本发明涉及一种机械手传动机构，包括：导块、第一连接件、第二连接件、传动件；其中导块与第一连接件相连，第一连接件用于在驱动器的驱动下使导块沿第一连接件移动；导块上设置有第一导轨，机械手设置在第一导轨中；传动件与第一连接件和第二连接件相连，...

一种等离子体系统，包括:介电窗、适配件、下部电极平台以及过滤装置。介电窗环绕包围的区域定义第一腔室，并用于容置等离子体。适配件紧邻设置于介电窗下方，且环绕包围的区域定义第二腔室。下部电极平台置于第二腔室之中，用于承载工作件。过滤装置具有...

本申请实施例提供了一种减振装置、风机系统及半导体热处理设备。该减振装置设置于机箱及风机本体之间用于对风机本体进行减振，包括：底座、滑块、外壳、第一减振组件及第二减振组件；滑块通过第一减振组件连接于底座，且滑块能相对于底座沿第一轴向运动；...

本发明提供一种溅射方法，包括以下步骤：S1，向反应腔室中通入工艺气体；S2，开启溅射电源，且将加载至靶材的溅射电源的输出功率调节至第一溅射功率值，以启辉形成等离子体；S3，将输出功率按第一预设规则提高至第二溅射功率值，以在基片上沉积薄膜...

本发明提供一种反应腔室的工艺套件，包括：绝缘环，耦接到所述基座并环绕所述基座的外周壁；第一屏蔽环，耦接到所述绝缘环并环绕所述绝缘环的外周壁，且接地；溅射环，承载于所述基座和所述绝缘环的上表面上；遮蔽环，在被所述第一屏蔽环支撑时，其内环区...

本发明提供一种机械手碰撞参数校准方法及系统，该方法包括：以下步骤：S1：在机械手运行过程中，获取碰撞参数、灵敏度以及最大工作电流；S2：在当前碰撞参数下，判断当前最大工作电流是否大于电流阈值；若否，返回执行步骤S1；若是，执行步骤S3；...

本申请实施例提供了一种承载装置、晶圆花篮及晶圆清洗设备。该承载装置用于在清洗设备清洗过程承载晶圆，其包括支撑座及滚动机构；所述滚动机构设置于所述支撑座上；所述滚动机构用于承载所述晶圆，所述滚动机构的滚轴与所述晶圆的边缘接触，并且可带动所...

本发明提供一种传输装置、传输腔室及防止机械手腐蚀的方法。该传输装置包括输送气路，所述输送气路的出气端设置在所述传输腔室内机械手的外表面上，或者位于所述机械手的附近，用以通过输出保护气体，而在所述机械手周围形成气体保护层。采用本发明可以对...

本发明提供一种预清洗腔室及其过滤装置、半导加工设备。该过滤装置用于在预清洗腔室中过滤等离子体，其包括过滤组件及离子发生器组件；所述过滤组件设置于所述预清洗腔室的基座及顶盖之间，所述过滤组件厚度方向贯穿有多个通气孔，并且所述过滤组件内具有...

本发明提供了一种基片吸取装置，包括：本体；所述本体内形成有下端为开口的空腔；在所述本体的上端设置有与所述空腔连通的进气孔；所述进气孔用于与压缩气体源相连，以使所述压缩气体源提供的压缩气体自所述进气孔进入所述空腔内形成漩涡气流并自所述开口...

本发明提供一种工艺数据管理方法及设备，所述方法包括：接收工艺数据采集设备上报的发生了变化的工艺标识信息，其中，所述工艺标识信息为可表征各个工艺步骤的工艺内容的信息；根据所述发生了变化的工艺标识信息在所述工艺数据采集设备采集的所有工艺数据...

本发明提供一种用于密封内石英管的密封结构、工艺设备及装配方法，密封结构包括：环形安装件，套设在内石英管外侧，且在环形安装件的内周壁上设置有第一凸台；第一密封组件，设置在第一凸台上，用于密封环形安装件的内周壁与内石英管的外周壁之间的间隙；...

本实用新型提供一种反应腔室及半导体加工设备，包括腔室本体、与腔室本体连接的真空装置、调压管路和/或第一调节阀、和设置于腔室本体内的基座，其中，基座包括承载基片的承载面，并在基座中设置有抽气通道，且抽气通道的一端贯通至承载面上，另一端与真...

本发明提供了一种机械手校准装置及方法，其通过使校准件与基座对中，且在校准件的中心设置有贯穿其厚度的第一定位孔，在校准机械手时，第一定位孔的轴线和基座的轴线重合，利用定位件依次穿过机械手的第二定位孔和校准件的第一定位孔，即可实现待校准机械...

本发明提供的冷却装置，设置在升降温炉炉体的底板中，包括设置在底板上中的冷却腔体和与冷却腔体贴合设置的缓冲腔体，其中，冷却腔体用于容纳冷却介质，冷却腔体与缓冲腔体之间设置有第一隔离板，第一隔离板将冷却腔体密封，并将缓冲腔体与缓冲腔体隔离开...

本申请实施例提供了一种半导体加工腔室及半导体加工设备。该半导体加工腔室包括过滤结构，准直器设置在基座的上方，过滤结构设置于准直器及基座之间，过滤结构距离准直器的之间具有第一距离，过滤结构距离基座之间具有第二距离；过滤结构包括多个沿腔室轴...

本发明提供的加热系统及半导体加工设备，用于对托盘进行加热，加热系统包括加热器和反射屏，反射屏用于将加热器辐射的热量反射至托盘，其中，反射屏包括凹槽形状的反射部，加热器设置在反射部中。反射部在反射加热器辐射的热量时，能够将加热器径向辐射的...

本发明公开了一种清洗装置和清洗方法。所述清洗装置包括至少一个第一上下料位以及至少一个第二上下料位；所述第一上下料位包括层叠设置的若干个第一子上下料位，所述若干个第一子上下料位能够升降，所述第一子上下料位用于承载空置的片盒；每个所述第二上...

本发明提供一种用于多腔传输装置的开盖机构，包括切换组件、驱动组件、多组传动组件和多组开盖执行组件，每组传动组件对应连接有一组开盖执行组件；切换组件用于将驱动组件选择性地与其中一组传动组件相连；驱动组件用于驱动传动组件以带动开盖执行组件摆...

本发明涉及一种电感耦合等离子体产生装置，包括：电感线圈；电感线圈的第一端接地，电感线圈的第二端接射频电源；电感线圈的第一端沿远离介质窗的第一方向螺旋缠绕至第二端，且电感线圈在缠绕过程中沿与第一方向垂直的第二方向的尺寸变化，来提高电感线圈...