曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术是有关一种曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法，光束照射装置（２０）的空间光调制器（２５）是将反射光束用的多个微小的反射镜排列在二方向上而构成，驱动电路（２７）根据描绘数据来变更各反射镜的角度，由此来对照射至基板（１）的光束进行调制。经调制后的光束从光束照射装置（２０）的包含照射光学系统的头部（２０ａ）照射向基板（１）。对光束照射装置（２０）的驱动电路（２７）供给该描绘数据，并监视空间光调制器（２５）的各反射镜的动作，且根据对光束照射装置（２０）的驱动电路所供给的描绘数据与所监视的空间光调制器（２５）的各反射镜的动作，来判定空间光调制器（２５）的各反射镜是否正常动作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在液晶显示器(display)装置等显示用面板基板的制造中，对涂布有光致抗蚀剂(photo-resist)的基板照射光束，并利用光束来扫描基板，从而在基板上 描绘图案(pattern)的曝光装置、曝光方法以及使用这些曝光装置和曝光方法的显示用面 板基板的制造方法，尤其涉及一种使排列在空间光调制器的二方向上的多个反射镜动作而 对光束进行调制的曝光装置、曝光方法以及使用这些曝光装置和曝光方法的显示用面板基 板的制造方法。
技术介绍
作为显示用面板而使用的液晶显示器装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor, TFT)基板或彩色滤光器(color filter)基板、等离子体(plasma)显示器面板用基板、有 机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等的制造是使用曝光装置，通过 光刻(photolithography)技术在基板上形成图案而进行。作为曝光装置，以往有使用透镜 (lens)或镜子来将掩模(mask)的图案投影至基板上的投影(projection)方式、以及在掩 模与基板之间设置微小的间隙(邻近间隙，proximity gap)而将掩模的图案转印至基板的 邻近方式。近年来，开发出一种对涂布有光致抗蚀剂的基板照射光束，利用光束来扫描基板， 从而在基板上描绘图案的曝光装置。由于是利用光束来扫描基板而在基板上直接描绘图 案，因此不需要高价的掩模。而且，通过变更描绘数据(data)以及扫描的程序(program)， 能够对应多种类的显示用面板基板。作为此种曝光装置，例如有专利文献1、专利文献2以 及专利文献3中揭示的曝光装置。日本专利特开2003-332221号公报日本专利特开2005-353927号公报日本专利特开2007-219011号公报如专利文献1 3中所揭示者，在对基板照射光束，利用光束来扫描基板，从而在 基板上描绘图案的曝光装置中，是通过数字微镜元件(DigitalMicro-mirror Device, DMD) 等的空间光调制器来对照射至基板的光束进行调制，从而进行图案化(patterning)。此时， 如果空间光调制器发生故障或控制不良等的不良状况，将无法正常进行图案的描绘，从而 无法获得所需的图案形状。以往是对结束曝光的基板的图案形状进行检查，以检测出图案 的描绘不良，因而有在此期间所曝光的基板也会发生图案的描绘不良的问题。
技术实现思路
本专利技术的课题在于，当通过光束来扫描基板以在基板上描绘图案时，能够在早期 检测出对光束进行调制的空间光调制器的不良状况。而且，本专利技术的课题在于，当通过光束 来扫描基板以在基板上描绘图案时，即使对光束进行调制的空间光调制器的一部分发生不良状况，也能正常地进行图案的描绘。进而，本专利技术的课题在于制造高品质的显示用面板基 板。本专利技术的曝光装置包括夹盘，支持涂布有光致抗蚀剂的基板；载物台，移动所述 夹盘；以及光束照射装置，包含空间光调制器、驱动电路以及照射光学系统，其中所述空间 光调制器使排列在二方向上的多个反射镜动作而对光束进行调制，所述驱动电路根据描绘 数据来驱动空间光调制器，所述照射光学系统照射经空间光调制器调制后的光束，且，通过 载物台来移动夹盘，利用来自光束照射装置的光束来扫描基板，从而在基板上描绘图案，此 曝光装置包括监视机构，监视光束照射装置的空间光调制器的各反射镜的动作；以及描 绘控制机构，对光束照射装置的驱动电路供给所述描绘数据，根据所供给的描绘数据与由 监视机构所监视的空间光调制器的各反射镜的动作，来判定空间光调制器的各反射镜是否 正常动作。