【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种处理系统，其特征在于，包含：工艺腔室，所述工艺腔室被配置以在基板上沉积材料；和电磁掩膜夹盘，所述电磁掩膜夹盘被定位于所述工艺腔室中，所述电磁掩膜夹盘包含：多个电磁体，所述多个电磁体可操作以将掩膜夹持至所述基板载体上的所述基板；和耦接至所述多个电磁体的电源。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：约翰·M·怀特，王作乾，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。