接近曝光装置、其基板定位方法及显示用面板基板的制法制造方法及图纸

一种接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法及显示用面板基板的制造方法。在搭载于第1平台且朝向Y方向(或X方向)移动的第2平台上安装第2反射装置，以对第2反射装置在θ方向上的位置偏移进行检测。在夹盘上设置多个光学式位移计，通过多个光学式位移计，在多处部位对直至安装于第2平台的第2反射装置为止的距离进行测定。基于第2反射装置在θ方向上的位置偏移的检测结果，并根据多个光学式位移计的测定结果，来检测夹盘在θ方向上的斜率，且基于检测结果，通过第3平台来使夹盘朝向θ方向旋转，以进行基板在θ方向上的定位。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在液晶显示器(display)装置等的显示用面板基板的制造中，使用接近(proximity)方式来进行基板曝光的接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法以及使用这些装置和方法的显示用面板(panel)基板的制造方法，特别是涉及一种通过移动平台(stage)来使支撑基板的夹盘(chuck)朝XY方向移动以及朝0方向旋转以进行曝光时的基板定位的接近曝光装置、接近曝光装置的基板定位方法以及使用这些装置和方法的显示用面板基板的制造方法。
技术介绍
用作显示用面板的液晶显示器装置的薄膜晶体管(Thin Film Transistor, TFT)基板或彩色滤光器(color filter)基板、等离子体(plasma)显示器面板用基板、有机电致发光(Electroluminescence, EL)显示面板用基板等的制造是使用曝光装置,通过光刻(photolithography)技术在基板上形成图案(pattern)而进行。作为曝光装置，有使用透镜(lens)或镜子来将光罩(mask)的图案投影到基板上的投影(projection)方式、以及在光罩与基板之间设置微小的间隙(接近间隙(proximity gap))而将光罩的图案转印到基板上的接近方式。与投影方式相比，接近方式的图案析象性能差，但是照射光学系统的结构简单，且处理能力高，适合于量产用途。近年来，在显示用面板的各种基板的制造中，为了应对大型化以及尺寸的多样化，须准备相对较大的基板，并根据显示用面板的尺寸来从一片基板中制造出一片或多片显示用面板基板。此时，对于接近方式而言，如果要统一曝光基板的一面，则需要与基板相同大小的光罩，从而导致昂贵的光罩成本(cost)进一步增大。因此，使用相对于基板较小的光罩，通过移动平台来使基板朝向XY方向步进移动，将基板的一面分成多次照射(shot)来进行曝光的方式成为主流。在接近曝光装置中，为了精度良好地进行图案的烧附，必须精度良好地进行曝光时的基板定位。进行基板定位的移动平台具备朝向X方向移动的X平台、朝向Y方向移动的Y平台以及朝向0方向旋转的0平台，搭载支撑基板的夹盘以朝向XY方向移动以及朝向e方向旋转。专利文献I以及专利文献2中公开了下述技术，即在定位基板时，使用激光(laser)测长系统来检测移动平台在XY方向上的位置，而且使用多个激光位移计来检测夹盘在0方向上的斜率。先前技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开2008-298906号公报专利文献2 :日本专利特开2009-31639号公报
技术实现思路
专利文献I以及专利文献2所记载的技术中，在夹盘上安装条状镜(bar mirror)，通过设在X平台上的多个激光位移计而在多处部位测定条状镜的位移，以检测夹盘在0方向上的斜率。因此，需要专用的条状镜，但该条状镜必须高精度地将表面加工成平坦，因此价格非常高昂，需要耗费巨大的费用。而且，专利文献I以及专利文献2所记载的技术中，在X平台上设有激光位移计，因此当通过Y平台来使夹盘朝向Y方向移动时，条状镜的位置相对于激光位移计而发生变化。因此，在测定结果中有可能包含因条状镜的平坦度造成的误差。与此相对，如果在Y平台上设置多个激光位移计，并使多个激光位移计与夹盘一同朝向XY方向移动，则由各激光位移计所测定的夹盘的位移将不会因夹盘的移动而发生变动。