三菱瓦斯化学株式会社专利技术

三菱瓦斯化学株式会社共有2084项专利

  • 本发明的目的在于提供生物芯片用基体、生物芯片、生物芯片的制造方法及其保存方法。本发明涉及生物芯片及其制造方法,该生物芯片具有基体和被固定化物质的点,所述基体具有亲水性的反应区域,所述被固定化物质的点包含配置于上述反应区域的生物物质,上述...
  • 本发明提供一种聚酯的制造方法,该聚酯至少含有3-羟基丁酸酯单元作为聚合单元,高分子量,并且分子量分布窄(即,Mw/Mn小)。上述聚酯的制造方法包括将微生物在含有碳源和氮源的培养液中培养的步骤,上述聚酯是重均分子量为100万以上且至少含有...
  • 本发明提供一种破坏强度高、断裂伸长率高的高分子量体的含有4-羟基丁酸酯单元的聚羟基脂肪酸酯。该聚酯的通过凝胶渗透色谱分析测得的以聚苯乙烯换算的重均分子量为125万以上,作为聚合单元至少含有3-羟基丁酸酯单元和4-羟基丁酸酯单元,4-羟基...
  • 一种环氧树脂,其通过使表卤代醇与利用酚类使芳香族烃甲醛树脂改性而成的酚类改性芳香族烃甲醛树脂发生反应而得到,其在25℃下具有30000mPa·s以下的粘度。
  • 提供一种二氰基环己烷的制造方法,其具备如下工序:使环己烷二羧酸和/或其盐、或者环己烷二羧酸氨水溶液的加热浓缩物在沸点为反应温度以上的溶剂中与氨进行反应,从而得到二氰基环己烷。
  • 提供:直线切割性优异、氧气阻隔性高、弹性模量低的易撕裂性薄膜、以及多层薄膜、包装材料和容器。一种易撕裂性薄膜,其包含由超过20质量份且70质量份以下的半芳香族聚酰胺树脂A、和低于80质量份且30质量份以上的脂肪族聚酰胺树脂B形成的聚酰胺...
  • 提供:直线切割性优异的易撕裂性薄膜、以及多层薄膜、包装材料和容器。一种易撕裂性薄膜,其为聚酰胺树脂薄膜经拉伸而得到的,所述聚酰胺树脂薄膜如下:包含由超过20质量份且70质量份以下的半芳香族聚酰胺树脂A、和低于80质量份且30质量份以上的...
  • 本发明的树脂组合物含有下述式(1)所示的马来酰亚胺化合物(A)和氰酸酯化合物(B)(式中,R各自独立地表示碳数1~12的非取代或取代的一价烃基,全部R中表示甲基的R的比率为50摩尔%以上,n表示0~2的整数。)
  • 本发明的课题在于,提供一种高效率制造碳酸二烷基酯的方法。上述课题可以通过下述碳酸二烷基酯的制造方法实现,该方法使尿素和氨基甲酸烷基酯中的至少1种与脂肪族醇在催化剂的存在下反应来制造碳酸二烷基酯,该方法包括:气体导入工序,向进行上述反应的...
  • 本发明涉及适于具有低介电常数层间绝缘膜的半导体元件的清洗的组成液及半导体元件的清洗方法。本发明的组成液的特征在于,其含有四氟硼酸(A)0.01~30质量%、或(硼酸/氟化氢)=(0.0001~5.0质量%/0.005~5.0质量%)的硼...
  • 一种环氧(甲基)丙烯酸酯树脂,其是使酚类改性芳香族烃甲醛树脂与含有环氧基的含环氧基的(甲基)丙烯酸酯反应而得到的。
  • 一种(多)胺化合物,其用所述式(0)表示:(所述式(0)中,R
  • 提供可以有效地制造2,5‑双(氨基甲基)呋喃的制造方法。一种2,5‑双(氨基甲基)呋喃的制造方法,其包括使用氢化催化剂,使5‑(卤化甲基)糠醛与氢气和胺化合物反应,得到2,5‑双(氨基甲基)呋喃的工序。
  • 本发明提供压缩强度高且外观优异的成型品的制造方法和制造装置,所述方法对使用3D打印机得到的造型物和其他含有树脂的材料进行加压加工来制造成型品。一种成型品的制造方法,该方法包括:使用3D打印机对含有树脂和连续增强纤维的长丝进行造型,以及,...
  • 本实用新型提供一种改善过氧化氢水溶液通过RO膜精制而生成的浓缩水的品质的精制过氧化氢水溶液制造系统。该精制过氧化氢水溶液制造系统包括清洗装置(A)和清洗装置(B)中的至少一个、以及反渗透膜模块,清洗装置(A)包括未清洗粗制过氧化氢水溶液...
  • 本发明提供改善了白色色泽不均的聚缩醛纤维的制造方法。根据一个实施方式提供一种聚缩醛纤维的制造方法,该制造方法包括吐出工序、收取工序、拉伸工序和卷绕工序,并且连续地进行这些工序,作为聚缩醛纤维的原料使用氧亚甲基共聚物,该氧亚甲基共聚物具有...
  • 本发明提供一种白度不匀得到改善的聚缩醛纤维的制造方法。根据一个实施方式,提供一种聚缩醛纤维的制造方法,其使用190℃时荷重2.16kg下的熔体流动速率为5~60g/10分钟的氧亚甲基共聚物,得到聚缩醛纤维,该制造方法包括:从纺丝机的排出...
  • 一种印刷电路板用树脂组合物,其含有:含硅聚合物(A),其包含下述键(a)、(b)、(c)和(d);氰酸酯化合物(B);环氧树脂(D);和,填充材料(E)。(键(a)~(d)中,R选自碳数1~12的取代或无取代的1价的烃基。X表示包含环氧...
  • 一种树脂组合物,其含有环氧树脂(A)和氰酸酯化合物(B),所述环氧树脂(A)具有下述式(1)所示的重复单元,并且,Z均分子量为1400以上且3000以下(式(1)中,X
  • 提供能够适用湿式工艺,用于形成耐热性、抗蚀图案形状、蚀刻耐性、对高低基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光刻用膜,耐热性、透明性和折射率优异的光学部件等的含有下述式(1)所示的三嗪系化合物的膜形成材料。