公开了用于使用多光束设备进行图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法包括通过使用多光束设备的同轴光束获取第一扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还包括通过使用多光束设备的离轴光束获取第二SEM图像。该方法还包括通过使用第一SEM图像...

一种用于向样品投射多个带电粒子束的电子光学投射装置，该装置包括：包括束引导元件的板堆叠体，该束引导元件被配置为将多个带电粒子束向样品上的样品位置投射，其中堆叠体的至少一个板包括平面光学构件，该平面光学构件被配置为将刺激光向样品位置引导，...

一种识别包括多个模块的系统中的一个或多个故障的计算机实现方法，每个模块具有相应的一个或多个故障模式。该方法包括提供多个测量值作为人工神经网络的输入，该人工神经网络至少具有第一隐藏层和第二隐藏层以及输出层，每个层包括相应的多个节点。该方法...

一种校准带电粒子光学设备的模数转换器ADC的方法包括：针对ADC中的每个ADC，提供由ADC输出的源自样品检测到的带电粒子的图像数据；针对ADC中的每个ADC，根据由ADC输出的图像数据的分布计算至少一个统计值；以及基于所计算的至少一个...

一种光刻图案形成装置污染控制组件，包括：支撑结构，所述支撑结构被配置成支撑相对于接地浮动的图案形成装置；遮蔽设备，所述遮蔽设备被配置成选择性地遮蔽所述光刻图案形成装置，所述遮蔽设备被连接至接地；气体供应件和离子化装置，所述气体供应件被配...

公开了一种照射配置模块，包括：偏振和波长分离装置，能够操作以将输入宽带照射至少分离为包括第一偏振态的第一色散照射和包括第二偏振态的第二色散照射；单个空间光调制设备，能够操作以单独地调制第一色散照射和第二色散照射中的每个色散照射，以获取第...

本文描述了一种使用与图像相关联的缺陷图进行管芯到管芯(D2D)图像对准的方法。该方法包括访问与不同的图像捕获条件相对应的衬底的图像集。获得图像集上的各种缺陷的位置，并且生成指示缺陷中的至少一些缺陷的相对位置的缺陷图。使用缺陷图将图像集彼...

一种用于从待清洁的表面移除污染粒子的清洁装置。所述清洁装置包括被配置成发射氧气且由此氧化所述污染粒子和所述待清洁的表面的氧气源。所述清洁装置包括被配置成发射电子且由此使经氧化的污染粒子和所述待清洁的表面带负电荷的电子源。所述清洁装置包括...

测量在量测系统中的聚焦位置的系统和方法，包括：将光学元件引入量测系统的测量臂中，光学元件被配置和布置成通过将正散焦添加到量测系统的像平面中的至少两个不同位置中的第一位置，并将负散焦添加到至少两个不同位置中的第二位置，来修改至少两个不同位...

公开了一种粒子束检查装置，更特别地，公开了一种用于图像增强的检查图像的同时聚焦和图像对准的方法。用于增强检查图像的方法包括：针对包含图案的样品区域，根据多个聚焦条件获取多个检查图像；确定多个检查图像中的检查图像是否具有第一阈值范围内的聚...

描述一种用于预测用于制造集成电路的制造过程的所关注的参数的方法。所述方法包括：获得与所关注的参数相关的量测数据；将第一预测子模块应用至所述量测数据以获得非异常预测数据；检测所述量测数据中的异常（例如，使用异常检测模块）；将所述异常划分成...

公开一种读出检测布置的方法，所述检测布置按照多个像素来限定检测区域。方法包括在所述检测布置上接收散射辐射；至少基于所述散射辐射的测量参数来将检测区域划分为至少两个不同的感兴趣区；以及对每个所述感兴趣区采用相应的不同读出方案，以便读出所述...

公开了用于减小由掩模装置导致的晶片图案化误差的系统、方法和计算机软件。一种方法（300）可以包括获得具有与经优化的光瞳（322）相关联的第一部分（324）的第一掩模设计（310），其中，所述经优化的光瞳由源‑掩模优化过程（320）产生。...

一种用于测试设备阵列的方法，每个设备在两个电极之间具有电连接，这两个电极能够由施加到控制元件的信号控制，该方法包括：将参考电势施加到每个设备的两个电极中的第一电极；将带电粒子束引导到每个设备的两个电极中的第二电极上；变化施加到每个设备的...

一种粒子转移系统，包括：粒子捕获设备，所述粒子捕获设备被配置为捕获多个粒子；以及粒子输送结构，所述粒子输送结构被配置为将所述粒子从所述粒子捕获设备并行输送到衬底。在一方面中，所述粒子转移系统被包括于用于在衬底上产生图案的图案形成系统中。

一种光刻装置，包括用于反射辐射的反射器。反射器包括主体、布置在主体上的反射表面和形成在主体中用于输送流体的通道。光刻装置包括控制器，该控制器被配置为调整通道中的流体的压力以控制反射表面的变形并从而控制光刻装置的套刻。

公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为...

公开了一种方法、计算机程序和系统，其中一种方法包括表征在来自光刻模拟的图案的特征内的预测结果的深度变化。所述方法评估所述深度变化表征且基于所述深度变化评估来选择图案或量规。在一些实施例中，所述评估可以基于具有所述深度变化的空间图像（AI...

一种用于带电粒子光学模块的带电粒子光学元件，所述带电粒子光学模块被配置为沿着至少一个束路径引导带电粒子，所述带电粒子光学元件包括：基板，包括至少一个孔，所述至少一个孔用于所述至少一个束路径从其通过；至少一个电子部件，以提供所述基板的部件...

本文公开了一种用于确定衬底支撑件的流体提取系统的至少一个操作特性的独立质量评定系统，该合格评定系统包括：提取支持系统，该提取支持系统被配置为支持由流体提取系统进行的两相流体提取；以及测量系统，该测量系统被配置为根据两相流体提取来确定流体...