本实用新型提供一种工艺腔室以及半导体工艺设备，该工艺腔室包括第一腔体、第二腔体和设置于第一腔体顶部的连接组件，第二腔体通过连接组件设置于第一腔体的上方且第二腔体与第一腔体连通，其中，连接组件包括防护板和支撑结构，支撑结构分别与第一腔体和...

本实用新型提供一种工艺腔室以及半导体工艺设备，该工艺腔室包括第一腔体、第二腔体和设置于第一腔体顶部的连接组件，第二腔体通过连接组件设置于第一腔体的上方且第二腔体与第一腔体连通，其中，连接组件包括防护板和支撑结构，支撑结构分别与第一腔体和...

本实用新型提供一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备，涉及半导体技术领域，用于在兆声清洗工艺中队工艺槽内的清洗液进行控温，包括：水浴槽，水浴槽用于盛装水浴液体，以使工艺槽能够漂浮在水浴液体上；储液容器，储液容器用于储存水浴液体水浴液...

本实用新型提供一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备，涉及半导体技术领域，用于在兆声清洗工艺中队工艺槽内的清洗液进行控温，包括：水浴槽，水浴槽用于盛装水浴液体，以使工艺槽能够漂浮在水浴液体上；储液容器，储液容器用于储存水浴液体水浴液...

本实用新型公开了一种下电极装置及半导体工艺设备，该下电极装置包括：卡盘、射频馈入同轴管、直流电源以及至少一个正极供电线缆；卡盘内设有加热器，加热器的负极通过射频馈入同轴管的管壁与直流电源的负极电连接；正极供电线缆设置于射频馈入同轴管内，...

本实用新型公开了一种下电极装置及半导体工艺设备，该下电极装置包括：卡盘、射频馈入同轴管、直流电源以及至少一个正极供电线缆；卡盘内设有加热器，加热器的负极通过射频馈入同轴管的管壁与直流电源的负极电连接；正极供电线缆设置于射频馈入同轴管内，...

本实用新型提供一种电极组件及半导体设备，与射频源电连接的射频连接结构与射频极板具有间隔分布在射频极板上的多个射频馈入点，多个射频馈入点一一对应多个射频馈入区域，每个射频馈入区域均呈圆形，且圆心为对应的射频馈入点，半径为小于或等于馈入至射...

本实用新型提供一种电极组件及半导体设备，与射频源电连接的射频连接结构与射频极板具有间隔分布在射频极板上的多个射频馈入点，多个射频馈入点一一对应多个射频馈入区域，每个射频馈入区域均呈圆形，且圆心为对应的射频馈入点，半径为小于或等于馈入至射...

本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室，涉及半导体工艺技术领域，所述半导体工艺腔室包括：腔体、基座和测量装置；基座设置于腔体内，基座的底部设有底面和测试基准面，测试基准面凸出于基座的底面或相对基座的底面凹陷，测试基准面包括基准平面和位于基...

本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室，涉及半导体工艺技术领域，所述半导体工艺腔室包括：腔体、基座和测量装置；基座设置于腔体内，基座的底部设有底面和测试基准面，测试基准面凸出于基座的底面或相对基座的底面凹陷，测试基准面包括基准平面和位于基...

本实用新型提供一种液位传感器固定结构及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，液位传感器用于检测半导体清洗机的储液罐内清洗液的液位，包括：安装板，安装板沿竖向滑动设置在储液罐的一侧，安装板上设置有至少一个限位块，液位传感器能够可移动地连接在...

本实用新型提供一种液位传感器固定结构及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，液位传感器用于检测半导体清洗机的储液罐内清洗液的液位，包括：安装板，安装板沿竖向滑动设置在储液罐的一侧，安装板上设置有至少一个限位块，液位传感器能够可移动地连接在...

本实用新型提供一种用于静电卡盘的拆卸装置及静电卡盘，涉及半导体技术领域，包括：环状部件，环状部件的内周用于套设在静电卡盘的外周，环状部件的侧壁上沿静电卡盘的径向设置有至少一个第一定位孔，环状部件的侧壁上沿静电卡盘的轴向设置有至少一个第一...

本实用新型提供一种用于静电卡盘的拆卸装置及静电卡盘，涉及半导体技术领域，包括：环状部件，环状部件的内周用于套设在静电卡盘的外周，环状部件的侧壁上沿静电卡盘的径向设置有至少一个第一定位孔，环状部件的侧壁上沿静电卡盘的轴向设置有至少一个第一...

本实用新型提供一种晶圆承载结构、工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，包括：承载板，承载板上设置有通孔，通孔至少上端设置为由下至上渐扩的渐扩孔，渐扩孔在水平方向的截面呈圆形，且渐扩孔的孔壁用于与晶圆的外周边缘线接触，以承载晶圆；...

本实用新型提供一种晶圆承载结构、工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，包括：承载板，承载板上设置有通孔，通孔至少上端设置为由下至上渐扩的渐扩孔，渐扩孔在水平方向的截面呈圆形，且渐扩孔的孔壁用于与晶圆的外周边缘线接触，以承载晶圆；...

本实用新型提供一种射频能量调节装置，用于射频源与射频电极之间的能量调节，所述射频能量调节装置包括：屏蔽外壳，所述屏蔽外壳具有安装腔，所述屏蔽外壳用于防止射频能量外泄；设置在所述安装腔内的阻抗匹配单元，所述阻抗匹配单元用于调节所述射频源与...

本实用新型提供一种射频能量调节装置，用于射频源与射频电极之间的能量调节，所述射频能量调节装置包括：屏蔽外壳，所述屏蔽外壳具有安装腔，所述屏蔽外壳用于防止射频能量外泄；设置在所述安装腔内的阻抗匹配单元，所述阻抗匹配单元用于调节所述射频源与...

本实用新型提供一种喷嘴安装支架、喷嘴组件、工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，喷嘴安装支架，用于将喷嘴固定在半导体工艺设备的工艺腔室的喷嘴安装孔上，包括：环形主体部，环形主体部上开设有通孔；至少两个安装脚，沿通孔的外周设置，且...

本实用新型提供一种喷嘴安装支架、喷嘴组件、工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，喷嘴安装支架，用于将喷嘴固定在半导体工艺设备的工艺腔室的喷嘴安装孔上，包括：环形主体部，环形主体部上开设有通孔；至少两个安装脚，沿通孔的外周设置，且...