本发明涉及包含式(H1)的化合物和式(H2)的化合物的组合物。本发明还涉及包含组合物的制剂，所述组合物包含式(H1)和式(H2)的化合物和溶剂。最后，本发明涉及包含这种组合物的电子器件。子器件。

本发明描述了一种生产混合物的方法，该混合物含有可用于生产电子器件功能层的至少两种功能材料(FM1，FM2)。本发明还涉及根据本发明的方法可获得的粒状材料，以及所述粒状材料在制造电子器件中的用途。在制造电子器件中的用途。

本发明涉及一种具有可溶性基团的有机化合物。具体地，本发明涉及可溶性有机化合物、包含所述化合物的组合物、包含所述化合物或组合物的制剂、和电子器件。物的制剂、和电子器件。

本发明涉及适用于电子器件，特别是有机电致发光器件中的式(1)的化合物，以及包含这些化合物的电子器件。化合物的电子器件。

本文描述一种用于小型对象的工具保持器。本文所描述的工具和工具保持器提高了在受限空间内操作小型对象(例如X射线晶体学中使用的晶体)的灵活性和能力。的晶体)的灵活性和能力。的晶体)的灵活性和能力。

提供了通过脉冲化学气相沉积形成含钌膜的方法。这些方法包括至少一个沉积循环。该沉积循环包括在不存在共反应物的情况下将零价Ru前体与载气脉冲到基材的表面上，以及将吹扫气体输送至该基材的该表面。气体输送至该基材的该表面。

本发明涉及包含有机功能材料的乳液、它们的制备方法以及所述制剂用于制备电子和光电子器件的用途。子器件的用途。

本发明涉及一种有机电致发光器件，其含有包含电子传输主体材料和空穴传输主体材料的混合物，并涉及包含主体材料混合物的配制剂，以及包含主体材料的混合物。电子传输主体材料对应于含有不对称取代的嘧啶或三嗪单元的稠合咔唑衍生物类的式(1)化合物。合...

[问题]得到能够清洗基板、并除去微粒的基板清洗液。[解决方案]提供一种基板清洗液，其含有不溶或难溶的溶质(A)、可溶的溶质(B)和溶剂(C)，其中溶剂(C)包含水(C

提供了形成含钼膜的方法。该方法包括例如在小于或等于约400℃的第一温度下在基材表面上热沉积第一膜，以及例如在大于约400℃的第二温度下在该第一膜的至少一部分上热沉积该含钼膜(第二膜)。该第一膜可以包含元素金属，例如钨、钼、钌、或钴。该第...

[课题]提供能够形成耐酸蚀刻的含硅膜的聚碳硅氮烷和包含该聚碳硅氮烷的组合物。[解决方案]本发明提供一种聚碳硅氮烷，其包含

本申请涉及用于电子器件的材料、制备所述材料的方法以及含有所述材料的电子器件。材料的方法以及含有所述材料的电子器件。

本发明涉及一种制剂并涉及这种制剂用于制备电子器件的用途以及使用这些制剂制备的电子器件，所述制剂含有三种不同的有机溶剂的混合物和至少一种有机功能材料，所述三种不同的有机溶剂是第一有机溶剂A、第二有机溶剂B和第三有机溶剂C，其特征在于第一有...

本发明涉及一种包含碳材料和金属有机化合物的旋涂组合物。本发明还涉及使用其在基材上方形成金属氧化物膜和制造器件的方法。上方形成金属氧化物膜和制造器件的方法。

提供一种能够防止图案塌陷或抑制抗蚀剂图案宽度不均匀的电子设备制造用水溶液。[解决方案]一种电子设备制造用水溶液，包含烷基羧酸化合物(A)和溶剂(B)：其中，烷基羧酸化合物(A)由式(a)表示：A1‑

本发明涉及适用于电子器件中的多环化合物，以及包含这些化合物的电子器件，尤其是有机电致发光器件。机电致发光器件。

本发明涉及适合用于电子器件的化合物，并且涉及包含所述化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。电致发光器件。

本发明涉及适合在电子器件中使用的环状化合物，以及涉及含有所述化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。特别是有机电致发光器件。

本发明涉及适合用于电子器件中的杂环化合物，以及含有所述化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。有机电致发光器件。

本发明涉及适合用于电子器件的杂芳族化合物，以及含有所述化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。有机电致发光器件。