一种装置包括用于夹持组件的静电夹具和用于邻近静电夹具生成自由电荷的机构。用于生成自由电荷的机构被配置为在从静电夹具的第一激发状态到静电夹具的第二激发状态的转变期间邻近静电夹具生成自由电荷。

描述了一种静电夹具。所述静电夹具包括被配置成接触被夹持的对象的表面和联接至所述表面的电极。所述电极被配置成逐步地激励所述表面的部分，使得所述对象与所述表面之间的接触跨所述表面从初始被激励的接触部位逐步地传播。所述对象与所述表面之间的接触...

一种校准光刻设备的方法，该方法包括以下步骤：获得衬底，该衬底的杨氏模量实质上不随衬底的平面内的限定杨氏模量的轴线的取向而变化，并设置有参考特征；将衬底夹持到光刻设备的衬底台上；使用所述光刻设备将图案化特征设置到所夹持的衬底，每个图案化特...

本公开涉及一种紧固件组件，该紧固件组件包括第一垫圈（102）、第二垫圈（104）以及设置于第一垫圈和第二垫圈之间的弹簧（106），该弹簧具有弹簧常数，该弹簧被配置为基于第一垫圈相对于第二垫圈的相对位移来提供力的大小。压缩限制器（108）...

一种用于测量衬底的变形的系统，包括：照射器、相机、调制器系统和控制器。照射器将两个辐射束引导到被设置在衬底上的多个目标中的每个目标处，以从每个目标产生两个散射辐射束。相机检测来自多个目标的两个散射辐射束的干涉图案，并生成基于干涉图案的干...

一种检查系统包括辐射源、多模光纤、光学结构、二维检测器阵列和计算装置。所述辐射源辐照目标，以从目标生成散射辐射。所述散射辐射包括衍射阶对。所述多模光纤接收散射辐射并基于所述多模光纤的传播性质来输出衍射阶对的混合。所述光学结构在所述多模光...

一种用于确定图案化过程的性能的方法，该方法包括：接收衬底的一部分的图像，衬底的该部分包括第一区域和至少第二区域，第一区域包括与第一图案化过程相关联的第一特征，第二区域包括与第二图案化过程相关联的第二特征，其中，第一特征和第二特征在被辐射...

公开了一种确定诸如焦距和/或剂量之类的至少一个曝光参数的方法。所述方法包括获得多个结构的生产量测数据；将所述生产量测数据分组成多个相邻组，每个相邻组描述所述结构的不同布置；获得所述多个相邻组中的每个相邻组或所述多个相邻组的不同组合的经预...

一种计算机系统，所述计算机系统被配置成依赖于处于冷状态中的掩模版的参考数据和所述掩模版的掩模版对准量测来初始化掩模版加热模型。在对第一批次衬底执行光刻过程时更新所述掩模版加热模型的状态。储存所述掩模版加热模型的当前状态。生成掩模版输送数...

一种用于产生超连续谱辐射的系统，该系统包括：泵浦光源，被配置为产生泵浦光脉冲，泵浦光脉冲具有泵浦波长；和中空芯部光子晶体光纤，被配置为接收泵浦光脉冲，中空芯部光子晶体光纤含有气体；其中气体和中空芯部光子晶体光纤被选择为使得泵浦波长在与气...

本公开涉及用于将装置的模块接合在一起的模块化组件。该组件包括两个模块，该两个模块被配置为能够相互接合，以彼此邻接。这些模块各自具有主体(71；72)和多个接合器(81；82)，该多个接合器各自被配置为与这些模块中的另一模块的对应的接合器...

本文公开了一种清洁设备，清洁设备用于清洁光刻设备的掩模版工作台。该设备包括：衬底，衬底具有正面和与所述正面相对的背面。聚酰亚胺层被设置在衬底的正面上，并被配置为接触掩模版工作台以去除掩模版工作台上的颗粒。聚酰亚胺层在其中包括自由基，以向...

一种用于管芯放置的设备，包括：第一载台，所述第一载台包括多个凹部，所述多个凹部被配置成接纳多个施主管芯；第二载台，所述第二载台包括用于一个或更多个目标的支撑件；和测量系统，所述测量系统功能性地联接到所述第一载台，并且被配置成：获得所述多...

提供一种用于管芯放置的方法，包括：获得用于多个供体管芯的多个目标位置；测量所述多个供体管芯的位置，所述多个供体管芯由多个管芯致动器支撑；使用所述多个管芯致动器将所述多个供体管芯的位置调整为基本上对应于所述多个目标位置；以及将所述多个供体...

本公开的实施例涉及用于在光刻设备中使用的衬底支架，特别是一种用于在光刻设备中使用并且被配置为支撑衬底的衬底支架，该衬底支架包括：具有主体表面的主体；从主体表面突出的多个主突节，其中每个主突节具有被配置为支撑衬底的远端表面；从主体表面突出...

一种用于训练预测模型以从基板的低分辨率图像生成表示基板上的缺陷的高分辨率图像的方法。该方法包括将基板上的缺陷的第一图像和参考图像输入到神经网络，该第一图像和参考图像表示使用不同图像捕获条件而捕获的图像。执行神经网络以响应于第一图像而生成...

一种用于光刻设备的热调节系统，所述热调节系统包括：主体，所述主体包括用于调节流体的流动的调节通道，所述调节流体用于对所述主体和/或由所述主体支撑或支撑所述主体的部件热调节；和供应连接件，所述供应连接件被配置成将所述调节流体供应到所述主体...

提供了一种用于光刻设备的冲洗系统，所述冲洗系统包括气体出口，气体出口被配置为以预定速率阻塞通过气体出口的气流。还提供了一种冲洗光刻设备的方法，该方法包括：提供通过光刻设备的气流；以及操作来自光刻设备的气体出口，使得气流被阻塞通过气体出口。

公开了一种使用遮蔽装置来控制衬底处的曝光剂量的方法，该遮蔽装置包括第一板和第二板。该方法包括：在遮蔽装置处提供辐射脉冲以曝光衬底；通过沿相对于狭缝中心的第一方向移动第一板，并且沿第二5方向移动第二板来曝光衬底处的曝光区域，其中第二方向与...

本文中公开了一种计算机系统，所述计算机系统被配置成：使用依赖于掩模版在第一时段期间的第一状态的边界条件来对所述掩模版在所述第一时段期间的变形进行建模；使用依赖于所述掩模版在第二时段期间的第二状态的边界条件来对所述掩模版在所述第二时段期间...