衬底保持器和制造衬底保持器的方法技术

本文公开了一种衬底保持器、一种制造衬底保持器的方法、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、以及一种使用所述光刻设备制造器件的方法。在一种布置中，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器支撑衬底。衬底保持器包括主体。主体具有主体表面。设置从主体表面突出的多个突节。每个突节具有突节侧表面和远端表面。每个突节的远端表面接合衬底。突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且支撑所述衬底。碳基材料层被设置在碳基材料的多个分离区域中。所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面。碳基材料层仅覆盖突节中的至少一个突节的远端表面的一部分。可替代地，碳基材料层覆盖突节中的至少一个突节的远端表面和突节侧表面的至少一部分。

Substrate holder and method of manufacturing substrate holder

A substrate holder, a method for manufacturing a substrate holder, a lithography device including the substrate holder, and a method for manufacturing devices using the lithography device are disclosed. In one arrangement, a substrate holder for lithography equipment is provided. The substrate holder supports the substrate. The substrate holder includes a body. The main body has the surface of the main body. A plurality of protruding knots are arranged from the main body surface. Each protuberant node has a protuberant lateral surface and a distal surface. The distal surface of each protrusion joint is bonded to the substrate. The distal surface of the protrusion joint is basically in conformity with the supporting plane and supports the substrate. The carbon-based material layer is arranged in a plurality of separation regions of the carbon-based material. The carbon-based material layer provides a surface with a lower friction coefficient than that of the main surface outside a plurality of separation regions of the carbon-based material. The carbon-based material layer covers only a portion of the distal surface of at least one of the protrusions. Alternatively, the carbon-based material layer covers at least one part of the distal surface of at least one protrusion node and the side surface of the protrusion node.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底保持器和制造衬底保持器的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2016年7月6日提交的欧洲申请16178099.4的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文。
本专利技术涉及一种衬底保持器和一种制造衬底保持器的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在IC的单层上形成的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描衬底来辐射每个目标部分。也有可能通过图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。当从图案形成装置转印图案时，衬底被夹持在光刻设备的衬底保持器上。衬底保持器通常具有多个突节以支撑衬底。与衬底的总面积相比，突节与衬底接触的总面积较小。因此，随机地位于衬底或衬底保持器的表面上的污染物颗粒被捕获到在突节和衬底之间的可能性很小。而且，在衬底保持器的制造中，相较于可将大的表面准确地制成平坦的，可将突节的顶部更准确地制成共面的。当先将衬底装载到衬底保持器上以准备曝光时，衬底由所谓的电子销(e销)支撑，所述e销在三个位置处保持衬底。当衬底正在由e销保持时，其自身的重量将导致衬底变形，例如，从上方观察时变成凸面。为了将衬底装载到衬底保持器上，缩回e销，使得衬底由衬底保持器的突节支撑。当衬底下降到衬底保持器的突节上时，在接触其他位置(例如，靠近中心)之前，衬底将接触一些位置(例如，靠近边缘)。突节和衬底的下表面之间的摩擦可以防止衬底完全松弛成平坦的无应力状态。由于衬底的刚性，当衬底支撑在e销上时，由衬底的重量引起的曲率相对小。另外，当衬底位于衬底保持器的突节上时，确实会发生一些松弛。然而，残余曲率可能足以引起不期望的重叠误差。此外，即使在支撑在e销上之前，衬底也可能是不平坦的(例如翘曲)，这会增加误差。
技术实现思路
期望的是，例如，提供一种能够减小重叠误差的改进的衬底保持器。根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器，配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：具有主体表面的主体；从所述主体表面突出的多个突节，其中每个突节具有突节侧表面和远端表面，其中所述远端表面配置成与所述衬底接合；所述突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且被配置用于支撑所述衬底；其中，碳基材料层设置在碳基材料的多个分离区域中，所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的一部分更低的摩擦系数的表面；和所述碳基材料层仅覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面的一部分，或者所述碳基材料层覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面和所述突节侧表面的至少一部分。根据本专利技术的一方面，提供了一种制造衬底保持器的方法，所述方法包括：提供衬底保持器坯料，所述衬底保持器坯料具有带主体表面的主体并具有从所述主体表面突出的多个突节，其中每个突节具有突节侧表面和远端表面，其中所述远端表面配置成与衬底接合，并且所述突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且被配置用于支撑衬底；在碳基材料的多个分离区域中设置碳基材料层，所述碳基材料层提供具有比主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面，并且所述多个分离区域被定位成使得所述碳基材料层仅覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面的一部分，或者所述碳基材料层覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面和突节侧表面的一部分。