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浜松光子学株式会社专利技术
浜松光子学株式会社共有2224项专利
激光加工装置制造方法及图纸
激光加工装置具备:支撑部;激光光源;反射型空间光调制器;聚光光学系统;成像光学系统;镜;不经由聚光光学系统且与激光不同轴地对加工对象物照射第1测距用激光,并对其反射光进行受光,由此取得激光入射面的位移数据的第1传感器;及经由聚光光学系统...
反射镜组件和光模块制造技术
反射镜组件(2)包括:含有基体(21)和可动反射镜(22)的反射镜器件(20);光学功能部件(13);和相对于光学功能部件(13)配置在与反射镜器件(20)相反侧的固定反射镜(16)。在反射镜器件(20)形成有构成分束器组件(3)与固定...
放射线检测装置制造方法及图纸
本发明的放射线检测装置(1A),由:闪烁器(11);检测来自闪烁器(11)的闪烁光,并且输出检测信号的光检测器(15);比较第一阈值电压(V1)和检测信号,并且输出具有第一时间宽度(T1)的信号的第一比较器(21);测量第一时间宽度(T...
扫描型显示装置、扫描型显示系统及光扩散部的制造方法制造方法及图纸
扫描型显示装置具备:光源,其出射投影显示用的激光;光扫描部,其扫描自光源出射的激光;及光扩散部,其具有二维地排列的多个光扩散通道,使由光扫描部扫描的激光扩散。光扩散部构成为,经由多个光扩散通道中彼此相邻的任意一对光扩散通道而到达观察者的...
扫描型显示装置及扫描型显示系统制造方法及图纸
扫描型显示装置具备:光源,其出射投影显示用的激光;聚光部,其将自光源出射的激光聚光;光扫描部,其扫描通过了聚光部的激光;及光扩散部,其具有二维地排列的多个光扩散通道,使由光扫描部扫描的激光扩散。在将激光的波长设为λ,将光扫描部的有效开口...
光学滤光器系统技术方案
本发明的目的在于提供可靠性高的光学滤光器系统。本发明的光学滤光器系统具备法布里‑珀罗干涉滤光器(1)、及控制法布里‑珀罗干涉滤光器的控制器(51)。法布里‑珀罗干涉滤光器(1)具备第1镜部(31)、第2镜部(32)、设置于第1镜部(31...
表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析装置制造方法及图纸
本发明的一个方面所涉及的表面辅助激光解吸电离法包括:第一工序,其准备具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)的试样支撑体(2);第二工序,其将试样(...
光学器件制造技术
光学器件中,弹性支承部具有:在垂直于第1方向的第2方向上彼此相对的一对杆;沿第2方向延伸,分别连接在一对杆与底座之间的一对第1扭转支承部;沿第2方向延伸,分别连接在一对杆与可动部之间的一对第2扭转支承部;和架设于一对杆之间的第1联接部件...
表面增强拉曼散射单元及拉曼光谱分析方法技术
本发明的表面增强拉曼散射单元包括:测定用基板,其于测定时使用;表面增强拉曼散射元件,其具有基板、及形成于上述基板上产生表面增强拉曼散射的光学功能部并固定于上述测定用基板;及按压构件,其包含环状的接触部且固定于上述测定用基板,上述接触部接...
滤波器控制式导出方法、光测量系统、法布里-帕罗干涉滤波器的控制方法及滤波器控制程序技术方案
本发明的滤波器控制式导出方法具备:准备步骤,其准备通过静电力与弹性力平衡而控制固定镜部(35)与可动镜部(36)间的距离(x)的法布里‑帕罗干涉滤波器;第1导出步骤,其通过实施规定的测量,而导出将可动镜部(36)的弹性指标(k)作为将可...
半导体器件检查方法技术
本发明的半导体器件检查方法是进行被检查体即半导体器件的检查的方法,且包含以下步骤:第1步骤,其将辐射率为0.9以上且300nm至2000nm的波长中的光的透过率为60%以上的粘合胶带贴附于半导体器件的被检查面;第2步骤,其检测来自被检查...
编码器用受光模块及编码器制造技术
本发明的受光模块(6)具备:支承体(11),其具有底壁部(16)及侧壁部(17);受光元件(12),其以受光面(21a)朝向一侧(S)的方式配置于底壁部(16)上,且在自一侧(S)观察的情形时由侧壁部(17)包围;及光学纤维板(13),...
X射线产生装置制造方法及图纸
X射线产生装置包括:X射线管,其具有产生电子束的电子枪和因所述电子束的入射而产生X射线的靶;电源部,其具有将来自外部的导入电压升压来产生高压电压的升压部,和用绝缘材料密封所述升压部的绝缘块;以及用于进行关于产生所述X射线的控制的控制部。...
半导体检查装置制造方法及图纸
检查系统(1)具备:光源(33);镜(40b);检流计镜(44a、44b);壳体(32),其在内部保持镜(40b)与检流计镜(44a、44b),且具有用于安装光学元件的安装部(46);及控制部(21a),其控制检流计镜(44a、44b)...
电子倍增体制造技术
本实施方式涉及具有用于在更广的温度范围抑制电阻值变动且使该电阻值变动稳定的构造的电子倍增体。该电子倍增体中,被基板和由绝缘材料构成的二次电子放出层夹着的电阻层由单一的金属层构成,该单一的金属层是由其电阻值具有正的温度特性的金属材料构成的...
电子倍增体制造技术
本实施方式涉及具有用于在更广的温度范围抑制电阻值变动且使该电阻值变动稳定的构造的电子倍增体。该电子倍增体中,被基板与由绝缘材料构成的二次电子放出层夹着的电阻层包含金属层,该金属层是由其电阻值具有正的温度特性的金属材料构成的多个金属块以隔...
电子倍增体制造技术
本实施方式涉及具有用于在更广的温度范围抑制电阻值变动且使该电阻值变动稳定的构造的电子倍增体。该电子倍增体中,由在与该基板的通道形成面一致或实质上平行的层形成面上二维地形成的Pt层来构成被基板和二次电子放出层夹着的电阻层,由此该电阻层实现...
光测量装置和光测量方法制造方法及图纸
光测量装置(1)具备照射部(10)、检测部(20)以及处理部(30)。照射部(10)包含与试样容器(2
器件解析装置及器件解析方法制造方法及图纸
器件解析装置(1)是执行功率半导体器件(P)的好坏判别的器件解析装置,具备:施加部(12),其对功率半导体器件(P)施加电压信号;光检测部(13),其在多个检测位置(A~D)上检测来自功率半导体器件(P)的光,并输出基于检测结果的检测信...
取向特性测定方法、取向特性测定程序及取向特性测定装置制造方法及图纸
取向特性测定系统(1)具备:照射光学系统(5),其朝向配置于透明性基板(S1)上的试样照射激发光;检测光学系统(11),其引导自试样发出的荧光;光检测器(13),其检测荧光;旋转机构(9),其变更试样的荧光出射侧的面的垂线与检测光学系统...
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