干膜抗蚀剂的多层膜制造技术

一种多层膜包括：第一表面层和与所述第一表面层相对的第二表面层，其中所述第一表面层的粘度ａ和所述第二表面层的粘度ｂ满足以下方程式：［方程式１］ｂ＞ａ。根据本发明专利技术的干膜抗蚀剂不采用常规的无凝胶聚乙烯保护遮盖膜。因此，可以减少产生不良图案，例如缺损或断路，所述缺损或断路是由于在形成布线图案时保护遮盖膜产生的鱼眼或杂质造成的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在制造印刷电路板、引线架和球状栅极阵列封装中使用的干膜抗蚀剂 的多层膜，以及使用该多层膜的干膜抗蚀剂。
技术介绍
自从1968年干膜抗蚀剂(也被称为干膜光致抗蚀剂或光敏膜)由Du Pont开发 作为商标名称'RISTON'，它已经使用在用于安装半导体集成电路的引线架或作为大规模 集成电路(LSI)封装的球状栅极阵列封装中，在该大规模集成电路封装中，半球形焊接端 子以二维阵列排列在安装有裸芯片的印刷电路板(PCB)的背面以替代引线，特别地，干膜 抗蚀剂用作有重大意义的加工技术材料，以在PCB上形成电路，所述PCB主要用于在各种电 子装置中连接组件。常规的干膜抗蚀剂由三层组成，即，基膜层、光敏层和保护遮盖膜。干膜抗蚀剂的基膜层采用透明膜。一般地，使用厚度约为25 μ m的聚酯基膜，例如 聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜。通过在基膜上涂布和干燥光敏树脂合成物来得到光敏层，所述光敏层由负 (negative)光敏树脂合成物或正(positive)光敏树脂合成物构成。另外，根据显影方式， 光敏层已知为使用碱水溶液进行显影的碱性显影类型，和使用有机溶剂进行显影的有机溶 剂显影类型，与有机溶剂显影类型相比，使用碱性显影类型趋向于增加，有机溶剂显影类型 的问题是例如，操作过程的稳定性，环境污染和高生产成本。通过涂布和干燥光敏树脂合成物来制备光敏层，所述光敏树脂合成物一般由以下 组成(然而它的成分可能根据需要的机械和化学性质以及加工环境而不同)光聚合多功 能单体，诱导多功能单体的光聚合的光引发剂，向光敏层提供机械强度、遮盖(tenting)特 性、粘度的高分子粘合剂，以及，根据目的的额外的添加剂，例如，染料、稳定剂、附着力促进 剂和热聚合抑制剂。对于保护遮盖膜，常规上使用聚烯烃膜，例如具有良好挠性、耐化学性和脱离性 (releasability)的聚乙烯膜。通过对热熔化原料进行捏合和挤压，然后对挤出物进行双向 拉伸或铸造来制备所述保护遮盖膜。在干膜抗蚀剂中使用保护遮盖膜的原因是，因为所述保护遮盖膜防止了当光敏聚 合物被涂布在基膜上并且干燥后卷绕干膜抗蚀剂时产生窜层(telescope)(不能保持产品 的原来形状，而出现气泡)，保护遮盖膜还提高了光敏层和基层之间的脱离性，并且用作防 止杂质，例如灰尘，进入光敏层的遮盖。然而，在制备聚烯烃膜的过程中，包含未熔化物质和被加热的物质的凝胶形成在 聚烯烃膜中，由于在形成所述膜后，像鱼的眼睛的微突起出现在所述膜中，所以所述凝胶称 为鱼眼。所述鱼眼通常具有30-600 μ m的直径，并且从所述遮盖膜的表面突起到2-40 μ m 的高度。光敏层(虽然它属于固体)不是坚硬的固体，它的形状不变形，但是具有一定形变 能力。因此，保护遮盖膜的鱼眼的突起部分被传递到光敏层上，从而在光敏层中形成凹 陷。因为当将干膜抗蚀剂层压到基材上时，保护遮盖膜被去除，并且光敏层通过加热压在基 材上，所以所述形成的凹陷在光敏层和基材之间产生空隙，当根据随后的曝光、显影和蚀刻 工艺形成布线图案时，所述空隙导致不良图案，例如缺损(Chip)或断路。为了解决所述问题，日本专利公开H11-153861公开了一种干膜抗蚀剂，该干膜 抗蚀剂采用聚烯烃遮盖膜，其中主轴大于80 μ m的鱼眼的数量少于5/m2，日本专利公开 2003-342307公开了一种聚乙烯膜及其制备方法，在所述聚乙烯膜中，主轴大于30 μ m小于 0. 20mm的鱼眼的数量少于40/m2，并且主轴大于0. 20mm的鱼眼的数量少于1. 0/m2。然而，采用低鱼眼密度的聚乙烯(它们难以制备并且通常价格高)提高了干膜抗 蚀剂的生产成本。