本文公开了一种平板显示器制造设备的处理腔，用于在其内部产生等离子而对至少一个基片进行预定的处理。如此地构造所述处理腔，使得单个大面积的基片在该处理腔内进行处理，而且此外多个小面积的基片在该处理腔内同时地进行处理。依据本发明，能够对单个大...

本发明提供一种用于在大气压力下产生等离子体并供应所述等离子体的装置，该装置包括：壳体，气体导入所述壳体内；以及等离子体发生单元，所述等离子体发生单元包括设置在所述壳体内的上电极、以及设置在所述上电极之下的网状的下电极。根据本发明的网状下...

本发明公开了一种等离子体处理装置，其中，在传输腔内不会产生寄生等离子体。该等离子体处理装置包括负荷固定腔、传输腔、处理腔、以及闸阀，闸阀安装在各腔之间，用于传输衬底及开启和关闭各腔的开口。各闸阀均包括：阀座，其设在各腔之间，使得该阀座通...

本发明涉及一种等离子体处理装置，更具体地，涉及一种能够提供压缩气体同时防止堆积在室的底部上的颗粒飞起的等离子体处理装置。本发明的等离子处理体装置包括：室；进气／排气部，设置在室的底部以便向室供以压缩气体，所述进气／排气部被构造成使其内径...

提供了一种使用等离子体的用于蚀刻基片的蚀刻装置的处理室，比如液晶显示（ＬＣＤ）基片。该处理室可包括：室本体，其一个壁中形成有门缝；打开和关闭门缝内开口的旋转内门；以及旋转内门的门驱动机构。在蚀刻基片时，内门关闭以防止室本体内部与门缝相通...

一种等离子加工设备，其在真空状态的腔室内产生等离子体从而利用该等离子体处理放置在该腔室内的基片，该等离子加工设备包括一个环绕于设置在该等离子加工设备内的电极周围的等离子体防护单元，用来阻止电极暴露于等离子体中。

本发明公开了一种等离子加工设备，其防止了空气在一观察口中产生旋涡，所述观察口用于对处于真空状态的加工室的内部进行观察。所述设备包括：多个孔，其形成在加工室的相对壁上平行于加工室内的基片的位置处，使得通过所述孔对加工室内部的基片进行观察；...

在此公开了一种平板显示器（ＦＰＤ）的制造系统，其包括一个或多个沿成行路线连续地移动衬底的衬底传送线、以及多个彼此叠置以用于载入和卸下完成处理后的衬底的载荷锁定腔，从而对可衬底进行有效的处理。

本发明公开了一种平面显示器制造设备，由处理室、隔板、升降条、连杆组成。处理室内包括支持基板的基板支架；而隔板水平设置在基板支架和处理室壁之间，隔开基板支架的上部空间和底部空间；升降条垂直设置在隔板的底部空间内；连杆连接上述处理室壁内的隔...

一种平板显示器制造装置的加工室，其包括打开或者关闭所述室体上盖的开／关设备。所述加工室包括：室体，以及放置在所述室体上的上盖，使得打开远离或者关闭接近所述室体。在所述上盖的关闭状态下，所述上盖使所述室体的内部与外部隔离，从而在所述室体的...

在此公开了一种平板显示器（ＦＰＤ）制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开／闭操作。

公开了一种静电卡盘，其通过以下与基片进行点接触：使用多个支持球以使接触面积最小，以便于防止半导体基片的接触损坏；一种基片支持；一种用于基片固定的夹具；以及其制造方法。另外，公开了一种被用作在等离子体处理设备中提供的上电极或下电极的电极结...

在此公开一种等离子体加工装置。该等离子体加工装置包括一个供气装置，该供气装置包括：多个在水平方向上传送加工气体的输气管；多个散气部件，其向下连接至输气管的另一端或中部，从而向下扩散和喷洒通过输气管供应的加工气体；以及一个将加工气体均匀排...

在此公开了一种平板显示器（ＦＰＤ）的制造系统，其包括一个或多个沿成行路线连续地移动衬底的衬底传送线、以及多个彼此叠置以用于载入和卸下完成处理后的衬底的载荷锁定腔，从而对可衬底进行有效的处理。

本发明提供了一种静电夹具和具有该静电夹具的设备。该静电夹具可以在制造平板显示器面板的衬底组装工艺中吸引衬底。用弹性材料制成的弹性层可以设在静电夹具的基底部中，防止由于外力造成的非均匀应力分布在衬底上，因此保持衬底的平整度，提高组装后衬底...

一种平板显示器制造装置，包括：　　　　在其中执行工艺的工艺室；　　　　设置在工艺室的衬底支撑板，其中待加工的衬底安装在衬底支撑板上；　　　　转移室，通过它衬底从外部进入工艺室或通过它衬底从工艺室排出到外部；　　　　其上安装衬底的第一载板...

一种平板显示器生产设备基板支撑装置，包括基板支座和升降枢轴，所述基板支座上可水平放置玻璃基板，其特征是，所述基板支座形成多个上端呈倒锥形柱状的垂直通孔；　　　　所述升降枢轴插在上述垂直通孔中，从而在所述基板支座上形成多个升降枢轴，其能上...

一种平板显示器（ＦＰＤ）制造设备，其具有改进的结构，能减小将基板装载到装载锁定室中和从装载锁定室卸载基板所花费的时间，由此有效地处理大尺寸基板。

在此公开了一种真空加工设备，用于在其中建立真空环境之后对基板执行所需工艺。更具体而言，所述真空加工设备包括真空室，该真空室分为室体和上盖。所述上盖配置成容易从室体打开以及关闭到室体。

本发明提供一种起模针模块，为了防止工艺气体在工艺过程中通过起模针孔渗入，引发异常放电的现象，该起模针模块具备起模针，该起模针紧贴着位于下部电极的起模针孔。