够将存在于半导体集成电路的表面的干蚀刻残渣去除的组合物、以及具有氧化铝的半导体基板的清洗方法、进而具有氧化铝层的半导体基板的制造方法。本发明的组合物的特征在于，其含有钡化合...

本发明实现一种表面反射率低、热成型性优异并且耐划伤性也良好的作为叠层体的防反射膜等。上述课题通过如下的防反射膜得以解决，该防反射膜具有含有热塑性树脂的基材层、和叠层于基材层的至少一个表面上的折射率低于基材层的折射率的低折射率层，低折射率...

本发明提供一种可形成无色透明性及光学各向同性优异、且弹性模量低的薄膜的聚酰亚胺树脂，涉及聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜，聚酰亚胺树脂中，源自四羧酸二酐的构成单元A包含源自式(a‑1)所示化合物的构成单元...

本发明涉及式(I)的三芳基甲烷化合物，其适合作为制备具有有益的光学性质的热塑性树脂的单体并且可用于制备光学器件。R