江苏旭宇腾半导体科技有限公司专利技术

江苏旭宇腾半导体科技有限公司共有17项专利

  • 本实用新型公开了一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备,包括设备壳体,所述设备壳体底端的四个拐角处分别固定有撑脚。该具有流量控制功能的化学气相沉积设备通过使用设备在对薄膜进行制备时,可以将混合后的气相化合物经过进气管中导入并经过电加热丝...
  • 本实用新型公开了一种化学气相沉积电极板装置,包括化学气相沉积电极板设备和保护罩,所述化学气相沉积电极板设备的一侧安装有设备箱,所述设备箱的一侧安装有反应设备,所述保护罩安装于反应设备的一侧,所述保护罩的内表面一侧设置有气孔,所述保护罩的...
  • 本实用新型公开了一种用于超薄晶体薄膜生产的化学气相沉积设备,包括加热系统和反应系统,所述加热系统的外表面设置有存储盒,所述反应系统安装于加热系统的右侧,所述反应系统的右侧设置有支撑柱,且支撑柱的前方设置有固定杆,所述固定杆的右侧设置有滑...
  • 本实用新型公开了一种物理气相沉积装置,包括机器主体和盖板,所述机器主体的外表面上方设置有集尘箱,所述集尘箱的一侧连接有风管,且风管的一侧连接有吸风机,所述机器主体的内表面上方设置有吸尘腔,所述吸尘腔的下表面安装有吸尘嘴,所述机器主体的外...
  • 本实用新型公开了一种物理气相沉积填孔设备,包括电器柜体和风扇,所述电器柜体的外表面一侧安装有控制柜,所述控制柜的一侧安装有反应设备主体,所述电器柜体的外表面下方设置有气孔。该物理气相沉积填孔设备,与现有的普通物理气相沉积填孔设备相比,当...
  • 本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,提供一种化学气相沉积炉漏气快速处理辅助装置,包括炉体、第一保护壳和第二保护壳,炉体的外部设置有第一保护壳,第一保护壳的外部设置有拆装结构,第一保护壳的顶端设置有出气管,第一保护壳的底端设置有第二保护壳...
  • 本实用新型涉及半导体工艺技术领域,提供一种等离子体增强化学气相沉积的电极板装置,包括化学气相沉积装置主体、移动轮和固定板,化学气相沉积装置主体的底端设置有移动轮,化学气相沉积装置主体的一侧设置有散热结构,化学气相沉积装置主体的另一侧开设...
  • 本实用新型公开了一种基于化学气相沉积设备监测用测漏仪,包括仪器主体、数据连接座和金属连接管,仪器主体的顶端设置有数据连接座,仪器主体的两侧均设置有防滑结构,数据连接座的内部安装有金属连接管,金属连接管的一端固定连接有气体检测头。本实用新...
  • 本实用新型公开了一种可产生高度真空环境的物理气相沉积设备,包括底座、机体和控制面板,底座的顶端设置有密封结构,底座的顶端固定有机体,机体的一端铰接有箱门,且箱门的内部设置有加强结构,机体的顶端固定有控制面板,控制面板的顶端固定有防护结构...
  • 本实用新型公开了一种钨丝底部通气清洗改进装置,涉及钨丝生产技术领域,该钨丝底部通气清洗改进装置,包括支撑架,所述支撑架的一侧上端固定连接有升降管安装架,所述升降管安装架内设有升降管,所述升降管内设有加热器,所述支撑架的一侧中部固定连接有...
  • 本实用新型公开了一种晶圆加工用切面抛光装置,包括工作台和抛光单元,工作台:工作台左侧的上表面固定有固定板,固定板的上表面设有夹持单元,工作台右侧的上表面设有抛光单元,工作台支撑固定夹持单元和抛光单元,抛光单元:抛光单元包含第一固定块、第...
  • 本实用新型公开了一种用于微孔加工的晶圆夹具,包括放置板、电动伸缩杆、夹持机构、限位条、移动机构、按压机构和清理机构;放置板的上表面中部分布有橡胶支块,放置板的上表面设有两个对称设置的固定板,放置板的上表面设有鹅颈管,鹅颈管的端部设有卡块...
  • 本实用新型公开了一种气动阀检测装置,包括安装箱、移动单元、卡接单元和阀座,所述安装箱的内部安装有膜片,所述膜片的下侧面上安装有固定块,所述移动单元包含第一连接管、连接箱、连接块、阀杆、弹簧和阀头,所述安装箱的下侧面安装有第一连接管,所述...
  • 本实用新型公开了一种改善化学气相沉积加热均匀度的装置,包括工艺腔和底板;工艺腔:工艺腔的底面两侧设有环形滑轨,环形滑轨上滑动连接有反应室;底板:底板的表面两侧均设有支座,两个支座上设有升降单元,升降单元包括支座、第一电机、丝杠、滑块、支...
  • 本实用新型公开了一种化学气相沉积炉气体预热装置,包括壳体、过滤机构、混合机构、换热管、放置盒和盖板;壳体的左右表面通过法兰连接盘安装有连接罩,连接罩上设有连接管;过滤机构与左侧的连接管连通;混合机构安装在壳体的前表面;换热管分布在壳体的...
  • 本实用新型公开了一种气体管道设计改进结构,涉及到管道设计领域,包括气体柜子和喷头,所述气体柜子的顶部分别固定连接有第一连接管和第二连接管,所述第一连接管和第二连接管远离气体柜子的一端与喷头的一侧固定连接,所述第一连接管和第二连接管靠近气...
  • 本实用新型公开了一种改善颗粒问题的配气路径设备,涉及配气路径设备领域,包括室盖、垫圈和分配部件,所述分配部件的边缘处开设有多个安装沉头孔和多个安装穿孔,所述分配部件的顶面设置有第一气体分配面,所述第一气体分配面上设置有平等分配的分配孔,...
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