一种衬底保持器，被配置为支撑用于在浸没光刻装置中曝光的衬底，衬底具有相对于浸没液体的第一接触角，衬底保持器包括：包围结构，包围结构包围衬底，并且在被衬底保持器支撑时与衬底共面，包围结构包括表面结构以及在表面结构下方的电极结构，其中表面结...

描述了用于各种量测标记类型的广谱量测。所述系统和方法利用诸如空间光调制器(SLM)等调制器。对准标记通过成像透镜投射到SLM上。所述SLM上的图案序列调制所述传入图像和由收集透镜收集的所有反射能量，时变信号可以从单个检测器或者检测器阵列...

公开了一种照射源，其包括具有气体喷嘴的气体递送系统。气体喷嘴包括在气体喷嘴的出口平面中的开口。所述气体递送系统被配置成从所述开口提供气流以用于在相互作用区域处产生所发射的辐射。该照射源被配置成接收具有传播方向的泵浦辐射并且在气流中提供该...

公开了提供了一种用于对准衬底的系统和方法。该系统包括：可旋转支撑单元，其能够在竖直方向上移动；和对准支撑件，其与可旋转支撑单元共位。可选地，对准支撑单元至少部分地围封可旋转支撑单元。

描述了包括热交换器的基于气体的激光器，热交换器用于将压缩气体从第一温度冷却到低于所述第一温度的第二温度，其中所述热交换器包括至少两个热交换元件，其特征在于，至少两个热交换元件中的第一热交换元件被布置成将压缩气体从第一温度冷却到低于所述第...

提供了一种用于光刻设备的防护膜隔膜，所述隔膜包括未被覆盖的碳纳米管。还提供一种再生防护膜隔膜的方法，所述方法包括分解前体化合物，并且将至少一些分解产物沉积到防护膜隔膜上。还提供一种降低防护膜隔膜的蚀刻速率的方法，所述方法包括在防护膜隔膜...

披露了一种用于宽带光源装置的光学部件，该光学部件被配置为用于在接收泵浦辐射时产生宽带输出，并且该光学部件包括空芯光子晶体光纤（HC‑PCF）；和填充该HC‑PCF的气体混合物，其中，所述气体混合物包括至少一种第一气体和至少一种第二气体的...

一种相位生成载波询问器包括：复合多载波合成器，能够操作以生成用于对激光辐射源进行调制的至少一个激光调制载波信号；功率监测支路，能够操作以测量激光辐射源的功率度量；波长参考支路，包括用于激光辐射源的波长稳定的波长参考、以及用于测量所述波长...

公开了一种带电粒子光学元件。该元件用于带电粒子光学模块，该带电粒子光学模块被配置为将带电粒子沿至少一个束路径引导至样品。在一种布置中，该元件包括芯片，该芯片包括被形成在半导体衬底(61)中的集成电路(64)。该衬底限定至少一个孔径(63...

一种干涉仪系统包括提供光束的光源；光学系统，该光学系统用于将光束分成测量束和参考束，测量束和参考束各自具有不同波长，并且该光学系统被布置为将测量束引导到反射测量表面，将参考束引导到反射参考表面，并且重新组合反射测量束和反射参考束以提供反...

本发明提供了一种制造用于半导体处理装置的静电物体夹具的方法，该方法包括以下步骤：提供具有电介质衬底的电极；通过交替沉积以下层在电介质衬底的顶表面上沉积涂层：一个或多个导电基础层，以及一个或多个导电保护层；以及激光烧蚀涂层以在涂层中形成一...

公开了用于利用带电粒子束来辐射样本的系统和方法。带电粒子束系统可以包括平台，平台被配置为保持样本并且能够在X‑Y‑Z轴中的至少一个轴上移动。带电粒子束系统还可以包括用于确定平台的横向位移和竖直位移的定位感测系统以及束偏转控制器，束偏转控...

公开了一种装置以及这种系统的组件，该装置适于递送熔融靶材料(诸如锡)，该熔融靶材料将在极紫外辐射的源中被辐射并被转化，其中该组件被暴露于处于压力下的熔融靶材料，组件诸如过滤器的外壳，熔融靶材料通过的过滤器的外壳包括两种难熔金属(例如，钼...

本文公开了用于在光刻设备中使用的表膜支撑系统，所述系统包括：表膜；表膜支撑件，其被布置成相对于图案形成装置的表面固定所述表膜，使得在所述表膜与所述图案形成装置之间限定封闭区域；和至少一个管道，其被布置成向所述封闭区域供应流体以增加所述封...

一种用于确定由EUV辐射源提供的EUV辐射束的性质的传感器。该传感器包括：第一电极和第二电极，该第一电极和第二电极中的每个被配置为基本上围绕EUV辐射束的横截面。该传感器还包括电压源，该电压源被配置为在第一电极和第二电极的两端施加电势差...

描述了一种衬底对准装置。照射系统从辐射源接收源辐射束并将源辐射束朝向光瞳面引导。光学部件定位在光瞳面处，以将源辐射束的分量束朝向衬底上的多个对准标记引导。至少一个物镜模块置于光学部件和衬底之间，并且将分离束聚集在该多个对准标记的对应分离...

一种隔膜，该隔膜被配置成透射极紫外辐射，该隔膜包括被配置成吸收深紫外辐射的纳米结构，以及用于形成隔膜的方法。隔膜可以形成EUV光刻设备的一部分，例如作为光谱纯度滤波器、表膜组件或动态气锁组件的一部分。

本公开提供了一种控制致动器的方法，该方法包括以下步骤：以第一频率提供测量样本(x(t))的序列；(以第一频率)处理测量样本的序列以提供导数测量样本(x’(t),x”(t))的至少一个序列；将测量样本的序列和导数测量样本的至少一个序列下采...

提供了一种光刻装置和方法，该方法是在光刻装置的图案形成设备环境中将图案形成设备装载到支撑结构，该方法包括使用处理装置将图案形成设备和支撑结构置于一起，对将图案形成设备固定至支撑结构的夹具通电，然后分离处理装置和图案形成设备，其中在处理装...

本公开提供了一种操作和频激光器的方法，包括以下步骤：同时从第一光源发射具有第一频率的第一光束和从第二光源发射具有第二频率的第二光束；在第一方向上以匹配的调谐频率调制所述第一频率并且在相反方向上以匹配的调谐频率调制所述第二频率；以及将所述...