但此时，移动Y平台时，在搭载有Y平台的导轨(guide)上因滑动阻力而产生大量的热，该热传递至Y平台而导致Y平台产生因热变形造成的形变，设在Y平台上的各激光位移计的设置状态发生变化，从而在夹盘位移的测定结果中也有可能产生误差。另一方面，如果取代在Y平台上设置多个激光位移计的做法，而在夹盘上设置多个激光位移计，并在Y平台上安装条状镜，则当Y平台产生因热变形造成的形变时，条状镜的设置状态会发生变化，从而导致条状镜产生0方向的位置偏移，这样有可能无法准确地检测夹盘在0方向上的斜率。如专利文献I以及专利文献2所记载的，当使用多个激光位移计来检测夹盘在9方向上的斜率时，多个激光位移计设置得越远，则越能够精度良好地检测夹盘在e方向上的斜率。但是，激光位移计的输出特性缺乏直线性，如果加宽测定范围，则测定误差将变大。在专利文献I以及专利文献2所记载的技术中，在夹盘向0方向倾斜的状态下，若通过Y平台使夹盘朝Y方向移动，则从各激光位移计到条状镜为止的距离会发生变动，因此若使多个激光位移计设置得更远，则激光位移计的测定范围将变广，从而测定误差有可能变大。进而，激光位移计的输出特性会视设置状态而发生变动，相对于被测定物的微小的角度变化，线性有所不同。因此，如专利文献I以及专利文献2所记载的，使用多个激光位移计来检测夹盘在0方向上的斜率时，在各激光位移计的测定值中包含取决于夹盘角度的变动值，有可能无法高精度地检测夹盘在e方向上的斜率。本专利技术的目的在于，以低价的结构来精度良好地检测夹盘在0方向上的斜率，以精度良好地进行基板在e方向上的定位。而且，本专利技术的目的在于，精度良好地进行图案的烧附，以制造高品质的显示用面板基板。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。为达到上述目的，依据本专利技术的接近曝光装置包括支撑基板的夹盘以及保持光罩的光罩架，在光罩与基板之间设置微小的间隙而将光罩的图案转印至基板上，此接近曝光装置包括移动平台，具有朝向X方向(或Y方向)移动的第I平台、搭载于第I平台上且朝向Y方向(或X方向)移动的第2平台、以及搭载于第2平台上且朝向0方向旋转的第3平台，搭载夹盘以进行由夹盘所支撑的基板的定位；激光测长系统，具有产生激光光线的光源、安装于第I平台的第I反射装置、安装于第2平台的第2反射装置、对来自光源的激光光线与由第I反射装置所反射的激光光线的干涉进行测定的第I激光干涉仪、以及对来自光源的激光光线与由第2反射装置所反射的激光光线的干涉进行测定的第2激光干涉仪；第I检测装置，根据第I激光干涉仪以及第2激光干涉仪的测定结果，来检测移动平台在XY方向上的位置；位置偏移检测装置，对安装于第2平台的第2反射装置在0方向上的位置偏移进行检测；多个光学式位移计，设于夹盘上，在多处部位对直至安装于第2平台的第2反射装置为止的距离进行测定；第2检测装置，基于由位置偏移检测装置所检测的第2反射装置在0方向上的位置偏移，并根据多个光学式位移计的测定结果来检测夹盘在9方向上的斜率；平台驱动电路，驱动移动平台；以及控制装置，基于第2检测装置的检测结果来控制平台驱动电路，通过第3平台使夹盘朝向0方向旋转，以进行基板在e方向上的定位，并基于第I检测装置的检测结果来控制平台驱动电路，通过第I平台以及第2平台来使夹盘朝向XY方向移动，以进行基板在XY方向上的定位。而且，本专利技术的接近曝光装置的基板定位方法中，接近曝光装置包括支撑基板的夹盘以及保持光罩的光罩架，在光罩与基板之间设置微小的间隙而将光罩的图案转印至基板上，其中，将夹盘搭载于移动平台上，所述移动平台具有朝向X方向(或Y方向)移动的第I平台、搭载于第I平台且朝向Y方向(或X方向)移动的第2平台、以及搭载于第2平台且朝向0方向旋转的第3平台，在第I平台上安装第I反射装置，通过第I激光干涉仪，对来自光源的激光光线与由第I反射装置所反射的激光光线的干涉本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接近曝光装置，包括支撑基板的夹盘以及保持光罩的光罩架，在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙而将所述光罩的图案转印至所述基