公开了一种相位生成载波询问器，包括：一个或更多个干涉仪，每个干涉仪能够操作以接收调制辐射并生成相应的干涉仪信号，所述干涉仪信号包括由被测对象引起的感兴趣相位，每个所述干涉仪信号还包括由所述调制辐射引起的周期性相位调制，其中，周期性相位调...

一种光刻图案形成装置污染控制系统，包括：支撑结构，所述支撑结构被配置成支撑图案形成装置；和电子束源，所述电子束源被配置成发射电子束，使得所述束的至少一部分在EUV曝光期间入射在由所述支撑结构支撑的图案形成装置的图案化面上。

一种流体处理系统包括：液体限制结构，被配置为将浸没液体限制到液体限制结构的至少一部分和衬底的表面之间的空间，液体限制结构具有在其中形成用于辐射束通过的通路的孔，以通过穿过浸没液体来辐照衬底的所述表面；以及诊断工具，被配置为检测流体处理系...

本文中描述的（多个）量测系统和（多个）方法消除了对常用于现有量测系统中以确定用于对衬底成像的聚焦位置的分开的聚集分支的需要。使用集成的光子传感器而不是使用单独的聚焦分支来确定所述聚焦位置。所述集成的光子传感器基于变迹式光栅耦合器，其中，...

本公开涉及电子光学元件和用于评估电子光学元件的方法。在一种布置中，电子光学元件包括衬底，该衬底限定在两个平面表面之间延伸穿过衬底的至少一个孔。平面表面中的至少一个平面表面包括形成在平面表面上或平面表面中的多个标记。至少一对相邻标记的中心...

一种传感器设备包括传感器阵列和被耦接至所述传感器阵列的量测平台。所述传感器阵列包括多个传感器。所述传感器阵列中的每个传感器被配置为将辐射照射到衬底（202）上的衍射目标（204），并且检测包括从所述衍射目标反射的衍射阶子束的信号束（29...

本公开涉及用于向样品投射带电粒子的带电粒子装置以及使用带电粒子评估样品的方法。带电粒子光学元件朝向样品引导带电粒子束。带电粒子光学元件包括板，在该板中限定有束孔和多个透气孔。束管限定内管体积，该内管体积包括束的带电粒子的在板的束上游的路...

本文描述的量测系统和方法消除了对现有量测系统中常用的单独聚焦分支（例如包括照射源、若干透镜和许多其他光学部件）的需要，以确定用于对衬底成像的聚焦位置。代替使用单独的聚焦分支，本系统和方法使用在使用现有感测部件的量测测量的正常过程中从所述...

描述了一种用于线性致动器的冷却系统。所述系统包括缠绕电线圈和冷却板。所述电线圈被配置成被通电以为所述线性致动器提供电磁力。所述电线圈被配置成环绕所述线性致动器的电枢。所述冷却板与所述电线圈成热接触且被配置成冷却所述电线圈。多个单独的冷却...

本公开涉及一种具有低串扰的多带电粒子射束设备。公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器(140)上的电光系统...

一种光子集成电路，包括：光学输入装置，所述光学输入装置被配置成接收泵浦辐射；和多个非线性元件，所述多个非线性元件被连接至所述光学输入装置。所述多个非线性元件被配置成在接收到所述泵浦辐射时生成宽带辐射。所述多个非线性元件中的至少两个非线性...

公开了用于同时获取且呈现多种类型的对准信息的设备和方法，其中，光瞳被划分且来自所述光瞳的辐射在空间上被分离。在一些版本中，所述对准信息是在基于图像的系统中同时被呈现的一阶衍射信息和偏振通道强度信息。

本公开提供一种用于夹持物体的静电夹具，包括：电极层；第一隔离层，所述第一隔离层包括被布置于所述电极层的顶部上的电隔离柔性材料，所述第一隔离层具有第一厚度；第一屏蔽层，所述第一屏蔽层包括被布置于所述第一隔离层的顶部上的导电材料，所述第一屏...

披露了一种制造光纤的方法，所述光纤包括外部护套和限定中空芯部的多个毛细管。所述方法包括：获得光纤制造中间产品；和从所述光纤制造中间产品拉伸光纤。所述拉伸使得经拉伸的光纤中的每个毛细管的光纤级毛细管壁厚度小于200 nm，并且在所述拉伸期...

公开了一种制造光纤的方法和制造光纤中间产品。该制造光纤中间产品包括：外护套；以及多个毛细管，其中所述毛细管包括大于0.90的毛细管内径与毛细管外径的中间级毛细管直径比率，并且其中所述中间级的每个所述毛细管的标称壁厚度大于1500nm。该...

一种用于校正通过利用带电粒子扫描样品并且检测从样品发射的信号带电粒子而生成的扫描数据的方法，该方法包括：选择用于扫描样品的至少一个扫描轮廓(50)；以及基于与所选择的至少一个扫描轮廓相关联的至少一个已知失真函数f(x,y)来校正(74)...

一种被配置为在光刻设备中支撑衬底的衬底支撑件，包括：第一周向壁（31），所述第一周向壁具有第一高度；第一排放部（12），在第一周向壁的径向外部并被配置为抽取流体；第二周向壁（32），具有第二高度并在第一开口的径向外部；第二排放部（119...

一种用于训练图案化过程模型的方法，所述图案化过程模型被配置成预测将形成在图案化过程上的图案。所述方法涉及：获得与期望的图案相关联的图像数据，衬底的测量图案，包括第一参数集合的第一模型，和包括第二参数集合的机器学习模型；和迭代地确定所述第...

一种极紫外(EUV)源包括：至少部分地包围以下体积的源容器：当在使用中时，EUV光在该体积中由收集器沿着光轴从主焦点传输到中间焦点；轴，该轴具有从该轴的第一端延伸到第二端的长度，该轴包括通道，该通道至少部分地沿着该轴的长度延伸，该轴的第...

公开了用于确定套刻的系统、方法和计算机软件。一种方法可以包括对一组扫描电子显微镜(SEM)图像执行成分分析，以获取一个或多个被选择成分的系数，其中该组SEM图像包括多层图像。可以基于该系数确定多层图像的套刻(OVL)。