本文中描述了用于将来自一个集合的图案选择至另一集合的方法和系统。获得在图案表示空间中被表示的第一图案集合和第二图案集合。对于所述第二图案集合中的每个图案，确定指示位于所述图案表示空间中的相应的图案与所述第一图案集合中的图案之间的相似性的...

一种用于浸没式光刻设备的流体处理结构，该流体处理结构被配置为将浸没液体限制在流体处理结构的底表面与衬底和/或支撑衬底的衬底支撑件的表面之间的空间中，该结构具有：具有在底表面中由多个边限定的基本多边形形状的特征；开口，被配置为向空间供应浸...

用于测量光场的波前像差的波前感测技术被描述。与现有的系统相比，该波前感测技术成本较低，能够被用于同时测量轴上辐射或轴外辐射，没有相同严格的对齐要求，并且不需要相同的波前计算重建。该波前感测技术利用对来自多个轴上和轴外同时针孔辐射透射的镜...

本文描述了一种用于选择用于处理图像的阈值以确定图案的特性的方法。该方法包括访问图案的图像表示以及使用不同的阈值生成图案的特征的多个二维(2D)轮廓，其中2D轮廓中的每个2D轮廓对应于相应的阈值。2D轮廓被评估以确定2D轮廓的KPI值，并...

一种静电掩模板夹具包括：介电体、电极、多个突节、导电涂层、电源以及控制器，该电极被配置为向介电体的第一侧施加电荷以将掩模版静电夹持在介电体的第二侧上，该多个突节位于介电体的第二侧上并被配置为接触掩模版，该导电涂层设置在突节的子集的表面上...

公开了一种用于拓扑优化的对准标记的逆设计方法。产生用于衬底上的第一对准标记，使得第一对准标记具有至少两个具有不同特性的像素的拓扑。确定至少两个像素中的每个像素的一个或多个特性。基于至少两个像素的一个或多个特性来优化第一对准标记的拓扑。基...

提供了用于收集器流动环(CFR)壳体的系统、设备和方法，收集器流动环(CFR)壳体被配置为减轻燃料碎屑在极紫外(EUV)辐射系统中的积聚。示例CFR壳体可以包括多个喷头流动通道出口，该多个喷头流动通道出口被配置为在CFR壳体的等离子体面...

一种光刻设备包括照射系统、投影系统和检查系统。检查系统包括宽带辐射系统、光学系统、波长分离器系统和检测器系统。宽带辐射系统产生源辐射，该源辐射具有分布于检查系统的操作带宽内的窄带波长的第一集合和分布于操作带宽内的窄带波长的第二集合。第一...

一种用于光刻装置中的流体处理系统的气体供应模块，气体供应系统包括：加湿器，该加湿器具有加湿器输入和加湿器输出；第一导管，该第一导管被配置为将气体引导到加湿器输入；第二导管，该第二导管被配置为向流体处理系统供应加湿气体；控制阀，该控制阀被...

本文中描述关于改善与芯片的制造相关联的模拟过程和解决方案（例如，重定目标图案）的方法。方法包括获得多个剂量‑焦距设置、和基于与所述多个剂量‑焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布。所述方法还包括基于调整模型和所...

一种辐射系统，被配置为产生辐射并且包括液滴发生器（3）、激光系统和控制系统，液滴发生器（3）被配置为产生朝向等离子体形成区域行进的燃料液滴，激光系统操作以生成预脉冲（PP）和主脉冲（MP），其中预脉冲被配置为调节液滴以接收主脉冲，并且其...

本文公开了一种被配置为支撑衬底的衬底支撑装置，该衬底支撑装置包括：具有用于衬底的基本平面的支撑表面的衬底支撑件；以及包括一个或多个衬底成形器件的衬底成形系统；其中每个衬底成形器件相对于衬底支撑件可移动；并且其中当衬底设置在支撑表面上时，...

一种用于光刻装置的图案化设备环境的流体喷嘴包括具有上表面和下表面的细长结构、设置在细长结构的下表面中的至少一个下部开口、以及连接到至少一个下部开口的导管，至少一个下部开口被配置为提供经由导管输送的流体流。

本文所公开的实施例涉及使用并行传感器概念并行测量多个标记的量测装置和方法，该并行传感器概念在空间中几何布置传感器，以允许并行获取。选择器可以被配置为阻挡标记的象限，以便生成图像。可以比较所获取的图像之间的强度差并将其平衡，使得非相干内部...

描述了用于光学部件的拆分系统。光学部件包括安装件和在联接位置处联接到该安装件的光学器件。该系统包括导热销，该导热销被配置成在联接位置处接触光学部件并且提供定向导热，以引起光学器件与安装件在结构上分离。该系统还包括加热器和壳体，该加热器被...

一种光刻设备（100）包括：限定环境（401）的外壳（400），其中该环境包围表面（402），其中外壳被配置为容纳等离子体；微波发生器（410），被配置为将微波辐射（411）提供到外壳中；磁源（420），被配置为生成邻近表面的磁场，该磁...

一种光刻设备包括照射系统、投射系统和检测系统。照射系统照射图案化装置的图案。投射系统将图案的图像投射到衬底上。检测系统包括平行布置的传感器、和衬底支撑结构。传感器对衬底上的目标执行检查，并且在检查之间的时间段期间在第一方向上移动。衬底支...

一种带电粒子束检查方法包括在多个不同的信号采集模态下测量样品。每个模态可以包括不同检查参数集合，这些检查参数可以针对诸如高分辨率或高采集速度等不同的目的进行优化。可以使用解卷积或其他优化任务来组合来自不同的信号采集模态的测量以形成合成图...

公开了一种衬底，包括至少一个目标，所述目标包括：在顶层中的参考子结构；和在位于所述顶层下方的掩埋层中的掩埋子结构。所述掩埋子结构包括在至少一个方向上的非恒定节距，如波带板，所述非恒定节距促使作为对所述目标的测量的结果的被从所述子结构反射...

本申请题为“用于在带电粒子束设备中对晶片进行热调节的系统和方法”。公开了一种改进的粒子束检查设备，并且更具体地公开了一种包括用于预调节晶片的温度的热调节站的粒子束检查设备。带电粒子束设备可以扫描晶片以测量晶片上的结构的一个或多个特性并且...