根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器，配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：具有主体表面的主体；从所述主体表面突出的多个突节，其中每个突节具有突节侧表面和远端表面，其中所述远端表面配置成与所述衬底接合；所述突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且被配置用于支撑所述衬底；其中，连续的碳基材料层被设置，所述连续的碳基材料层包括多个第一区域和至少一个第二区域，所述多个第一区域中的每一个第一区域具有第一厚度，所述至少一个第二区域具有第二厚度，所述碳基材料提供具有比所述主体表面更低的摩擦系数的表面，所述多个第一区域一起或者仅覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面的一部分，或者覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面和所述突节侧表面的至少一部分，并且所述第一厚度大于所述第二厚度。附图说明现在将参考所附的示意性附图仅通过举例的方式来描述本专利技术的实施例，在附图中对应的附图标记表示对应的部件，且在附图中：图1示意性地描绘了一种光刻设备；图2描绘了根据一个实施例的衬底保持器的平面图；图3描绘了根据一个实施例的衬底保持器的突节的横截面；图4描绘了根据一个实施例的制造衬底保持器的方法；图5从上到下描绘了三个不同的实验数据图，示出了在涂覆类金刚石碳之前平坦度随着衬底保持器上的位置的变化：(顶部)全局夹持形状的偏差；(中间)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的重叠度；(底部)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的聚焦度；图6从上到下描绘了三个不同的实验数据图，示出了在涂覆单个连续的类金刚石碳层时的平坦度随衬底保持器上的位置的变化：(顶部)全局夹持形状的偏差；(中间)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的重叠度；(底部)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的聚焦度；图7从上到下描绘了三个不同的实验数据图，示出了在衬底保持器已经设置有多个分离的类金刚石涂层区域之后平坦度随衬底保持器上的位置的变化；(顶部)全局夹持形状的偏差；(中间)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的重叠度；(底部)具有衬底保持器平坦度的不可校正部件的聚焦度；以及图8描绘了根据替代实施例的衬底保持器的突节的横截面图。具体实施方式图1示意性地描绘了一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括：-照射系统(照射器)IL，配置成调节辐射束B(例如UV辐射束或DUV辐射束)；-支撑结构(例如掩模台)MT，构造成支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与配置成根据某些参数准确地定位图案形成装置MA的第一定位装置PM相连；-支撑台，例如用于支撑一个或更多个传感器的传感器台或者构造为保持衬底(例如涂有抗蚀剂的制造衬底)W的支撑设备60，该支撑台连接到第二定位装置PW，第二定位装置配置成根据某些参数准确地定位例如衬底W的支撑台的表面的位置；以及-投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，用以引导、成形、或控制辐射。支撑结构MT保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光刻设备的衬底保持器，配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：具有主体表面的主体；从所述主体表面突出的多个突节，其中每个突节具有突节侧表面和远端表面，其中所述远端表面配置成与所述衬底接合；所述突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且被配置用于支撑所述衬底；其中，碳基材料层设置在碳基材料的多个分离区域中，所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面；和所述碳基材料层仅覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面的一部分，或者所述碳基材料层覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面以及所述突节侧表面的至少一部分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.06 EP 16178099.41.一种用于光刻设备的衬底保持器，配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：具有主体表面的主体；从所述主体表面突出的多个突节，其中每个突节具有突节侧表面和远端表面，其中所述远端表面配置成与所述衬底接合；所述突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且被配置用于支撑所述衬底；其中，碳基材料层设置在碳基材料的多个分离区域中，所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面；和所述碳基材料层仅覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面的一部分，或者所述碳基材料层覆盖所述多个突节中的至少一个突节的远端表面以及所述突节侧表面的至少一部分。2.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料是类金刚石碳。3.根据权利要求1或2所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料层覆盖所述多个突节中的至少一个突节的所述突节侧表面、所述远端表面、以及与所述突节侧表面直接相邻的所述主体表面的一部分。4.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料的多个分离区域中的一个或更多个分离区域中的每一个分离区域覆盖单个突节的远端表面和突节侧表面的一部分。5.根据权利要求4所述的衬底保持器，其中，当垂直于所述主体表面观察时，覆盖单个突节的所述远端表面和所述突节侧表面的一部分的所述碳基材料的多个分离区域中的每一个分离区域的最大横向尺寸小于所述突节的中心与最近的其他突节的中心之间的距离。6.根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料层覆盖从所述主体表面突出的多个突节中的每一个突节的远端表面。7.根据权利要求6所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料层还覆盖从所述主体表面突出的多个突节中的每一个突节的突节侧表面的至少一部分。8.根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料层的厚度在0.5μm至1.5μm的范围内。9.根据权利要求1-7中任一项所述的衬底保持器，其中，所述碳基材料层的厚度在30nm至200nm的范围内。10.根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持器，还包括从所述主体表面突出的密封件，所述密封件具...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·波耶兹，S·阿成达，M·A·阿克巴斯，P·安东诺夫，J·布坎贝格蒂，J·W·M·弗伦肯，E·W·帕奇蒂，N·坦凯特，B·蒂里，J·费尔赫芬，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL