清洁光刻装置的部分制造方法及图纸

从光刻装置的夹具清除污染颗粒被描述。已使用的夹具具有被污染颗粒污染的突节顶部，该污染颗粒需要在返回服务之前被清除。当前，为了完全清洁这样的夹具的突节顶部，覆盖突节顶部的硬且导电的涂层被剥离并且新鲜的涂层被施加。这需要将夹具从卡盘断开连接，剥离来自夹具的非突节区域的各种涂层，并且去除高电压连接。此后，高电压连接被重建，并且各种涂层被重新施加，然后使夹具合格。最后，夹具被重新连接到卡盘，并且制造可以继续。一种新的清洁方法使得能够清洁突节顶部，而无需使夹具断开连接或取下盖来执行突节顶部刷新，这节省了数小时或者数周的停机时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本文的描述总体上涉及用于清洁光刻装置的部分的方法和系统。

技术介绍

1、光刻(例如，投影)装置能够被用于例如制造集成电路(ic)。在这样的情况下，图案化设备(例如，掩模)可以包含或提供对应于ic的单独层(“设计布局”)的图案，并且该图案能够通过诸如穿过图案化设备上的图案照射目标部分之类的方法而被转移到已被涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)的层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)上。通常，单个衬底包含多个相邻的目标部分，该图案由光刻投影装置依次转移到这些目标部分，每次一个目标部分。在一种类型的光刻投影装置中，整个图案化设备上的图案在一次操作中被转移到一个目标部分上。这样的装置通常被称为步进器。在一种另选装置(通常被称为步进扫描装置)中，投影束在使衬底平行或反向平行于给定的参考方向(“扫描”方向)同步地移动的同时沿该参考方向扫描图案化设备。图案化设备上的图案的不同部分被逐步地转移到一个目标部分。

技术实现思路

1、从光刻装置的夹具清除污染颗粒被描述。夹具突节的顶部通常被涂覆有坚硬且导电的陶本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于清洁光刻装置的物体支撑件的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中施加所述化学清洁剂、引起相对运动以及施加所述有机液体在所述夹具被耦合到所述光刻装置的卡盘的情况下或者在所述夹具从所述光刻装置的卡盘被断开连接的情况下被执行。

3.一种用于清洁光刻装置的物体支撑件的系统，包括：

4.根据权利要求3所述的系统，还包括清洁前成像器，所述清洁前成像器被配置为生成所述表面的图像数据，所述表面的所述图像数据确认所述污染颗粒的存在和/或所述污染颗粒的一种或多种类型，其中所述图像数据包括来自所述表面的显微镜检查的一个或多个图像。</p>

5.根据...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于清洁光刻装置的物体支撑件的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中施加所述化学清洁剂、引起相对运动以及施加所述有机液体在所述夹具被耦合到所述光刻装置的卡盘的情况下或者在所述夹具从所述光刻装置的卡盘被断开连接的情况下被执行。

3.一种用于清洁光刻装置的物体支撑件的系统，包括：

4.根据权利要求3所述的系统，还包括清洁前成像器，所述清洁前成像器被配置为生成所述表面的图像数据，所述表面的所述图像数据确认所述污染颗粒的存在和/或所述污染颗粒的一种或多种类型，其中所述图像数据包括来自所述表面的显微镜检查的一个或多个图像。

5.根据权利要求3所述的系统，还包括计算机系统，所述计算机系统被配置为确定所述表面的清洁前初始平整度，以确认所述污染颗粒的存在以及针对清除的需要，其中所述初始平整度使用高电压相位测量干涉仪被确定，并且所述计算机系统形成高电压相位测量干涉仪的部分。

6.根据权利要求3所述的系统，还包括显微镜，所述显微镜被配置用于确定针对所述表面的清洁前污染颗粒分布图，其中所述污染颗粒分布图使用显微镜检查被确定。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述污染颗粒分布图还使用白光干涉法和白光干涉仪而被确定。

8.根据权利要求3所述的系统，还包括计算机系统，所述计算机系统被配置用于基于所述表面的图像数据、所述表面的平整度和/或所述表面上的污染颗粒分布来确定...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·R·巴赫蒂，M·利普森，B·A·埃文斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：