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的是提供一种多层膜以及使用所述多层膜的干膜抗蚀剂，该多层膜不 在干膜抗蚀剂中使用保护遮盖膜而增强光敏层和基膜之间的脱离性。技术方案在一方面，为了解决所述问题，本专利技术提供了多层膜，所述多层膜包括第一表面层 和与所述第一表面层相对的第二表面层，其中所述第一表面层的粘度a和所述第二表面层 的粘度b满足以下方程式b > a。第一表面层包含0.001-5wt%的添加剂，第二表面层不包含添加剂或包含少于0.5wt%的添加剂，并且第一表面层的粘度a和第二表面层的粘度b满足以下方程式b/a=L2 5。在另一方面，本专利技术提供了功能膜，其中功能层堆叠在如上所述的多层膜的具有 较高粘度的第二表面层上。功能膜的例子可以包括多层膜，优选地在干膜抗蚀剂中，光敏层堆叠在多层聚酯 膜上。常规的干膜抗蚀剂采用保护遮盖膜，因此有鱼眼问题。然而，本专利技术提供包括多层 聚酯膜和光敏膜的干膜抗蚀剂，而不采用会导致问题的遮盖膜。因此，本专利技术的干膜抗蚀剂不会由于鱼眼而在光敏层中产生空隙。此时，问题是当使用干膜抗蚀剂时，用作基膜的多层聚酯膜和光敏膜之间的脱离 性，和当卷绕时的发生的窜层。因此，本专利技术提供了多层膜，所述多层膜包括多于两层的用于干膜抗蚀剂的多层 膜，其中使用与光敏层具有1. 2-5倍的粘度差的层作为所述膜的两个表面层，并且具有1.2-5倍的粘度差的层包括含有0. 001_5衬％的添加剂的第一表面层；和不包含添加剂或 包含少于0. 5wt%的添加剂的第二表面层。此外，在又一方面，本专利技术提供了干膜抗蚀剂，其中光敏层堆叠在多层膜的第二表面层上。具体地，第一表面层包含0. 001_5衬％的添加剂，而第二表面层不包含添加剂或包 含少于0. 5衬％的添加剂，其中第一表面层的添加剂a和第二表面层的添加剂b满足以下方 程式b/a = 1. 2 5当将如上所述制备的干膜抗蚀剂如图1所示卷绕成圆筒形时，光敏层的一面与多 层膜的比光敏层具有较高粘度的第二表面层接触，而光敏层的另一面与多层膜的具有较低 粘度的第一表面层接触。因此，当放开卷绕的干膜抗蚀剂时，具有较高粘度的第二表面层粘住光敏层，而具 有较低粘度的第一表面层容易与光敏层脱离，由此显著增强了多层基膜和光敏层之间的脱 离性。因此，不使用具有鱼眼的遮盖膜，可以放心使用干膜抗蚀剂。并且，由于具有较高粘度的第二表面层牢固地粘住光敏层，可以防止在卷绕时产 生窜层。多层膜通过混合挤压来制备，并且具有多于两层的多层结构。在具有两层的多层 结构的膜中，一层形成为具有较高粘度的第二表面层，另一层形成为具有较低粘度的第一 表面层。在具有三层或更多层的多层结构的膜中，最外一层形成为具有较高粘度的第二表 面层，与最外层相对的层形成为具有较低粘度的第一表面层。使用添加剂可以得到不同粘度，并且通过控制所用添加剂的种类和含量 (content)可以增大粘度差。添加剂可以是颗粒、润滑剂(lubricant)或它们的混合物。当颗粒用作添加剂时， 所述膜表面上的突起数目增加或表面粗糙度增加，以使得能控制多层膜和光敏层之间的摩 擦系数。当润滑剂用作添加剂时，多层膜的表面上的表面张力可能减小。颗粒用作添加剂的例子包括无机颗粒，例如硬碳酸钙(CaCO3)、二氧化硅(SiO2)、 硫酸钡(BaS04)、氧化钠(Na02)、硫酸钠(Na2SO4)、高岭土和滑石，以及包括有机颗粒，例 如硅树脂、交联聚苯乙烯树脂、和包括交联二乙烯基苯聚甲基丙烯酸酯(cross-linked divinylbenzene polyme本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多层膜，所述多层膜包括：第一表面层和与所述第一表面层相对的第二表面层，其中，所述第一表面层的粘度ａ和所述第二表面层的粘度ｂ满足以下方程式：［方程式１］ｂ＞ａ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋起相，金时敏，金允照，
申请(专利权)人：可隆工业株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]