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默克专利有限公司专利技术
默克专利有限公司共有1498项专利
硅前体化合物、其制备方法及含硅薄膜的制备方法技术
本发明涉及一种能够制备优异的含硅薄膜的新颖硅前体化合物、其制备方法以及使用所述硅前体化合物制备含硅薄膜的方法。本发明的硅前体化合物表现出足以应用于所有原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)以制备含硅薄膜的挥发性。特别地,即使在高温...
用于电子器件的材料制造技术
本申请涉及杂螺二芴化合物,并且涉及包含杂螺二芴衍生物的电子器件、特别是有机电致发光器件。
电子器件制造技术
本申请涉及电子器件。具体地,本申请涉及一种包含有机层的电子器件,所述有机层含有至少两种不同化合物的混合物。
负型感光性组合物制造技术
[问题]提供一种可在低温下固化的负型感光性组合物。[解决方案]一种负型感光性组合物,其包含:(I)具有特定结构的聚硅氧烷A、(II)聚合引发剂、(III)含有2个以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物、(IV)含有2个以上巯基的硫醇化合物以及(...
用于光电器件的有机杂环化合物制造技术
本发明涉及适用于电子器件中的有机杂环化合物以及包含这些化合物的电子器件,特别是光电器件。
用于有机电致发光器件的材料制造技术
本发明涉及包含4H‑萘并[1,2,3,4‑def]咔唑的OLED材料、包含这些材料的混合物和制剂以及包含这些材料的电子器件,特别是包含这些材料作为基质材料、电子传输材料或空穴阻挡材料的有机电致发光器件。
用于最小化价值链中的环境影响的系统,方法和装置制造方法及图纸
公开了一种设备以及相关的方法和系统,其包括处理器,该处理器被配置为:估计流程的第一子组件针对第一用户帐户的第一环境影响值。流程的第一子组件受第一流程参数的影响。处理器估计流程的第二子组件针对第一用户帐户的第二环境影响值。第二环境影响值受...
制造含硅的共形固化膜的方法技术
[问题]提供一种制造含硅的共形固化膜的方法。[解决方案]提供一种制造含硅的共形固化膜的方法,包括以下步骤:(a)将包含含硅聚合物(I)以及溶剂(II)的固化膜形成用组合物施加在基板上;(b)通过干燥该组合物以形成共形膜;以及(c)通过对...
聚硅氧烷材料以及包含其的聚硅氧烷组合物制造技术
[问题]提供一种折曲性能优异的聚硅氧烷材料。[解决方案]一种具有特定结构的聚硅氧烷,其是包含由式(ia)表示的重复单元以及由式(ib)表示的重复单元的聚硅氧烷(Pab);或包含由式(ia)表示的重复单元的聚硅氧烷(Pa)与包含由式(ib...
用于制备光学金属氧化物层的调配物制造技术
本发明涉及一种用于制备光学金属氧化物层的调配物。
抗蚀剂图案填充液以及使用其来制造抗蚀剂图案的方法技术
提供了一种抗蚀剂图案填充液以及使用其来制造抗蚀剂图案的方法。
厚膜化组合物、制造经厚膜化的抗蚀剂图案的方法、以及制造经加工基板的方法技术
[问题]提供一种厚膜化组合物。[解决方案]提供了一种厚膜化组合物,其含有聚合物(A)和溶剂(B),该聚合物(A)含有由式(a1)表示的重复单元(A1)。
用于有机电致发光器件的材料制造技术
本发明涉及硅化合物及其衍生物,以及含有所述化合物的电子器件,特别是有机电致发光器件。
制造硅质膜的方法技术
[问题]提供一种在具有沟槽的基板上方制造硅质膜的方法。[解决方案]提供一种制造硅质膜的方法,包括以下步骤:(a)将硅质膜组合物涂覆到具有沟槽的基板上方以形成组合物层的步骤;(b)将该组合物层暴露于含有碱性化合物气体和水蒸气的环境中的步骤...
用于有机电致发光器件的环状氮化合物制造技术
本发明涉及适合用于电子器件中的环状氮化合物,并且涉及含有所述环状氮化合物的电子器件、特别是有机电致发光器件。
图案化基板预湿组合物、预湿组合物用于直接涂布在图案化基板上的用途、制造抗蚀剂图案的方法、制造经加工基板的方法以及制造器件的方法技术
图案化基板预湿组合物在20℃下的蒸气压为0.05mmHg~40mmHg,且在20℃下的表面张力为15dyn/cm~60dyn/cm。该图案化基板预湿组合物在20℃下的粘度为0.5cP~20.0cP。该图案化基板预湿组合物含有有机溶剂(A...
用于有机电致发光器件的材料制造技术
本申请涉及一种特定的芴衍生物,涉及所述芴衍生物在电子器件中的用途并且涉及一种包含所述芴衍生物的电子器件。此外,本申请涉及一种用于制备这类芴化合物的方法。
用于有机电致发光器件的材料制造技术
本发明涉及一种有机电致发光器件(OLED),所述有机电致发光器件包含垂直层叠在彼此顶部的两个相邻发光层。本发明还涉及一种串联有机电致发光器件。
用于有机电致发光器件的杂环化合物制造技术
本发明涉及适合用于电子器件中的杂环化合物,并且涉及含有这些杂环化合物的电子器件、特别是有机电致发光器件。
厚膜化学增幅正型抗蚀剂组合物及使用其的制造抗蚀剂膜的方法技术
本发明提供一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物。一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物,其包含具有特定结构的碱可溶性树脂(A)、光酸产生剂(B)以及溶剂(C)。
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