一种系统，包括第一容器和第二容器。第一容器接收图案形成装置并在第一容器内维持预定环境。第二容器接收第一容器并在第二容器内维持真空。第二容器包括凸缘、第一端和第二端。凸缘位于第二容器的外部。第二容器可以经由凸缘而被夹持和运输。第一端包括真...

在一些总体方面，使用一种方法清洁极紫外(EUV)光源的腔室内的结构的表面。该方法包括生成存在于邻近腔室内的非导电体的位置处的材料的等离子体状态。该材料的等离子体状态的生成包括在邻近非导电体的位置处电磁感应出电流，从而将邻近非导电体的材料...

本文中揭示了一种光刻设备，包括：照射系统，所述照射系统用于沿着射束路径提供EUV辐射射束；用于图案化装置的保持器，所述图案化装置被配置成将图案赋予所述辐射射束，所述图案化装置包括其上具有图案的图案化表面；和电子射束源，所述电子射束源被配...

本公开涉及一种用于操纵一个或多个带电粒子束的电子光学堆叠及其相关装置和方法。在一种布置中，多个电子光学板具有位于板的相对侧的主表面。板限定通道集合，该通道集合被配置为沿着带电粒子束的束路径对准，以允许带电粒子束经由通道穿过板。每个通道在...

本公开提供了一种真空台，包括：台，具有用于支撑衬底的顶表面，顶表面设置有至少两个压力区，每个压力区连接到相应的真空连接器以提供降低的压力，压力区中的至少一个设置有跨顶表面在径向方向上延伸的槽。相应的压力区可以包括连接到相应的真空连接器并...

披露了一种用于生成输出宽带辐射的宽带辐射源，包括串联布置的多个超连续谱生成级，每个所述超连续谱生成级包括相应的非线性生成元件。所述多个超连续谱生成级包括至少第一超连续谱生成级和第二超连续谱生成级，在所述串联中，所述第二超连续谱生成级在所...

一种用于在接收到泵浦辐射时生成宽带辐射的辐射装置，包括：光波导，所述光波导具有沿所述光波导的纵向轴线的中空芯部；其中所述光波导被配置成将所述泵浦辐射大致限制在所述中空芯部内；工作介质，所述工作介质包括具有永久偶极矩的分子，包括在所述光波...

本发明公开一种用于标示与一个或更多个机器相关的时间序列数据的方法。所述方法包括：获得所述时间序列数据；分割所述时间序列数据以获得根据图案相似性分组的多个图案；标示所述多个图案的子集以获得经标示的图案子集，所述多个图案中的剩余图案包括未标...

公开了一种用于控制用于产生极紫外(EUV)辐射的源系统中的液滴生成器的喷嘴孔口周围的环境的设备和方法，其中控制喷嘴孔口环境中的含氧气体的量以减少可能潜在地干扰液滴生成器的操作的氧化物的形成。

使用带电粒子束装置对样本进行成像的系统和方法被公开。该带电粒子束装置可以包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为生成初级带电粒子，该初级带电粒子形成沿主光轴的初级带电粒子束；以及带电粒子检测器，该带电粒子检测器包括带电粒子敏感材料的多个同...

提供了一种具有用于电子源的改进的真空腔的电子源组件。该电子源组件包括电子源，该电子源具有发射器尖端，电子在该发射器尖端处被生成。该电子源还包括真空腔，该真空腔被配置为封闭该电子源，并且包括在该真空腔的内表面上的排气阻挡涂层。该真空腔已经...

一种载物台，包括：基部，所述基部具有平坦表面；衬底支撑件或图案形成装置支撑件，所述衬底支撑件或图案形成装置支撑件包括夹具和一组突节，所述突节从所述夹具延伸且具有邻近于所述基部的所述平坦表面的远端；其中，所述载物台还包括：顺应层，所述顺应...

一种EUV利用系统，包括辐射源，所述辐射源包括驱动激光器，驱动激光器被配置成生成用于辐照燃料且由此生成极紫外辐射的驱动激光辐射。所述EUV利用系统包括EUV利用设备，所述EUV利用设备被配置成接收被引导通过位于所述辐射源与所述EUV利用...

一种方法包括：通过将夹具的第一层和第二层加热到至少700℃的保持温度来结合所述第一层和所述第二层；在保持时间周期期间将所述第一层和所述第二层维持在所述保持温度；和在所述保持时间已经过去之后以最大20℃/小时的冷却速率将所述第一层和所述第...

一种致动器阵列，包括多个致动器单元（AC），每个致动器单元包括：至少一个致动器（ACT）；开关组件（SA），开关组件被配置成将电力切换到致动器；以及控制电路（CC），控制电路被连接到开关组件并且被配置成控制开关组件，并且具有串行控制输入...

提供一种表膜隔膜，包括由基质支撑的热发射晶体，其中，所述表膜隔膜的平均厚度大于所述发射晶体的平均晶粒度。也提供一种包括这种表膜隔膜的表膜组件，和一种包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备。也描述一种制造在基质中包括发射晶体的表膜隔膜的方法...

一种用于通过在样品上扫描带电粒子束来标识样品中的候选缺陷的带电粒子评估方法；该方法包括：使用带电粒子评估装置从样品的第一区域获取第一参考图像并且从样品的第二区域获取第二参考图像；使用带电粒子评估装置从样品的第三区域获取样品图像；以及将样...

描述了一种量测系统。超构表面被用于替换（或增强）现有物镜，以聚焦诸如光等辐射，调谐焦距，和/或校正量测系统中的像差。超构表面被配置为接收来自辐射源的衍射的入射辐射束，其中衍射的入射辐射束具有已知的波长范围，并且配置成透射与衍射的入射辐射...

本公开提供了一种公开了一种用于控制包括光子晶体光纤（PCF）的宽带光源的输出模式的模式控制系统和方法。模式控制系统包括：至少一个检测单元，被配置为测量从宽带光源发射的辐射的一个或多个参数以生成测量数据；和处理单元，被配置为通过所述测量数...

提供一种掩模版或掩模版坯料，所述掩模版或掩模版坯料包括低变形材料，其中，所述掩模版或所述掩模版坯料材料具有过零温度（ZCT）分布和ZCT斜率轮廓，其中，所述ZCT分布和所述ZCT斜率轮廓中的至少一种为非均一的。也提供一种减轻掩模版或掩模...