本发明提供了在平板显示器面板的衬底上淀积有机物质的方法。有机材料淀积设备可包括内部形成有处理空间的腔室和供给源装置，该供给源装置生成有机源并通过设于所述处理空间中的喷淋头将所述有机源注入并扩散进所述处理空间中。所述衬底由载台装置支撑，该...

本发明公开一种用于ＬＣＤ玻璃的宏观检查设备，其中玻璃保持器在其两侧利用一对平行铰接式连接单元来支撑，以保护ＬＣＤ玻璃免受由于驱动宏观检测设备而产生的振动，由于平行铰接式连接单元，通过单个电极来实现玻璃保持器的Ｘ轴运动、Ｚ轴运动、以及倾斜...

本发明提供了一种有机材料淀积系统和方法。有机材料淀积设备可包括内部形成有处理空间的腔室和供给源装置，该供给源装置生成有机源并通过设于所述处理空间中的喷淋头将所述有机源注入并扩散进所述处理空间中。所述衬底由载台装置支撑，该载台装置在所述处...

一种用于处理衬底的群组设备，包括用以接收衬底的负载闭锁腔室、与负载闭锁腔室相邻的传送腔室、每个都具有面对传送腔室的侧面的一个或者多个处理腔室、以及位于传送腔室中用以将衬底装载或者卸载到负载闭锁腔室中或者一个或者多个处理腔室的至少一个中的...

本发明公开的内容涉及一种制造或烘焙荧光灯的设备和方法。一种烘焙荧光灯的设备包括用于加热多个石英管的加热器。每个管具有设于其中的荧光灯。多个辊旋转放置于其上的石英管，并且传输块包括多个辅助辊。该传输块被构造为以第一方向移动，从而将所述多个...

提供了一种用于将基板引入处理室的系统和方法。半导体或平板显示器的制造设备的台面上是否存在基板可以通过用于加载和卸载基板抬升销来确定，从而可以防止引入另一基板，并且基板的破裂状态或错误加载状态可以被检测。闸门阀的开闭也可以被确定，并且可以...

本发明提供了一种衬底键合设备和方法。衬底键合设备可包括具有与固定到其一侧的衬底相对的接收表面的板、位于板的接收表面和衬底之间多个夹持件、以及用来将衬底从夹持件分离的衬底分离器。衬底分离器包括用于推衬底使衬底从夹持件分离的推力器和安装在板...

本发明公开了一种用于附着基板的设备，该设备包括用于支撑第一基板的第一腔室以及用于支撑第二基板的第二腔室。主密封件设置于第一腔室与第二腔室之间以保持腔室之间的密封和间隙。对准控制部设置于第一腔室与第二腔室之间以便保持密封，并且还使第二腔室...

本发明公开了一种用于附着基板的设备，该设备包括用于支撑第一基板的第一腔室以及用于支撑第二基板的第二腔室。主密封件设置于第一腔室与第二腔室之间以保持腔室之间的密封和间隙。对准控制部设置于第一腔室与第二腔室之间以便保持密封，并且还使第二腔室...

一种衬底贴合设备，包括：第一室，第一室包括第一表面板，在第一表面板上接收第一衬底；表面板升降机，用于升起第一表面板；第二室，第二室包括第二表面板，在第二表面板上接收待贴合于第一衬底的第二衬底；至少一处胶粘剂，包含于第一表面板用来附着到第...

本发明公开了一种基板装配机，该基板装配机在制造液晶显示设备的过程中将上基板和下基板装配起来。所述基板装配机的一个基板装载／卸载设备将基板插入一上工作台和一腔之间的空间内，以及将装配后的基板从所述空间退出。

一种下电极组件，包括绝缘体和下电极材料。下电极材料包括具有三级表面的周边部分。第一级表面支承具有预定宽度和长度的衬底。第二级表面具有的宽度对应于衬底预定宽度加上第一增量，其具有的长度对应于衬底预定长度加上第二增量。第三级表面的高度低于第...

一种用于产生等离子体的电极构件，包括电极板和具有与电极板热接触的多个热电模块的冷却单元。热电模块可以基于珀尔帖效应调节电极板的温度。

一种等离子体处理设备，用于在维持于真空状态的室中产生等离子体并使用所述等离子体处理基板。所述等离子体处理设备包括在淋浴头中形成的用于使制冷剂循环的制冷剂通道，从而容易地控制淋浴头的温度并改善等离子体处理的再现性。

在此公开了一种使用在其中产生的等离子体来实施预定过程的平板显示器制造设备。在这种平板显示器制造设备中，过程气体在均匀扩散的状态下被提供到室中以在该室的对称内部空间内产生均匀的等离子体。因此，所述平板显示器制造设备可适当地控制等离子体的流...

在此公开的是一种等离子体处理设备，其在真空室内产生等离子体以使用所述等离子体来处理半导体基板。所述设备包括基板安装台、外提升棒及阻挡。所述外提升棒包括驱动轴及垂直耦合到所述驱动轴上端的基板支撑部件。所述阻挡包括耦合到所述驱动轴上端的阻挡...

一种用于在维持于真空状态的室中产生等离子体并使用所述等离子体处理基板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备包括在淋浴头中形成的用于使制冷剂循环的制冷剂通道，从而容易地控制淋浴头的温度并改善等离子体处理的再现性。

一种等离子加工设备，其在真空状态的腔室内产生等离子体从而利用该等离子体处理放置在该腔室内的基片，该等离子加工设备包括一个环绕于设置在该等离子加工设备内的电极周围的等离子体防护单元，用来阻止电极暴露于等离子体中。

本发明公开了一种等离子加工设备，其使用等离子体对一个基片进行预定加工，所述等离子体产生于一个限定在所述等离子加工设备内且保持在真空状态下的腔体。所述的等离子加工设备包括一个冷却器，以有效地冷却一个包括在所述等离子加工设备内的电极单元，从...

本发明公开了一种等离子加工设备，其防止了空气在一观察口中产生旋涡，所述观察口用于对处于真空状态的加工室的内部进行观察。所述设备包括：多个孔，其形成在加工室的相对壁上平行于加工室内的基片的位置处，使得通过所述孔对加工室内部的基片进行观察；...