公开了一种确定基板上应力源的存在的方法。该方法包括：获取描述基板上的结构在基板平面中的位置信息的基板位置数据；获取描述基板的形状的基板形状数据；根据基板位置数据确定第一翘曲值，第一翘曲值描述基板的翘曲；根据基板形状数据确定第二翘曲值，第...

一种具有静电夹具系统的光刻设备，包括：多个电极，所述多个电极被配置成对部件施加静电夹持力；电源，所述电源连接至所述多个电极；以及控制器，所述控制器被配置成控制被施加至所述多个电极的电位以与所述光刻设备中的辐射脉冲的生成同步地在第一模式与...

本发明提供一种用于光刻装置的电磁致动器中的待流体冷却的线圈，该线圈包括：线圈，由多个电绝缘的扁平线线圈导体形成，并且被配置为在使用期间传导电流以生成电磁场，以及至少一个与线圈导热接触的冷却流体通道，用于引导冷却流体流以从线圈带走热量，其...

公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法。更具体地，公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法，用于假定晶片上的不均匀缺陷密度或分布的情况下进行更精确的管芯损失预测。公开了一种用于优化检查工具采样计划的方法。更具体地，公开了一种用于优化晶...

公开了用于在光刻过程中对与衬底相关的衬底区域上的量测数据进行建模的方法。该方法包括：获得第一层模型数据，该第一层模型数据与被拟合到用于该衬底上的第一层的曝光的第一层量测数据和与该衬底上的第二层相关的第二层量测数据的第一模型相关，该第二层...

公开了一种执行用于检测计算模型行为的变化的方法的装置。该方法包括监测时间间隔内所选样本特征对缺陷管芯概率评估的贡献，确定所选样本特征的贡献是否超过时间间隔内的漂移阈值，以及基于超过漂移阈值的确定，重新训练计算模型。

公开了一种与衬底上的结构的测量相关的量测方法，该结构经历过程变化。该方法包括：获得第一测量数据，该第一测量数据与已经从一个或多个标记散射的测量辐射的相位相关并且与多个测量条件相关；获得第二测量数据，该第二测量数据与所述测量辐射的强度相关...

一种光刻装置，包括照射系统、图案化系统、投射系统和掩模版台。照射系统产生辐射的束。图案化系统将图案赋予在该束上。图案化系统包括掩模版。投射系统将图案化的束投射在衬底上。掩模版台包括用于支撑掩模版的掩模版夹具和用于支撑掩模版夹具的卡盘。卡...

一种用于宽带生成的空芯光纤和源组件，其中所述空芯光纤的中空芯部被填充有包括工作气体的气体成分。光纤被配置为在空芯光纤的输入端接收脉冲泵浦辐射，脉冲泵浦功率的脉冲功率超过气体成分的电离阈值。光纤被配置为通过光纤限制和引导脉冲泵浦辐射，使得...

本发明提供了一种确定电磁马达的位置相关马达常数的方法，所述电磁马达包括磁体组件和线圈组件，所述磁体组件和所述线圈组件被配置为在移动方向上相对于彼此移位，所述方法包括：使所述磁体组件相对于所述线圈组件以基本上恒定的速度在所述移动方向上沿着...

一种宽带辐射装置，包括HC‑PCF，所述HC‑PCF包括：中空芯部，所述中空芯部沿所述HC‑PCF的长度延伸，以用于在使用中限制处于一压力下的工作介质；输入端，所述输入端能够操作以接收脉冲式泵浦辐射；和输出端，所述输出端能够操作以发射宽...

用于对检查工具进行校准的系统、装置和方法。系统、装置和方法可以包括在可替换参考样品被固定到成像系统的台之后：基于成像系统对参考样品的扫描来对成像系统的参数进行校准；以及在对成像系统的参数进行校准之后，对样品进行扫描，5其中样品包括参考样...

一种消音器被配置成在目标频率下使热调节流体中的声波消音。所述消音器包括：敞开式入口，所述敞开式入口连接至热调节流体导管以与所述导管中的所述热调节流体进行流体连通；封闭端，所述封闭端用于反射所述热调节流体中的所述声波；以及消音器导管，所述...

公开了一种用于确定用于在光刻过程中将图案成像在衬底上的光瞳轮廓的方法和系统。获得指示遍及光瞳平面的光刻性能变化与源变化之间的关系的数据，基于该数据优化第一光瞳轮廓以生成第二光瞳轮廓。第二光瞳轮廓是与可以用于使用光刻设备将图案印制在衬底上...

现行的技术通常被配置为按顺序测量量测目标。过程时间用于加速和减速系统组件，以从一个目标移动到另一个目标。最近的并行测量系统包括传感器阵列，这些传感器被布置成与衬底上的量测目标布局匹配。然而，与现有技术相比，此类系统的组件使其庞大而复杂，...

本文中公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理结构。流体处理结构被配置为将浸没流体容纳到区域。流体处理结构在空间的边界处具有：被配置为将浸没流体供应到空间的至少一个开口；被配置为从该空间中提取浸没流体的提取器组件；相对于该空间在提取器组件...

一种消音器，所述消音器被配置成使热调节流体导管中的热调节流体中的声波消音，并且所述消音器包括：敞开式入口，所述敞开式入口被配置成连接至所述热调节流体导管以与所述热调节流体导管中的所述热调节流体进行流体连通；消音器壳体，所述消音器壳体包括...

本文描述了用于确定图案的特征之间的套刻的系统和方法。该方法包括获得具有多个特征的图像的表示。不包含对应设计布局中限定的任何目标特征的图像的上下文区域被确定，并且特征的套刻基于上下文区域的特性来确定。套刻与使用基于图像的非上下文区域的另一...

披露了一种预测光刻设备的性能的方法。所述方法包括：提供与已由所述光刻设备在一个或更多个衬底上曝光的多个场相关的校准数据，其中，场曝光时间、或相关参数针对所述多个场中的至少两个所述场而变化；基于所述校准数据来生成性能模型；以及使用所述性能...

本发明涉及一种带电粒子光学板，用于带电粒子光学装置，该带电粒子光学装置用于将带电粒子束沿束路径投射到样品位置。带电粒子光学板，包括：具有晶体结构的衬底，所述晶体结构具有晶体对称线；多个通道，被配置用于使束栅格的多个束路径穿过所述衬底；以...