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本发明公开了一种TFT基板的清洗工艺，其特征在于：将异丙酮水溶液均匀喷洒在TFT基板上进行杂质的初步清洗工序；利用去离子水冲洗含杂质的异丙酮水溶液并利用海绵吸除残余水分，反复清洗三次；将所述TFT基板置于40℃恒温条件下进行烘干处理；在所述...
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