可以提供一种用于带电粒子装置的检测器，包括感测元件，该感测元件包括二极管；和电路，该电路被配置为用于检测由电子撞击感测元件引起的电子事件，其中电路包括电压监测设备和复位设备，其中复位设备被配置为通过将跨二极管的电压设置为预定值来定期复位...

本发明提供一种用于光刻设备的掩模版平台，所述掩模版平台包括：至少一个光学元件，所述至少一个光学元件具有待清洁的区域；辐射束目标；以及控制系统，所述控制系统被配置成将辐射束引导至辐射束目标，其中，所述辐射束与气体的相互作用产生光学元件清洁...

一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个致动器，所述至少一个致动器用于使所述反射镜移位且所述至少一个致动器被连接至所述衬底；一个或更多个支柱，所述一个或更多个支柱将所述反射镜连...

本文中描述了用于产生量测标记结构的设备和方法，所述量测标记结构可以被形成在芯片上从而通过基于图案分布确定所述量测标记结构的特征来测量由对所述芯片执行的一个或更多个过程所引起的重叠特性。所述方法涉及获得第一函数以表征由对衬底执行的过程所引...

一种带电粒子装置，包括带电粒子源(401)和第一偏转器(421)，该第一偏转器(421)被配置为使带电粒子束偏转而以射束倾斜角度着陆在样品表面上，其中第一偏转器基本上位于物镜(411)的主平面处。在其他实施例中，该装置可以包括第一偏转器...

公开了一种光学成像系统和相关联的方法，该系统包括：载物台模块，其被配置为支撑物体使得物体的区域被照射束照射；物镜，其被配置为收集至少一个信号束，至少一个信号束源自物体的被照射区域；图像传感器，其被配置为捕获由物镜收集的至少一个信号束形成...

披露了一种量测方法。所述方法包括：测量与对量测信号的周围信号贡献相关的至少一个周围可观察参数，所述周围信号贡献包括不可归因于被测量的至少一个目标的对所述量测信号的贡献；以及根据所述周围信号可观察参数来确定校正。所述校正用于校正与使用测量...

本公开涉及量测方法和相关装置。公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置，特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号；以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置...

公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出...

公开了物镜阵列组件和相关方法。在一种布置中，物镜阵列组件将子射束的多射束聚焦在样品上。平面元件限定沿着子射束路径对准的多个孔径。物镜阵列将多射束朝向样品投射。平面元件中的一个或多个平面元件的孔径补偿多射束中的离轴像差。中的离轴像差。中的...

披露了一种用于将印刷于衬底上的图案的经测量图像与设计布局对准的方法。所述方法包括：获得待印刷于衬底上的图案的设计布局和印刷于所述衬底上的所述图案的经测量图像；执行仿真过程，以针对图案形成过程的多个过程条件产生所述设计布局的多个仿真轮廓；...

公开了一种确定量测过程的性能指标的方法，包括：获得第一测量数据，该第一测量数据与第一测量条件集合有关；以及基于所述第一测量数据来确定第一测量选配方案。根据所述第一测量数据的、从分量分析或统计分解获得的一个或多个分量来确定所述至少一个性能...

公开了一种用于标识衬底上的要检查位置的方法和装置。使用与其他衬底相关联的训练数据集来训练缺陷位置预测模型，以基于与衬底相关联的过程相关数据来生成缺陷预测或无缺陷预测、和与位置中的每个位置的预测相关联的置信度得分。将位置中的由缺陷位置预测...

本文中公开了一种夹持器，所述夹持器被配置成在光刻设备中传送衬底，所述夹持器包括：主体，所述主体具有用于与所述衬底的表面接合的一个或更多个接合部分；其中，所述主体的在所述一个或更多个接合部分与衬底接合时与所述衬底的区叠置的部分包括多个开口...

一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个...

披露了用于测量衬底上的衍射结构的量测设备和方法。所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源能够操作以提供第一辐射以用于激发所述衍射结构，使得从所述衍射结构和/或衬底产生高阶谐波的第二辐射；以及检测装置，所述检测装置能够操作以检测所述第二辐射，...

一种方法，包括：获得图案化过程的过程模型，所述过程模型包括或考虑用于图案化过程的多个设备的光学系统的平均光学像差；和应用所述过程模型以确定对所述图案化过程的参数的调整从而考虑所述平均光学像差。调整从而考虑所述平均光学像差。调整从而考虑所...

本文公开了一种用于电子光学装置列的电子光学组件，该电子光学装置列用于将带电粒子束沿着射束路径朝向目标投射，该电子光学组件包括：电磁屏蔽件，该电磁屏蔽件围绕带电粒子束路径并且被配置为将该带电粒子束与该电磁屏蔽件外部的电磁场屏蔽开；其中该电...

本文公开了用于将真空工具的馈通装置电连接到高压电源的连接器，连接器包括：连接器导线组件，其被配置为与高压电源电连接；以及包括通道的连接器绝缘体，通道被配置为延伸到连接器绝缘体中并且接收馈通引脚，以将连接器导线组件与馈通引脚电连接；其中连...

描述了一种用于源掩模优化(SMO)以提高图案化过程的扫描仪生产率的方法。所述方法包括：计算表示所述图案化过程的特性的设计变量的多变量成本函数。所述设计变量可以包括(a)作为所述照射源的特性的照射源变量，以及(b)作为所述设计布局的特性的...