一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备，包括设备壳体，所述设备壳体底端的四个拐角处分别固定有撑脚。该具有流量控制功能的化学气相沉积设备通过使用设备在对薄膜进行制备时，可以将混合后的气相化合物经过进气管中导入并经过电加热丝加热后，再由设置的进气管将气相化合物导出至分散盘中，在分散盘的底端环形等间距设置有多组喷气头，通过设置的多组喷气头可以将分散盘中的气相化合物均匀的吹出在设备内部的不同位置处，使气相化合物在面板上形成的薄膜能够保持厚度和成分的均匀，便于将气相化合物均匀的吹出在设备的内部，解决的是不便于将气相化合物均匀的吹出在设备的内部的问题。匀的吹出在设备的内部的问题。匀的吹出在设备的内部的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备


[0001]本技术涉及化学气相沉积设备
，具体为一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备。

技术介绍

[0002]气相沉淀是直接利用气体，或者通过各种手段将物质转变为气体，使之在气体状态下发生物理变化或者化学反应，最后在冷却过程中凝聚长大形成纳米粒子的方法，广泛使用于进行薄膜的制备过程中。
[0003]根据专利号CN202121117558X公开的一种化学气相沉积设备，通过安装有L型喷气弯管、气体分流仓、第一喷气连通管、轴承和第二喷气连通管，使用时，气相化合物通过气体分流仓分流至第一喷气连通管和第二喷气连通管内，气相化合物通过L型喷气弯管吹出时，吹气产生的反作用力可使L型喷气弯管和第二喷气连通管转动，可将L型喷气弯管的管口转动至气相沉积罩仓内部不同位置处，从而可将气相化合物均匀吹至气相沉积罩仓内部不同位置处，使得形成的薄膜厚度及化学成分能够保持均匀。
[0004]上述化学气相沉积设备在实际使用的过程中，通过设置的L型喷气弯管在使用时将气相化合物吹出至设备的内部进行分散，但设置的四组只能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备，包括设备壳体（2），其特征在于：所述设备壳体（2）底端的四个拐角处分别固定有撑脚（1），所述设备壳体（2）的左侧设置有连接管（3），所述设备壳体（2）的顶端贯穿设置有进气管（6），所述进气管（6）上设置有流量计（7），所述设备壳体（2）内部的顶端设置有分散盘（8），所述进气管（6）外部的底部设置有电加热丝（5），所述设备壳体（2）内部底端固定有冷却箱（10），所述冷却箱（10）上固定有面板（9），所述冷却箱（10）的左侧固定有进液管（4），且进液管（4）的左侧贯穿设备壳体（2）的左侧，所述冷却箱（10）的右侧固定有出液管（11），且出液管（11）的右侧贯穿设备壳体（2）的右侧，所述设备壳体（2）前端的左侧铰接有门体（12），所述门体（12）前端的底部固定有透明窗（13），所述分散盘（8）的底端固定有喷气头（14）。2.根据权利要求1所述的一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备，其特征在于：所述进气管（6）的底端贯穿设备壳体（2）的顶端并与分散盘（8）的顶端固定连接，所述进气管（6）与分散盘（8）的内部相连通。3.根据权利要求1所述的一种具有流量控制功能的化学气相沉积设备，其特征在于：所述喷气头（14）在分散盘（8）的底...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾泉，
申请(专利权)人：江苏旭宇腾半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：