一种用于训练用于检查晶片的机器学习模型的装置包括存储指令集的存储器和至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为执行该指令集以使得该装置执行：针对第N晶片，将晶片特性数据输入到机器学习模型中，其中N是整数；基于针对第N晶片的输入数据，生成缺...

带电粒子束检测器可以包括多个检测器区段，这些检测器区段被设计为适应带电粒子束装置的视场(FOV)。第一检测器区段可以形成第一检测器区域，其被配置为捕获较小FOV尺寸的发射带电粒子。第二检测器区段可以包围第一检测器区段以形成第二检测器区域...

一种系统(600)包括对准机构的第一部分(604)和第二部分(606)。第一部分耦合到液滴生成装置内的喷嘴(602)。第二部分耦合到液滴生成装置的外表面(608)。第二部分包括第二调节机构(612)，该第二调节机构用于调节第一部分的第一...

本文中描述一种用于在布局图案化过程中确定训练图案的方法。所述方法包括：从图案集合中的图案产生多个特征；基于多个所产生的特征的相似性，将所述图案集合中的所述图案分组成单独的组；以及从所述单独的组选择代表性图案以确定所述训练图案。在一些实施...

用于生成宽带辐射的方法和设备。所述方法包括引导脉冲泵浦辐射通过移动的非线性介质，从而通过光谱展宽从位于移动的非线性介质内的脉冲泵浦辐射生成宽带辐射。位于所述移动的非线性介质内的泵浦辐射的功率至少是用于在移动的非线性介质内引发成丝的临界功率。

本公开提供了一种用于光刻设备中配置成支撑衬底的衬底保持器，包括：具有主体表面的主体；从主体表面突出的多个第一支撑元件，第一支撑元件支撑衬底，具有第一高度；密封单元，包括第一密封构件，第一密封构件具有上表面和第二高度，且定位于多个第一支撑...

源选择模块包括可调衍射元件，该可调衍射元件包括多个像素。源选择模块还包括光色散元件，该光色散元件被配置为接收第一光和第二光。光色散元件将第一光分布在第一像素上以生成零和非零阶衍射。光色散元件还将第二光在空间上分布在第二像素上以生成零和非...

一种物体保持器，被配置为支撑物体。物体保持器（20）包括：芯体（21），该芯体包括多个突节（22），多个突节的远端（23）处于支撑平面（24）中以用于支撑该物体。物体保持器还包括位于突节之间的静电片（25）。静电片包括：电极（26），该...

本发明公开了一种部件，该部件具有通过钎焊附接在其上的特征，随后使用CVD工艺为该部件提供保护性涂层。该部件的主体可以由金属制成并且使用增材制造工艺制备。本发明还公开了一种用于制造这种部件的方法。

一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：‑ 真空腔室；‑ 装载锁，所述装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；‑ 平台设备，所述平台设备被配置成从所述装载锁接收所述物体且使所述物体在所述...

从光刻装置的夹具清除污染颗粒被描述。已使用的夹具具有被污染颗粒污染的突节顶部，该污染颗粒需要在返回服务之前被清除。当前，为了完全清洁这样的夹具的突节顶部，覆盖突节顶部的硬且导电的涂层被剥离并且新鲜的涂层被施加。这需要将夹具从卡盘断开连接...

公开了一种生成掩模设计的方法、系统和计算机软件。方法可以包括：获得由OPC过程产生的初始OPC图案轮廓，并确定初始OPC图案轮廓上的选定点集合。可以计算描述沿着初始OPC图案轮廓的选定点之间的弧的度量，并可以基于度量的计算确定恢复位置。...

本文描述一种用于训练机器学习模型的方法，所述机器学习模型被配置成预测与衬底相关联的物理特性的值以用于调整图案化过程。所述方法涉及：获得参考图像；确定所述机器学习模型的模型参数值的第一集合，使得第一成本函数从使用初始模型参数值集合获得的成...

本公开涉及光刻工艺及关联设备的子场控制。公开了一种用于确定场内校正以控制光刻设备的方法，该光刻设备被配置为曝光在衬底的曝光场上的图案，所述方法包括：获取用于确定所述场内校正的量测数据；在该量测数据不可靠的情况下和/或在所述光刻设备在启动...

本发明提供了一种用于定位可移动物体的定位系统，包括：多个致动器，被布置成在一个或多个自由度上移动可移动物体，其中多个致动器包括比一个或多个自由度更多的致动器，控制系统，包括控制器和转换矩阵，控制器基于设定点和/或控制误差提供控制信号，转...

描述了一种包括双四分镜的光学系统。所述光学系统被配置成反射从所述镜的任一侧接近的入射辐射束的两个象限部，而同时允许相对的两个象限部透射入射辐射。所述光学系统具有本体，所述本体具有至少一个透射表面和至少一个反射表面以用于入射到所述本体的不...

一种线性马达运动系统被配置为移动物体并且包括：磁性轨道；线圈单元，该线圈单元包括围绕相应的铁磁芯缠绕的多个线圈、被配置为沿着磁性轨道引导线圈单元的轴承，其中，轴承被构造和布置为仅允许线圈单元相对于磁性轨道在第一方向上的实质性移动；以及转...

描述了模拟用于基于衍射的光学量测的半导体结构的电磁响应。经模拟的电磁响应用于确定所述半导体结构的光学性质，诸如反射率系数。严格耦合波分析（RCWA）用于逐层和逐单位单元地模拟所述半导体结构的反射率。通过恰当选择划分点，可以将所述半导体结...

描述了一种量测系统。主动或被动超表面被用于替换（或扩增）现有物镜以聚焦诸如光之类的辐射、调谐焦长、和/或校正所述量测系统中的像差。所述量测系统包括：第一超表面或超表面的部分，所述第一超表面或超表面的部分被配置成从所述辐射源接收所述入射辐...

在集成式位移传感器中，沿平面引导光源束，并且所述射束的至少一部分在发射光栅处被接收且被衍射远离所述平面以形成发射束。布置在所关注的对象上的目标光栅接收所述发射束，所述发射束在所述目标光栅上衍射以形成零阶衍射束、一阶衍射束和负一阶衍射束。...