而且，本专利技术的曝光方法是利用夹盘来支持涂布有光致抗蚀剂的基 板，通过载物 台来移动夹盘，利用来自光束照射装置的光束来扫描基板，从而在基板上描绘图案，所述光 束照射装置包含空间光调制器、驱动电路以及照射光学系统，其中所述空间光调制器使排 列在二方向上的多个反射镜动作而对光束进行调制，所述驱动电路根据描绘数据来驱动空 间光调制器，所述照射光学系统照射经空间光调制器调制后的光束，此曝光方法中，对光束 照射装置的驱动电路供给所述描绘数据，监视光束照射装置的空间光调制器的各反射镜的 动作，根据对光束照射装置的驱动电路供给的描绘数据与所监视的空间光调制器的各反射 镜的动作，来判定空间光调制器的各反射镜是否正常动作。光束照射装置的空间光调制器是将反射光束的多个微小的反射镜排列在二方向 上而构成，驱动电路根据描绘数据来变更各反射镜的角度，由此对照射向基板的光束进行 调制。经空间光调制器调制后的光束从光束照射装置的包含照射光学系统的头部照射至 由夹盘所支持的基板。对光束照射装置的驱动电路供给所述描绘数据，监视光束照射装置 的空间光调制器的各反射镜的动作，并根据对光束照射装置的驱动电路所供给的描绘数据 与所监视的空间光调制器的各反射镜的动作，来判定空间光调制器的各反射镜是否正常动 作，因此能够在早期检测出对光束进行调制的空间光调制器的不良状况。进而，本专利技术的曝光装置中，光束照射装置的空间光调制器将反射镜由关闭姿势 改为打开姿势而对光束进行调制，监视机构包括对由打开姿势的反射镜所反射的光束进 行分支的分支机构；将受光面的各像素对应于空间光调制器的各反射镜而配置的摄影装 置；以及使由分支机构所分支的光束在摄影装置的受光面上成像的机构。而且，本专利技术的曝 光方法中，将光束照射装置的空间光调制器的反射镜由关闭姿势改为打开姿势而对光束进 行调制，对由打开姿势的反射镜所反射的光束进行分支，使所分支的光束在将受光面的各 像素对应于空间光调制器的各反射镜而配置的摄影装置的受光面上成像，以监视空间光调 制器的各反射镜的动作。由打开姿势的反射镜所反射的光束被照射向光束照射装置的包含 照射光学系统的头部，并从头部照射向由夹盘所支持的基板。对由该打开姿势的反射镜所 反射的光束进行分支，并使所分支的光束在将受光面的各像素对应于空间光调制器的各反 射镜而配置的摄影装置的受光面上成像，由此能够容易地监视空间光调制器的各反射镜的 动作。或者，本专利技术的曝光装置中，光束照射装置的空间光调制器将反射镜由关闭姿势改为打开姿势而对光束进行调制，且监视机构包括将受光面的各像素对应于空间光调制 器的各反射镜而配置的摄影装置；以及使由关闭姿势的反射镜所反射的光束在摄影装置的 受光面上成像的机构。而且，本专利技术的曝光方法中，将光束照射装置的空间光调制器的反射 镜由关闭姿势改为打开姿势而对光束进行调制，使由关闭姿势的反射镜所反射的光束在将 受光面的各像素对应于空间光调制器的各反射镜而配置的摄影装置的受光面上成像，以监 视空间光调制器的各反射镜的动作。由关闭姿势的反射镜所反射的光束偏离光束照射装置 的包含照射光学系统的头部的方向，而不照射至由夹盘所支持的基板。使由该关闭姿势的 反射镜所反射的光束在将受光面的各像素对应于空间光调制器的各反射镜而配置的摄影 装置的受光面上成像，由此能够容易地监视空间光调制器的各反射镜的动作。 进而，本专利技术的曝光装置中，描绘控制机构根据光束照射装置的空间光调制器的 各反射镜的动作的判定结果，而制作出对因未正常动作的反射镜所造成的光束的扫描的遗 漏来进行补偿的描绘数据，并供给至光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，包括：夹盘，支持涂布有光致抗蚀剂的基板；载物台，移动所述夹盘；以及光束照射装置，包含空间光调制器、驱动电路以及照射光学系统，其中所述空间光调制器使排列在二方向上的多个反射镜动作而对光束进行调制，所述驱动电路根据描绘数据来驱动空间光调制器，所述照射光学系统照射经空间光调制器调制后的光束，且通过所述载物台来移动所述夹盘，利用来自所述光束照射装置的光束来扫描基板，从而在基板上描绘图案，此曝光装置的特征在于包括：监视机构，监视所述光束照射装置的空间光调制器的各反射镜的动作；以及描绘控制机构，对所述光束照射装置的驱动电路供给所述描绘数据，根据所供给的描绘数据与由所述监视机构所监视的空间光调制器的各反射镜的动作，来判定所述空间光调制器的各反射镜是否正常动作。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：根本亮二，
申请(专利权)人：株式会社日立高科技，
类型：发明
国别省市：JP[日本]