【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示
，具体的说是涉及一种新型TFT基板的清洗工艺。
技术介绍
TFT技术是二十世纪九十年代发展起来的，采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术，是液晶（LC）、无机和有机薄膜电致发光（EL和OEL）平板显示器的基础。TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片上（当然也可以在晶片上）通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜，通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路（LSIC）。采用非单晶基板可以大幅度地降低成本，是传统大规模集成电路向大面积、多功能、低成本方向的延伸，是现代大生产的顶尖技术。薄膜场效应晶体管是指液晶显示器上的每一液晶像素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动，从而可以做到高速度高亮度高对比度显示屏幕信息，TFT-LCD（薄膜晶体管液晶显示器）是多数液晶显示器的一种，可以做到高速度、高亮度、高对比度显示屏幕信息，是最好的LCD彩色显示设备之一，其效果接近CRT显示器，是笔记本电脑和台式机上的主流显示设备。TFT的每个像素点都是由集成在自身上的TFT来控制，是有源像素点。TFT基板的后期去除残余杂质的清洗工艺，对TFT基板的使用效果以及使用寿命有较大影响。
技术实现思路
鉴于已有技术存在的缺陷，本专利技术的目的是要提供一种新型的TFT基板的清洗工艺。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案：一种TFT基板的清洗工艺，其特征在于：将异...
【技术保护点】
一种TFT基板的清洗工艺，其特征在于：将异丙酮水溶液均匀喷洒在TFT基板上进行杂质的初步清洗工序；利用去离子水冲洗含杂质的异丙酮水溶液并利用海绵吸除残余水分，反复清洗三次；将所述TFT基板置于40℃恒温条件下进行烘干处理；在所述TFT基板上均匀喷洒低浓度氢氧化钠溶液后，利用去离子水冲洗并用海绵吸除残余水分；将所述TFT基板置于100℃恒温条件下进行烘干处理。
【技术特征摘要】
1.一种TFT基板的清洗工艺，其特征在于：
将异丙酮水溶液均匀喷洒在TFT基板上进行杂质的初步清洗工序；
利用去离子水冲洗含杂质的异丙酮水溶液并利用海绵吸除残余水分，反复
清洗三次；
将所述TFT基板置于40℃恒温条件下进行烘干处理；
在所述TFT基板上均匀喷洒低浓度氢氧化钠溶液后，利用去离子水冲洗并
用海绵吸除残余水分；
将所述T...
【专利技术属性】
技术研发人员：王东巍，
申请(专利权)人：大连鑫永工业制造有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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