ASML荷兰有限公司专利技术

ASML荷兰有限公司共有2710项专利

  • 用于加速用于生成EUV辐射的液滴的装置和方法包括产生导向照射区域的激光束的装置和液滴源。液滴源包括以流的形式离开喷嘴的流体,该流分解成液滴,然后经历聚结。然后,液滴受到气流的作用,气流夹带液滴并使之加速。气流夹带液滴并使之加速。气流夹带...
  • 本发明提供了使用高度水平传感器来计算经校正的第一衬底的衬底高度映射的方法。方法包括:在第一衬底以第一速度移动的情况下,借助高度水平传感器对第一衬底进行采样以生成第一高度水平数据,其中第一速度是第一衬底相对于高度水平传感器的第一至少部分非...
  • 本文中描述一种用于从经图案化的衬底的原始图像选择良好品质图像的方法。所述方法包括:获得经图案化的衬底的多个原始图像(例如SEM图像);基于与所述多个原始图像中的每个图像内的一个或更多个特征的量规或轮廓相关联的数据来确定原始图像品质指标(...
  • 一种检测器包括:多个感测元件;区段电路系统,将第一感测元件集通信地耦合到第一信号处理电路系统的输入;以及开关网络,对感测元件集进行连接。元件间开关可以对相邻的感测元件(包括在对角线方向上的感测元件)进行连接。输出总线可以通过开关元件连接...
  • 一种用于相步进测量系统的透射型衍射光栅,该相步进测量系统用于确定投影系统的像差图,该衍射光栅包括吸收层。该衍射光栅用于与具有第一波长的辐射(例如EUV辐射)一起使用。吸收层设置有通孔的二维阵列。吸收层由对于具有第一波长的辐射具有在0.9...
  • 公开了用于实现检测器阵列的系统和方法。根据某些实施例,衬底包括多个感测元件(501
  • 本文所公开的是一种用于支撑被配置为操纵带电粒子设备中的带电粒子路径的装置的模块,该模块包括:被配置为支撑该装置的支撑布置,其中该装置被配置为操纵带电粒子设备内的带电粒子路径;以及被配置为在模块内移动支撑布置的支撑定位系统;其中模块被布置...
  • 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置,分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器,束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被...
  • 公开了使用检测器模块和包括馈通件的支撑件来检测信号束的检测器模块、系统和方法。此外此外,公开了用于密封被配置为提供大气环境和真空腔环境的真空系统的装置、系统及方法。在一些实施例中,印刷电路板(PCB)包括用于暴露于大气环境的第一侧和用于...
  • 本文描述了一种选择图案的方法,图案用于训练模型以预测待印制在衬底上的图案。方法包括(a)获得多个图案的图像,其中多个图案对应于待印制在衬底上的目标图案;(b)将图像分组成特定图案组和多个主图案组;以及(c)基于图像输出图案集作为用于训练...
  • 描述一种用于光刻设备中的表膜隔膜,所述表膜隔膜的特征在于其组成物在平面内是变化的。还描述一种制造表膜隔膜的方法,所述方法包括以下步骤:a)在衬底上设置牺牲层:b)在所述牺牲层上设置第一材料层;c)在所述第一材料层上设置抗蚀剂层;d)对所...
  • 本发明提供了一种用于确定在外差干涉仪的单个检测器处接收的多个感兴趣信号中的每个感兴趣信号的一个或多个信号参数的方法,该方法包括以下步骤:a.对于每个感兴趣信号,通过估计其他感兴趣信号的信号贡献并从多个感兴趣信号中减去这些经估计信号贡献来...
  • 本文描述了一种用于确定掩模图案的辅助特征将印制于衬底上的可能性的方法。所述方法包括:获得(i)被印制于衬底上的图案的多个图像,和(ii)方差数据、所述图案的所述多个图像;基于所述方差数据来确定被配置成产生与所述掩模图案相关联的方差数据的...
  • 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统,所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中,气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出,限定了在第二方向上延伸的光学路径。...
  • 一种源材料阀,该源材料阀放置在用于源材料腔室(诸如源材料再填充储器)的流体供给管线中,以防止该腔室中的熔融源材料到达并且因此在压力故障的情况下污染和堵塞该源材料阀上游的该流体供给管线。上游的该流体供给管线。上游的该流体供给管线。
  • 本发明涉及一种包括预曝光元件(134)的台系统(130),并且涉及一种采用预曝光元件来调节光学系统(100)的方法。预曝光元件包括在台系统的表面处的辐射接收区域,其中辐射接收区域包括被配置为接收辐射的至少一个预曝光板。台系统还包括控制器...
  • 本文描述了一种量测系统和用于经由经训练的机器学习(ML)模型转换量测数据的方法。所述方法包括:访问由第一扫描电子量测(SEM)系统获取的第一SEM数据集(例如图像、轮廓灯)和由第二SEM系统获取的第二SEM数据集,其中所述第一SEM数据...
  • 公开了一种用于确定指示被处理的衬底的对准性能的性能指标的方法。所述方法包括:获得包括位于所述衬底上的对准标记的多个被测量的位置值的测量数据;和计算每个被测量的位置值与对应的期望的位置值之间的位置偏差。这些位置偏差被用于确定所述对准标记之...
  • 描述了产生用于图案化过程的控制输出。接收控制输入。所述控制输入用于控制所述图案化过程。所述控制输入包括在所述图案化过程中使用的一个或更多个参数。利用经训练的机器学习模型,基于所述控制输入来产生所述控制输出。所述机器学习模型是利用从模拟所...
  • 公开一种改进感兴趣参数的测量的方法。方法包括:获得量测数据,量测数据包括与衬底上的一个或多个目标相关的感兴趣参数的多个测量值,每个测量值与所述一个或多个目标中的目标和测量目标的测量条件的不同测量组合,以及与一个或多个目标的不对称性相关的...