本发明提供一种等离子处理装置，该等离子处理装置具有真空处理容器（３４）、设于该容器内的、载置被处理体（Ｗ）的载置台（３６）。处理容器（３４）具有形成有上部开口的筒状容器主体（３４Ａ）、气密地安装于该主体的上部开口、由透过电磁波的电介体制...

本发明提供一种搬送臂的移动位置的调整方法和位置检测用夹具，使用能够搬入到薄型装置的位置检测用夹具，高精度地廉价地进行搬送臂的位置调整。使具有静电电容传感器（１５０）的位置检测用晶片（Ｓ）支撑在搬送臂上，利用该搬送臂搬送位置检测用晶片（Ｓ...

本发明提供一种缸体停止位置可变机构和具有其的基板处理装置，能够在半导体基板的处理装置中几乎不产生振动地使基板或其载置台进行升降并能够自由变更升降的上下停止位置。相对于具有活塞和轴杆以流体压力进行驱动的缸体，包括贯通卡止在轴杆上的止动器、...

本发明涉及一种排气捕集装置，在捕集通过气体排气路径的排出气体中的析出物的排气捕集装置（１００）中，沿着排气路径串联配置多个排气捕集部件（１１０、１２０、１３０），其构成使排出气体在内部通过的排气通路。在各个捕集部件内的排气捕集部分上设置...

本发明提供一种从批式热处理装置的石英制构件中除去金属杂质的方法，其包括：在没有收纳作为产品的被处理基板的处理容器内收纳用于使金属杂质附着的多个伪基板的工序；接着，通过向处理容器内供给含有氯的气体和水蒸气，并将处理容器的石英制内表面加热至...

本发明提供一种成膜装置，其包括：收容半导体晶片Ｗ的处理容器（２）；配置在处理容器（２）内、用于载置半导体晶片Ｗ的载置台（５）；设置在与该载置台（５）相对的位置处，用于向处理容器（２）内喷出处理气体的作为处理气体喷出机构的喷淋头（４０）；...

本发明提供一种处理装置，其在处理容器内流入处理气体并对被处理体进行处理时，能够提高处理的面内均匀性，抑制颗粒附着在被处理体上。在侧壁部（２１）上具备通过开闭机构（２３）被开闭的搬入搬出口（２２）的处理容器（２０）中，设置整流用结构体（５...

本发明提供了一种用于等离子体加工系统的改进的波纹管罩，其中结合到基底座电极的该波纹管罩的设计和制作通过实质使波纹管罩的侵蚀最小化从而有利地对波纹管提供了保护。

本发明提供用于包围等离子加工系统中加工空间的改进的沉积罩，其中沉积罩的设计和制造有利地在等离子加工空间中提供纯净的加工等离子，其对沉积罩具有基本最小的腐蚀。

本发明提供了一种等离子体处理系统以及操作光学系统以及等离子体处理系统的操作方法。所述等离子体处理系统包括与等离子体处理系统的等离子体处理室连通的光学系统。所述光学系统具有窗口，并且被构造和布置成能够通过窗口和所述窗口的透射状况来检测等离...

一种等离子体用于处理衬底的处理系统（１２）包括：限定处理空间（１４）的处理室（１３）以及将处理气体（２２）导入上述处理空间（１４）的气体入口（２０），处理室（１３）中具有用于支撑衬底（１８）的衬底支撑件（１７）。等离子体源包括一个与处理...

一种等离子体处理系统（１０），能将射频能量有效耦合到真空室（１８）内的真空处理空间（２４）内的等离子体。该等离子体处理系统（１０）包括一截头圆锥体电绝缘窗体（１４、８５），设在电绝缘窗体（１４、８５、９４）外侧的感应元件（１８），和设在...

保护介电窗免受导电淀积的淀积挡板（３０）设置在高密度等离子体装置中，它具有其中有部件（３４）的缝隙（３１），可从空间上分布通过挡板传输的ＲＦ功率密度。部件形成跨越挡板面向等离子体侧缝隙边界、远离线圈通过其耦合ＲＦ功率的窗的接点和电流路径...

本发明提供改进的用于等离子加工系统的上电极，其中有关带有连接至上电极的沉积罩的电极板的设计和制作有利地提供对上电极腐蚀充分小的加工气体的气体注入，同时提供对室内部的保护。

本申请涉及用于等离子体处理系统中的改进的折流板的方法和设备。本发明提出了一种用于等离子体处理器系统的改进的折流板，其中，折流板的设计和制造能够有利地在处理空间中提供均匀的处理等离子体，并且对折流板的腐蚀程度最小。

一种用于分析等离子体工艺的多变量数据的方法和系统，其中使用了响应面和神经网络来改进或查找优化等离子体工艺的工艺设置，使得特性测量与模型测量相比较，以修改当前等离子体工艺以获得最优化的工艺性能。

本发明提出了用于等离子体工艺系统的一种改进的挡板，其中挡板的设计和制作在工艺空间内方便地提供了一个均匀的工艺等离子体，以及基本上最小地腐蚀挡板。

本发明提出了用于等离子体工艺系统的改进的光学窗口淀积屏蔽，光学窗口淀积屏蔽通过一个淀积屏蔽，用于等离子体工艺系统中的工艺空间的光学入口，其中光学窗口淀积屏蔽的设计和制作对工艺空间中的工艺等离子体方便地提供了一个光学清洁入口，而基本上保持...

本发明提供一种用于等离子加工系统的改进的上电极，其中，与上组件耦合的电极板的设计和制造可以在基本上对电极板造成最小腐蚀的条件下便利地提供加工气体的气体注入。

一种材料处理系统，包括：　　　　等离子体处理工具，其中等离子体处理工具包括一个处理室；　　　　多个耦合至等离子体处理工具的射频响应等离子体传感器，射频响应等离子体传感器被配置成可以为等离子体处理工具产生等离子体数据并发送等离子体数据；以...