提供设备（１５）的维护管理服务的企业将规定的服务期中的所述设备（１５）的生产率量化（Ｓ４２）。并将量化的生产率与预定的生产率基准值进行比较，算出它们的差（Ｓ４３）。然后根据算出的差来确定与服务期内的维护管理服务相对应的收费金额（Ｓ４５）...

服务器（２１０）在从终端装置（１１０）接收到服务一览请求信息时，根据接收的顾客指定信息，从顾客信息管理数据库中检索取得该顾客的场所信息，同时从人材信息管理数据库（２２２）中取得提供服务的各人材的场所信息，根据交通信息管理数据库（２３２）...

本发明提供了一种包括图形用户接口（ＧＵＩ）的高级过程控制（ＡＰＣ）系统用于监视和控制由半导体处理系统执行的半导体制造过程。该半导体处理系统包括多个处理工具、多个处理模块（室）和多个传感器，并且ＡＰＣ系统包括ＡＰＣ服务器、数据库、接口服务...

一种材料处理系统，包括：　　　　处理工具，其中处理工具包括至少一个处理室；　　　　多个耦合至处理工具的射频响应过程传感器，射频响应过程传感器被配置成可以为处理工具产生过程数据并发送过程数据；以及　　　　传感器接口组件（ＳＩＡ），配置成可...

本发明提供了一种用于辅助半导体处理工具所执行的处理的方法、系统和计算机可读介质。所述方法包括输入与半导体处理工具所执行的处理有关的数据以及输入与半导体处理工具有关的基本原理物理模型。然后使用输入数据和物理模型来执行基本原理仿真以提供基本...

一种用于分析半导体处理工具所执行的处理的方法、系统和计算机可读介质。该方法包括输入与半导体处理工具所执行的处理有关的数据，以及输入与半导体处理工具有关的第一原理物理模型。使用输入的数据和物理模型来执行第一原理仿真，以提供第一原理仿真结果...

本发明提供一种涂敷.显影装置，沿着基板的输送路径，在处理部内从输送上游端按顺序配置有：载置台模块；调温模块；涂敷模块；加热模块；在利用具有上下设置且相互独立地进退自如的上臂和下臂的基板输送机构，使上臂和下臂交替地动作，从上游侧的模块按顺...

一种用于控制半导体处理工具所执行的处理的方法、系统和计算机可读介质，包括输入与半导体处理工具所执行的处理有关的数据，以及输入与半导体处理工具有关的第一原理物理模型。第一原理仿真然后使用输入数据和物理模型被执行，以提供第一原理仿真结果，并...

一种用于保存半导体处理工具内的易损部件的化学暴露的电子监视设备。该监视设备包括易损部件专用的存储了易损部件的化学暴露的历史的存储器单元、与存储器单元通信的处理器以及向存储器单元和处理器提供功率的电源电路。

本发明公开了一种用于半导体制造的对多批次的处理进行控制的方法和系统。该控制方法利用处理模型建立处理控制输入数据与处理控制输出数据之间的关系。该控制方法包括使目标处理控制输出数据与预测的处理控制输出数据之间的差别最小，所述预测是通过将处理...

计算单元（４２）在第一计算的中间执行第二计算。此时，计算单元（４２）的硬件结构根据作为执行目标的计算而被切换。控制器（４６）在对第二计算进行计算时将计算单元（４２）的内部状态存储在存储器（４４）中。而且当将被计算单元（４２）执行的计算从...

本发明提供一种根据基于软件的控制对基板进行处理的基板处理装置，包括：许可信息接收单元，定期从通过网络连接的许可信息提供装置接收上述软件的许可信息；许可信息解析单元，从上述许可信息取出上述许可信息提供装置在网络上的地址信息；和许可判定单元...

本发明提供了一种用于从用高级语言描述的应用程序生成用于执行应用程序的处理器的指令集体系结构（此后称为“ＩＳＡ”）和一系列逻辑电路配置信息的技术。本发明还涉及可以通过向动态逻辑电路可重配置处理器应用所生成的ＩＳＡ和逻辑电路配置信息来在短时...

一种用于在ＡＰＣ系统中实现ＦＤＣ（４００）的方法，包括从存储器接收ＦＤＣ模型（４３０）；将所述ＦＤＣ模型（４３０）提供给处理模型计算引擎（４２５）；使用所述处理模型（４２５）计算引擎计算预测的依赖处理参数矢量；接收包括一组配方参数（４４...

一种处理装置，其特征在于，具有以下部件：内部具有载置被处理体的载置台的处理容器；把处理气体导入所述处理容器内的气体导入装置；与所述气体导入装置连接，在其中间设置流量控制部，以供给规定的处理气体的处理气体供给系统； ...

本发明的半导体制造装置具有：用于对基板进行处理而在基板上制造半导体装置的处理部；用于向所述处理部供给所述基板的处理所需要的流体的流体供给通路；输出与所述流体的设定流量对应的设定电压的设定电压输出部；设置在所述流体供给通路中、根据所述设定...

一种涂敷方法，使被处理基板和长条形喷嘴的排出口隔开微小的间隙大致水平地对置，进行边由上述喷嘴向上述基板供给处理液边使上述喷嘴在水平方向上相对移动的涂敷扫描，在上述基板上形成上述处理液的涂敷膜，包括下述工序：　　　　在上述基板上设定使上述...

一种温度控制装置，通过在配置于被控对象附近的调温部（１１）使流体循环来预期地控制被控对象的温度，其包括：加热流体并使流体在调温部（１１）循环的加热通路（４０）；冷却流体并使流体在调温部（１１）循环的冷却通路（２０）；使流体在调温部（１１...

一种用于在半导体处理环境中管理数据的方法。在处理期间采集原始数据。还接收跟踪文件数据和处理日志文件数据。将原始数据与跟踪文件数据和处理日志文件数据同步以创建晶片数据，从原始数据中计算汇总数据，并创建包含晶片数据和汇总数据的文件。

一种作业者管理系统，其特征在于，包括：根据作业内容而分为多个作业区域的作业地点；存储使所述作业地点的各作业区域与在该各作业区域所进行的作业内容相关联的作业确定信息的作业确定信息存储单元；设置在所述各作业区域的作业者检 ...