一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致...

公开了量测设备和方法。在一种布置中，检查衬底。由辐射源(50)发射的源辐射光束(131)被分成测量光束(132)和参考光束(133)。用测量光束照射第一目标，第一目标在衬底(W)上。用参考光束照射第二目标(90)，第二目标与衬底分离。从...

提供了一种用以对图案化过程中的曝光后效应进行建模的过程，所述过程包括：利用一个或更多个处理器获得基于通过曝光后过程而形成于一个或更多个衬底上的结构的测量结果的值以及过程条件改变所依据的第一对过程参数的值；利用一个或更多个处理器将基于所述...

提供了一种测量一个或多个衬底的高度轮廓的方法，包括使用第一传感器装置测量衬底上的一个或多个场的第一高度轮廓，第一高度轮廓是第一场间部分和第一场内部分之和，使用第二传感器装置测量衬底上或另外的衬底上的一个或多个另外的场的第二高度轮廓，第二...

一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。

描述了一种用于测量靶的移动性质的方法。方法包括：形成与扩展的靶区域至少部分重合的剩余等离子体，剩余等离子体是由靶空间中的先前辐射脉冲与先前靶之间的相互作用形成的等离子体；沿着轨迹朝向靶空间释放当前靶，该靶空间与扩展的靶区域至少部分地重叠...

公开了电子发射器和制造电子发射器的方法。根据某些实施例，一种电子发射器包括尖端，其具有直径在约(0.05‑10)微米的范围内的平面区域。电子发射器尖端被配置为释放场发射电子。电子发射器进一步包括涂覆在尖端上的功函数降低材料。

一种对准系统被配置为在对准测量期间对其系统中的热变化基本上不敏感。对准系统包括传感器系统、支撑结构、感测元件、位置测量系统、以及在感测元件与支撑结构之间的无热接口。传感器系统被配置为确定衬底上的对准标记的位置，并且支撑结构被配置为支撑传...

本发明涉及一种用于恢复衬底的标记层中对准标记的方法，包括步骤：a)提供具有由抗蚀剂层覆盖的标记层的衬底；b)在标记层中形成对准标记，其中对准标记由以下步骤形成：暴露抗蚀剂层至图案化辐射束，由此在抗蚀剂的标记区域中形成对准图案；c)在标记...

一种方法，包括：针对堆叠灵敏度和套刻灵敏度，评估用于对使用图案化工艺处理的量测目标进行测量的多个衬底测量选配方案，以及从多个衬底测量选配方案中选择堆叠灵敏度的值满足或越过阈值并且套刻灵敏度的值在距离套刻灵敏度的最大值或最小值的特定有限范...

本文公开了一种衬底保持器、一种制造衬底保持器的方法、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、以及一种使用所述光刻设备制造器件的方法。在一种布置中，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器支撑衬底。衬底保持器包括主体。主体具有主体表面。设...

一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基...

一种浸没式光刻设备，包括：支撑台，配置成支撑具有至少一个目标部分的物体；投影系统，配置成将图案化的束投影到所述物体上；定位器，配置成相对于所述投影系统移动所述支撑台；液体限制结构，配置成将液体限制在所述投影系统和所述物体和/或所述支撑台...

一种衬底，包括衬底层；以及在衬底层上的可蚀刻层，可蚀刻层包括在其上或在其中的图案化区域，并且包括尺寸足以使得能够确定用于蚀刻空白区域的蚀刻工具的体蚀刻率的空白区域。

公开了一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备以及相关联方法。检查设备包括用于产生测量辐射的照射源；用于聚焦测量辐射至所述目标结构上的光学装置；以及补偿光学装置。补偿光学装置可以包括SLM，可操作为空间调制测量辐射的波前以便于补偿所述光学...

描述了一种用于测量当前靶在其沿着轨迹朝向靶空间行进时的移动性质的方法。该方法包括：在当前靶进入靶空间之前检测由于当前靶与多个诊断探针中的每一个诊断探针之间的相互作用而产生的光的多个二维表示；基于对检测到的光的多个二维表示的分析来确定当前...

一种流体处理结构(12)，其配置成将浸没流体限制到光刻设备的一区域，所述流体处理结构包括：孔(15)，其形成在所述流体处理结构中，用作使投影束经由通过所述浸没流体而通过所述孔的通道；第一部分(100)；以及第二部分(200)；并且其中，...

光学系统和检测器捕获通过与目标结构交互而修改的辐射的分布。使用观测到的分布以计算结构的特性(例如CD或套刻)。与光学系统相关的条件误差(例如聚焦误差)在观测值之间可变。记录特定于每个捕获的真实条件误差并用于对于由特定于观测值的条件误差所...

一种评估图案化工艺的方法，该方法包括：获得第一量测目标的第一测量的结果；获得第二量测目标的第二测量的结果，第二量测目标与第一量测目标具有结构差异，结构差异生成在第一与第二量测目标之间的、图案化工艺的工艺参数的灵敏度差异和/或偏移；以及由...

光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮...