本文中描述的实施例包括引导平台和光刻系统，所述光刻系统被配置成通过控制物镜的位置来测量物镜在引导平台上的位置。所述引导平台可以包括挠曲件，当所述物镜被定位以提高所述物镜的整体聚焦准确度时，所述挠曲件减小所述引导平台在z轴上的刚度。挠曲引...

本文中公开一种光源，所述光源被布置成照射光刻设备中的图案形成装置的非图案化表面，其中，所述光源被配置成使得响应于来自所述光源的照射，所述非图案化表面由于光电效应而发射电子。有利地，当所述非图案化表面带电时，可以使所述非图案化表面在所述非...

一种方法包括产生材料的连续流，以及通过向流施加变化的光、变化的电流或变化的电子束来周期性地加热流以控制流分裂成段。流可以在喷嘴的孔口附近的单个位置处被周期性地加热。该材料可以是适于在处于等离子体状态时发射EUV辐射的材料。还公开了一种实...

公开了一种用于夹持衬底的衬底处理系统。该系统包括：衬底夹具，该衬底夹具包括多个突节，该多个突节包括各自的远端，该远端形成被配置为支撑衬底的衬底支撑表面。该系统还包括第一喷嘴，该第一喷嘴被配置为输出气体以至少部分地围绕突节；和第二喷嘴，该...

本文公开了一种用于检测样品(550)的带电粒子束检测装置以及带电粒子束调节技术，更具体地说，公开了一种带电粒子束非接触式电表征技术(例如，用于缺陷检测)。该带电粒子束装置包括：带电粒子源(503)，其被配置为发射初级带电粒子束(505)...

本公开涉及剂量控制系统。一种控制装置包括：被配置为控制曝光束中的能量的量的功率控制器；以及跟踪模块，该跟踪模块被配置为：确定移动穿过曝光束的区域在处于曝光束中时该区域的累积能量的量；预测在离开曝光束之前该区域的累积能量是否会超过剂量限值...

本文公开了一种计算机系统，所述计算机系统被配置成：控制利用处于冷状态中的掩模版对第一衬底执行的光刻过程；依赖于所述第一衬底的检查来确定所述光刻过程的一个或更多个性能指标；依赖于所述一个或更多个性能指标来确定所述掩模版的夹持引发的变形模式...

本发明提供了一种用于朝向样品投影多束带电粒子的带电粒子装置。该装置包括多个源，被配置为沿着包括多个带电粒子束的束栅格的相应路径朝向样品发射带电粒子的相应源束。该装置还包括一个或多个元件，其中限定了孔径阵列。一个或多个元件分别包括分派给单...

系统和装置可以包括至少三个导体，该三个导体包括与底盘电隔离的第一导体，该第一导体被电连接到AC电源的节点，该AC电源的节点被电连接到地参考，并且该第一导体被配置为提供用于由EMI滤波器生成的噪声电流流向AC电源的路径，以使噪声电流能够传...

电子束源被配置在超高真空室中。气体分子被防止通过差分孔径系统到达电子源的发射尖端。差分孔径系统可以包括至少一个孔径板，至少一个孔径板被配置为将真空室的区域与放气源密封隔开，使得气体分子可以仅通过至少一个孔径板中的孔从源到达区域。

公开了一种改进的磁透镜冷却系统。磁透镜组件可以包括线圈、包含线圈的外壳以及与外壳隔离的极片，使得在外壳与极片之间存在间隙。其中该磁透镜组件能够被配置为在该间隙中具有真空压力。

一种极紫外(EUV)光源靶标发生器包括：细长的通道，聚结前液滴能够沿着该通道行进，该通道被通道壁围绕；位于通道壁中的窗口；以及被定位为接收通过窗口透射的光的聚结前液滴检测模块，聚结前液滴检测模块包括：被配置为收集和透射通过窗口接收的光的...

本发明描述多种训练方法和一种掩模校正方法。所述方法之一用于训练机器学习模型，该机器学习模型被配置成预测用于掩模的优化后邻近效应校正（OPC）图像。所述方法涉及：获得（i）与待印制于衬底上的设计布局相关联的优化前邻近效应校正图像、（ii）...

系统、装置和方法包括一种检测器，该检测器包括多个检测元件，该多个检测元件包括硅基板的一部分，包括：硅基板的该部分的正面，该正面包括PIN二极管或NIP二极管，该二极管包括p型区和n型区；硅基板的该部分的与正面相对的背面，该背面包括在低温...

公开了一种用于检测辐射的检测器。在一种布置中，该检测器具有感测元件，该感测元件包括半导体传感器衬底(402)并且被配置为使得目标辐射的入射在传感器衬底中生成电荷载流子。读出电路系统响应于在传感器衬底中生成的电荷载流子而提供输出。传感器衬...

通过以下步骤来生成用于支撑晶片的衬底台的表面部分中的突起的图案：提供排斥周界电势，该排斥周界电势作用在支撑平面中并且包括外部周界电势，该外部周界电势被分配给围绕表面部分的外部周界点；提供突起的初始分布，每个突起在表面部分中具有可变突起位...

一种被配置成放大激光束的光学放大器，所述光学放大器包括：所述激光束的光学路径，所述光学路径包括第一部分和第二部分；和反射器，所述反射器被配置成反射所述激光束，以便在所述光学路径的所述第一部分与所述第二部分之间引导所述激光束，所述反射器被...

一种量测系统可以包括照射系统、相机和分析器系统。所述照射系统朝向目标发送照射。所述照射具有与对应的多个调制频率相关联的多个照射参数。所述相机从所述目标接收散射照射，并且按照所述相机的每个像素生成用所述多个调制频率的识别标志编码的测量信号...

一种光学系统包括至少一个位置传感器和可调节光学器件，并且被布置为接收辐射束并且将辐射束指引到照射区域。至少一个位置传感器可操作以确定光学系统的部分的位置。可调节光学器件被配置为取决于光学系统的部分的经确定的位置来控制所接收到的辐射束的光...

本公开涉及一种带电粒子装置，其用于向样品投射多束的带电粒子。在一种布置中，样品支撑件支撑样品。带电粒子光学设备沿着多个路径向样品投射多束的带电粒子的束。该设备包括多个带电粒子光学元件，该多个带电粒子光学元件限定物镜，并且在该多个带电粒子...