聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜制造技术

技术编号:26348228 阅读:43 留言:0更新日期:2020-11-13 21:44
本发明专利技术的聚酰亚胺树脂为具有源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B的聚酰亚胺树脂,构成单元A包含源自式(a‑1)所示化合物的构成单元(A‑1)、构成单元B包含构成单元(B‑1),所述构成单元(B‑1)为选自由源自式(b‑1‑1)所示化合物的构成单元(B‑1‑1)、源自式(b‑1‑2)所示化合物的构成单元(B‑1‑2)、及源自式(b‑1‑3)所示化合物的构成单元(B‑1‑3)组成的组中的至少1种,树脂中不存在环己烷环。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜
本专利技术涉及聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
技术介绍
正在对聚酰亚胺树脂在电气/电子部件等领域中各种各样的利用进行研究。例如,以装置的轻量化、柔性化为目的,期望将液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板替换为塑料基板,正对适合作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜进行研究。像这样的用途的聚酰亚胺薄膜要求无色透明性。液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中,使用薄膜晶体管(TFT)作为像素切换元件。结晶性优异的多晶硅(polysilicone)与非晶硅相比,电子迁移率高,因此TFT特性大幅提高。作为形成多晶硅膜的方法的1种,有准分子激光·退火(ELA)法。该方法中的非晶硅的脱氢化工艺为高温工艺。因此,为了在塑料基板上形成多晶硅膜,塑料基板要求高耐热性(即,高的玻璃化转变温度)。进而,高温状态下,有由基板材料自身挥发的有机化合物(排气)会对元件造成严重不良影响的担心。因此,塑料基板还要求用于到尽可能高的温度区域为止可抑制排气产生的高的热稳定性。进而,光通过相位差薄膜、偏光板时(本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺树脂,其具有:源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B,/n其中,构成单元A包含源自下述式(a-1)所示化合物的构成单元(A-1),/n构成单元B包含构成单元(B-1),所述构成单元(B-1)为选自由源自下述式(b-1-1)所示化合物的构成单元(B-1-1)、源自下述式(b-1-2)所示化合物的构成单元(B-1-2)、及源自下述式(b-1-3)所示化合物的构成单元(B-1-3)组成的组中的至少1种,/n并且树脂中不存在环己烷环,/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180328 JP 2018-0623181.一种聚酰亚胺树脂,其具有:源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B,
其中,构成单元A包含源自下述式(a-1)所示化合物的构成单元(A-1),
构成单元B包含构成单元(B-1),所述构成单元(B-1)为选自由源自下述式(b-1-1)所示化合物的构成单元(B-1-1)、源自下述式(b-1-2)所示化合物的构成单元(B-1-2)、及源自下述式(b-1-3)所示化合物的构成单元(B-1-3)组成的组中的至少1种,
并且树脂中不存在环己烷环,



式(b-1-1)中,R分别独立地为氢原子、氟原子或甲基。


2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元A中的构成单元(A-1)的比率为40摩尔%以上。


3.根据权利要求1或2所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元B中的构成单元(B-1)的比率为50摩尔%以上。


4.根据权利要求1~3中任一项所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元(B-1)为构成单元(B-1-1)。


5.根据权利要求1~3中任一项所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元(B-1)为构成单元(B-1-2)。


6.根据权利要求1~3中任一项所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元(B-1)为构成单元(B-1-3)。


7.根据权利要求1~3及6中任一项所述的聚酰亚胺树脂,其中,构成单元(B-1-3)为选自由源自下述式(b-1-31)所示化合物的构成单元(B-1-31)及源自下述式(b-1-32)所示化合物的构成单...

【专利技术属性】
技术研发人员:安孙子洋平关口慎司末永修也
申请(专利权)人:三菱瓦斯化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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