聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜制造技术

聚酰亚胺树脂、及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B，其中，构成单元A包含源自下述式(a‑1)所示化合物的构成单元(A‑1)、和源自下述式(a‑2)所示化合物的构成单元(A‑2)；构成单元B包含源自下述式(b‑1)所示化合物的构成单元(B‑1)；且构成单元A不包含源自下述式(a‑x)所示化合物的构成单元(A‑X)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜
本专利技术涉及聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
技术介绍
通常，聚酰亚胺树脂具有优异的机械特性及耐热性，因此正在对其在电气/电子部件等领域中各种各样的利用进行研究。例如，以设备的轻量化、柔性化为目的，期望将液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板替换为塑料基板，正对适合作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜进行研究。这样用途的聚酰亚胺薄膜要求无色透明性。将玻璃支承体、硅晶圆上涂布的清漆加热固化而形成聚酰亚胺薄膜时，聚酰亚胺薄膜中产生残留应力。聚酰亚胺薄膜的残留应力大时，有玻璃支承体、硅晶圆会发生翘曲的问题，因此聚酰亚胺薄膜还要求残留应力的降低。专利文献1中，作为提供低残留应力的薄膜的聚酰亚胺树脂，公开了一种使用4,4’-氧双苯二甲酸二酐作为四羧酸成分、使用数均分子量1000的α,ω-氨基丙基聚二甲基硅氧烷及4,4’-二氨基二苯醚作为二胺成分而合成的聚酰亚胺树脂。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-232383号公报...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B，/n构成单元A包含：源自下述式(a-1)所示化合物的构成单元(A-1)、和源自下述式(a-2)所示化合物的构成单元(A-2)，/n构成单元B包含源自下述式(b-1)所示化合物的构成单元(B-1)，/n构成单元A不包含源自下述式(a-x)所示化合物的构成单元(A-X)，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180410 JP 2018-0755081.一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的构成单元A及源自二胺的构成单元B，
构成单元A包含：源自下述式(a-1)所示化合物的构成单元(A-1)、和源自下述式(a-2)所示化合物的构成单元(A-2)，
构成单元B包含源自下述式(b-1)所示化合物的构成单元(B-1)，
构成单元A不包含源自下述式(a-x)所示化合物的构成单元(A-X)，





2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：安孙子洋平，关口慎司，末永修也，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP