本实用新型专利技术提供一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备，涉及半导体技术领域，用于在兆声清洗工艺中队工艺槽内的清洗液进行控温，包括：水浴槽，水浴槽用于盛装水浴液体，以使工艺槽能够漂浮在水浴液体上；储液容器，储液容器用于储存水浴液体水浴液体循环管路，设置在水浴槽和储液容器之间，且用于水浴液体在水浴槽和储液容器之间循环流动；解决现有技术中通过清洗液的循环，在清洗液循环过程中对其进行冷却降温，这样在清洗工艺过程中，清洗液的循环流动会影响工艺槽内的流场环境，降低兆声清洗的工艺效果的问题。降低兆声清洗的工艺效果的问题。降低兆声清洗的工艺效果的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备
[0001]本技术属于半导体清洗
，更具体地，涉及一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备。
技术介绍
[0002]对于半导体清洗工艺，在槽式清洗设备中，兆声清洗是一种常见的清洗方式，兆声清洗是由高能频振效应结合化学清洗剂的化学反应对晶圆进行的清洗。清洗时，兆声振板发出兆赫级高能声波，声波通过水浴槽及其内部的水浴液体传递到工艺槽，工艺槽内的清洗液，清洗液分子在声波推动下加速运动，通过声压梯度及声流作用产生高速流体力学层并连续冲击晶圆表面，使晶圆表面的颗粒等污染物离开晶圆进入清洗液，达到去除污染物的目的。通常，兆声清洗时，工艺槽中的清洗液提前通过循环加热的方式，利用清洗液循环管路上的加热装置使得清洗液升温至设定温度。在晶圆进入到工艺槽后，兆声振板启动，进行兆声清洗工艺。由于兆声清洗过程中，兆声振板产生的机械能通过水浴槽、水浴液体再传递到工艺槽、清洗液的过程中，能量未全部转换成动能驱动清洗液分子加速运动，一部转换成内能，这部分内能驱使工艺槽内的清洗液温度上升，从而使工艺槽内清洗液温度高于初始设定温度。工艺温度升高，不利于理想工艺效果的实现，因此，兆声清洗中的控温至关重要。现有技术中对于工艺槽内清洗液的控温一般在清洗液循环管路上设置冷却器，通过清洗液的循环，在清洗液循环过程中对其进行冷却降温，这样在清洗工艺过程中，清洗液的循环流动会影响工艺槽内的流场环境，降低兆声清洗的工艺效果。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是针对现有技术中存在的不足，提供一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备，解决现有技术中通过清洗液的循环，在清洗液循环过程中对其进行冷却降温，这样在清洗工艺过程中，清洗液的循环流动会影响工艺槽内的流场环境，降低兆声清洗的工艺效果的问题。
[0004]为了实现上述目的，本技术提供一种兆声清洗工艺槽控温装置，用于在兆声清洗工艺中队工艺槽内的清洗液进行控温，包括：
[0005]水浴槽，所述水浴槽用于盛装水浴液体，以使所述工艺槽能够漂浮在所述水浴液体上；
[0006]储液容器，所述储液容器用于储存所述水浴液体；
[0007]水浴液体循环管路，设置在所述水浴槽和所述储液容器之间，且用于所述水浴液体在所述水浴槽和所述储液容器之间循环流动。
[0008]可选地，所述储液容器为敞口容器，以使处于所述储液容器的内的所述水浴液体能够与空气进行热交换。
[0009]可选地，所述储液容器的容积大于所述水浴槽的容积。
[0010]可选地，所述水浴液体循环管路包括进水管和出水管，所述进水管上设置有开度
控制阀，所述水浴槽上设置有溢流部件，所述出水管与所述溢流部件的出口连接。
[0011]可选地，所述进水管上设置有第一循环泵。
[0012]可选地，所述溢流部件包括溢流管，所述溢流管的下端贯穿所述水浴槽的槽底并与所述出水管连接，所述溢流管的上端设置有溢流口且处于所述水浴槽内。
[0013]可选地，所述水浴槽内设置有液位传感器。
[0014]可选地，还包括控制单元，所述控制单元用于根据所述工艺槽内的所述清洗液的温度控制所述水浴液体在所述水浴槽和所述储液容器之间循环流动的流量。
[0015]本技术还提供一种半导体清洗设备，包括：
[0016]工艺槽；
[0017]上述的兆声清洗工艺槽控温装置，所述工艺槽设置在所述兆声清洗工艺槽控温装置的水浴槽内且能够漂浮在水浴液体上；
[0018]兆声发生装置，与所述水浴槽连接。
[0019]可选地，所述工艺槽内设置有温度传感器，所述温度传感器用于检测所述清洗液的温度，控制单元根据所述温度传感器的检测结果控制所述水浴液体在所述水浴槽和所述储液容器之间循环流动的流量。
[0020]本技术提供一种兆声清洗工艺槽控温装置及半导体清洗设备，其有益效果在于：该兆声清洗工艺槽控温装置具有储液容器，在储液容器与水浴槽之间设置有水浴液体循环管路，能够使水浴液体在水浴槽和储液容器之间循环流动，进而降低水浴槽内的水浴液体的温度，再通过水浴液体对工艺槽及其内部的清洗液进行控温，能够在清洗液因兆声清洗过程中的振动而引起其工艺温度升高时，对清洗液进行降温，并且在此过程中，不需要清洗液进行循环流动，避免了清洗液循环流动对工艺槽内的流场环境的影响，保证控温效果的同时，也能保证兆声清洗的工艺效果。
[0021]本技术的其它特征和优点将在随后具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
[0022]通过结合附图对本技术示例性实施方式进行更详细的描述，本技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显，其中，在本技术示例性实施方式中，相同的参考标号通常代表相同部件。
[0023]图1示出了根据本技术的一个实施例的一种兆声清洗工艺槽控温装置的结构示意图。
[0024]图2示出了根据本技术的一个实施例的一种半导体清洗设备的结构示意图。
[0025]附图标记说明：
[0026]1、水浴槽；2、储液容器；3、进水管；4、出水管；5、气动阀；6、溢流管；7、液位传感器；8、工艺槽；9、兆声振板；10、温度传感器；11、清洗液循环管路；12、第二循环泵；13、加热器；14、过滤器。
具体实施方式
[0027]下面将更详细地描述本技术的优选实施方式。虽然以下描述了本技术的优选实施方式，然而应该理解，可以以各种形式实现本技术而不应被这里阐述的实施
方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了使本技术更加透彻和完整，并且能够将本技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。
[0028]如图1所示，本技术提供一种兆声清洗工艺槽控温装置，用于在兆声清洗工艺中队工艺槽内的清洗液进行控温，包括：
[0029]水浴槽1，水浴槽1用于盛装水浴液体，以使工艺槽8能够漂浮在水浴液体上；
[0030]储液容器2，储液容器2用于储存水浴液体；
[0031]水浴液体循环管路，设置在水浴槽1和储液容器2之间，且用于水浴液体在水浴槽1和储液容器2之间循环流动。
[0032]具体的，为解决现有技术中通过清洗液的循环，在清洗液循环过程中对其进行冷却降温，这样在清洗工艺过程中，清洗液的循环流动会影响工艺槽8内的流场环境，降低兆声清洗的工艺效果的问题；本技术提供的兆声清洗工艺槽8控温装置具有储液容器2，在储液容器2与水浴槽1之间设置有水浴液体循环管路，能够使水浴液体在水浴槽1和储液容器2之间循环流动，进而降低水浴槽1内的水浴液体的温度，再通过水浴液体对工艺槽8及其内部的清洗液进行控温，能够在清洗液因兆声清洗过程中的振动而引起其工艺温度升高时，对清洗液进行降温，并且在此过程中，不需要清洗液进行循环流动，避免了清洗液循环流动对工艺槽8内的流场环境的影响，保证控温效果的同时，也能保证兆声清洗的工艺效果。
[0033]进一步的，现有技术中本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种兆声清洗工艺槽控温装置，用于在兆声清洗工艺中对工艺槽内的清洗液进行控温，其特征在于，包括：水浴槽，所述水浴槽用于盛装水浴液体，以使所述工艺槽能够漂浮在所述水浴液体上；储液容器，所述储液容器用于储存所述水浴液体；水浴液体循环管路，设置在所述水浴槽和所述储液容器之间，且用于所述水浴液体在所述水浴槽和所述储液容器之间循环流动。2.根据权利要求1所述的兆声清洗工艺槽控温装置，其特征在于，所述储液容器为敞口容器，以使处于所述储液容器的内的所述水浴液体能够与空气进行热交换。3.根据权利要求1所述的兆声清洗工艺槽控温装置，其特征在于，所述储液容器的容积大于所述水浴槽的容积。4.根据权利要求1所述的兆声清洗工艺槽控温装置，其特征在于，所述水浴液体循环管路包括进水管和出水管，所述进水管上设置有开度控制阀，所述水浴槽上设置有溢流部件，所述出水管与所述溢流部件的出口连接。5.根据权利要求4所述的兆声清洗工艺槽控温装置，其特征在于，所述进水管上设置有第一循环泵。6.根据权利要求4所述的兆声清洗工艺槽控温...
【专利技术属性】
技术研发人员：王延广，赵宏宇，张虎威，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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