描述了一种简化用于对衬底成像的量测系统的光学部件阵列替换。更便宜且光学上相对简单的光学部件阵列取代了用于成像和/或其他量测操作的典型光楔。在一些实施例中，阵列中的光学部件中的两个光学部件被配置为在辐射传感器上的两个不同成像位置中创建两个...

一种用于光刻设备中的掩模版台夹具的掩模版台清洁设备，包括：基板，所述基板具有前侧和与所述前侧相反的背侧；和导电层，所述导电层设置在所述基板的所述前侧上。所述导电层被配置成接触所述掩模版台夹具以消散所述掩模版台夹具上的电荷且经由在所述导电...

公开了一种用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法和相关联的设备。该方法包括：获得描述衬底参数的空间变化的衬底测量数据；以及将模型拟合到所述衬底测量数据以获得经拟合的模型；其中，所述拟合步骤包括使用多个正则化参数来正则化拟合，所述多个正...

一种用于确定衬底高度测量误差的方法，所述方法包括：提供在给定频率下被调制的激光束，所述激光束具有波长和偏振；以相对于从所述衬底延伸的法线的锐角将经调制的激光束引导至所述衬底上；检测经调制的激光束在所述经调制的激光束已经从所述衬底反射之后...

一种装配EUV透射屏障的方法，所述EUV透射屏障包括：薄膜组件和框架。所述薄膜组件包括处于拉伸应力下的薄膜和围绕所述薄膜的周边延伸的边框。所述方法包括：使所述边框承受力和/或使所述框架承受力；通过设置在所述边框与所述框架之间的胶使所述边...

本公开提供了一种用于提供气体流出流的喷嘴，所述喷嘴包括：主通道；所述主通道在所述主通道的下游端处通向至少一个流量限制区段，每个流量限制区段具有用于产生均匀气体流的多个平行叶片；所述至少一个流量限制区段通向相应流出区段，所述相应流出区段具...

本发明提供了一种用于在真空环境中使用的管状声阻尼装置，该管状声阻尼装置包括：包括粘弹性材料的内导管，内导管具有要被连接到液体入口的第一端和要被连接到液体出口的第二端；包围内导管的外壳，外壳由气密材料制成，其中环形阻尼空间被形成在内导管与...

公开了一种照射配置模块，包括：包括交替的第一反射区和第二反射区的有源区，上述第一反射区和上述第二反射区包括在上述第一反射区与上述第二反射区之间的、在垂直于上述有源区的方向上的可配置位移，从而选择性地形成用于选择性地衍射入射到上述有源区上...

检测模块包括相敏放大器(PSA)和检测器。PSA接收从衬底的表面上的目标衍射的源信号。PSA还接收泵信号。PSA基于泵信号与源信号之间的相位发送放大信号。检测器接收放大信号，并且基于放大信号确定目标的对齐位置。

本文中描述了一种确定待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法。该方法包括：参考目标图案上的给定位置，将包括目标图案的设计布局的一部分划分成多个单元；在多个单元中的特定单元内分配多个变量，特定单元包括目标图案或目标图案的一部分；以及基于多...

公开了一种用于确定结合衬底叠层的对准的方法、衬底叠层和光刻设备。所述结合衬底叠层至少包括第一衬底和第二衬底，所述方法包括：照射复合对准结构，所述复合对准结构包括所述第一衬底上的第一衍射结构和所述第二衬底上的第二衍射结构；以及基于从对所述...

一种消音器，被配置为使热调节流体管道中的热调节流体中的声波消音。消音器包括：开放入口，被配置为连接到热调节流体管道以与热调节流体进行流体连通；消音器壳体，包括连接到开放入口的内腔；顺应性构件，被布置在内腔中，其中顺应性构件将内腔分成热调...

描述了多层量测系统和方法。现有技术被配置为测量量测目标的底部光栅(例如，套刻目标的单层光栅)，从而仅相对于半导体层堆叠体中的另一层来确定层(n)的参考位置。根据产品或层，本系统和方法被配置为促进层n在层n‑1或层n‑2上的对准(或这两者...

一种用于训练机器学习模型以产生预测的被测量图像的方法，包括：获得（a）与参考设计图案相关联的输入目标图像，和（b）与印制于衬底上的指定设计图案相关联的参考测量图像，其中所述输入目标图像与所述参考测量图像为未对准的图像；和通过硬件计算机系...

一种用于带电粒子光学设备的带电粒子光学模块，该带电粒子光学设备被配置为沿着射束路径将带电粒子束引向样品位置，带电粒子光学模块包括：叠层，其包括带电粒子光学板，该带电粒子光学板被布置为跨该射束路径并且被配置为对该带电粒子束进行操作；以及屏...

本文中公开了一种用于在光刻设备中对辐射进行图案化的掩模，该掩模包括：图案化表面，被布置成对辐射赋予图案；和波导结构，布置在图案化表面上；其中图案化表面包括：第一反射区域；和第二反射区域，被布置成使得从第二反射区域反射的辐射相对于从第一反...

一种电连接器包括：非导电柔性聚合物块；电导体，该电导体从非导电柔性聚合物块的第一端到第二端延伸穿过非导电柔性聚合物；和导电柔性聚合物套筒，该导电柔性聚合物套筒围绕非导电柔性聚合物块的侧面延伸。

一种用于确定输入的方法，该输入被输入至透镜模型，以在对衬底的多个场中的至少一个场进行寻址时，确定针对光刻设备的透镜的操纵的设定值，所述方法包括：接收针对至少一个场的参数数据，该参数数据与衬底的在至少一个场内的一个或多个参数有关，该一个或...

本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得（i）包括至少一个特征的目标图案，该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及（ii）多个偏差规则，该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度...

一种EUV辐射源，包括：激光器，所述激光器被配置成发射激光束；和光学系统，所述光学系统被配置成控制所述激光束的位置以使得所述激光束入射到燃料液滴上，其中，所述光学系统包括光学路径，所述光学路径包括具有至少500 Hz的控制带宽的位置可控...