板上，所述接近曝光装置的特征在于包括：移动平台，具有朝向X方向或Y方向移动的第1平台、搭载于所述第1平台上且朝向所述Y方向或所述X方向移动的第2平台、以及搭载于所述第2平台上且朝向θ方向旋转的第3平台，搭载所述夹盘以进行由所述夹盘所支撑的所述基板的定位；激光测长系统，具有产生激光光线的光源、安装于所述第1平台的第1反射装置、安装于所述第2平台的第2反射装置、对来自所述光源的所述激光光线与由所述第1反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第1激光干涉仪、以及对来自所述光源的所述激光光线与由所述第2反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第2激光干涉仪；第1检测装置，根据所述第1激光干涉仪以及所述第2激光干涉仪的测定结果，来检测所述移动平台在XY方向上的位置；位置偏移检测装置，对安装于所述第2平台的所述第2反射装置在所述θ方向上的位置偏移进行检测；多个光学式位移计，设于所述夹盘上，在多处部位对直至安装于所述第2平台的所述第2反射装置为止的距离进行测定；第2检测装置，基于由所述位置偏移检测装置所检测的所述第2反射装置在所述θ方向上的位置偏移，并根据所述多个光学式位移计的测定结果来检测所述夹盘在所述θ方向上的斜率；平台驱动电路，驱动所述移动平台；以及控制装置，基于所述第2检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第3平台使所述夹盘朝向所述θ方向旋转，以进行所述基板在所述θ方向上的定位，并基于所述第1检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第1平台以及所述第2平台来使所述夹盘朝向所述XY方向移动，以进行所述基板在所述XY方向上的定位。...

【技术特征摘要】
2011.09.19 JP 2011-2039121.一种接近曝光装置，包括支撑基板的夹盘以及保持光罩的光罩架，在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙而将所述光罩的图案转印至所述基板上，所述接近曝光装置的特征在于包括 移动平台，具有朝向X方向或Y方向移动的第I平台、搭载于所述第I平台上且朝向所述Y方向或所述X方向移动的第2平台、以及搭载于所述第2平台上且朝向0方向旋转的第3平台，搭载所述夹盘以进行由所述夹盘所支撑的所述基板的定位； 激光测长系统，具有产生激光光线的光源、安装于所述第I平台的第I反射装置、安装于所述第2平台的第2反射装置、对来自所述光源的所述激光光线与由所述第I反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第I激光干涉仪、以及对来自所述光源的所述激光光线与由所述第2反射装置所反射的所述激光光线的干涉进行测定的第2激光干涉仪；第I检测装置，根据所述第I激光干涉仪以及所述第2激光干涉仪的测定结果，来检测所述移动平台在XY方向上的位置； 位置偏移检测装置，对安装于所述第2平台的所述第2反射装置在所述0方向上的位置偏移进行检测； 多个光学式位移计，设于所述夹盘上，在多处部位对直至安装于所述第2平台的所述第2反射装置为止的距离进行测定； 第2检测装置，基于由所述位置偏移检测装置所检测的所述第2反射装置在所述0方向上的位置偏移，并根据所述多个光学式位移计的测定结果来检测所述夹盘在所述0方向上的斜率； 平台驱动电路，驱动所述移动平台；以及 控制装置，基于所述第2检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第3平台使所述夹盘朝向所述e方向旋转，以进行所述基板在所述e方向上的定位，并基于所述第I检测装置的检测结果来控制所述平台驱动电路，通过所述第I平台以及所述第2平台来使所述夹盘朝向所述XY方向移动，以进行所述基板在所述XY方向上的定位。2.根据权利要求1所述的接近曝光装置，其特征在于， 安装于所述第2平台的所述第2反射装置在表面具有多个位置偏移检测用标记，所述位置偏移检测装置具有多个图像获取装置及图像处理装置，根据由所述图像处理装置所检测的各所述位置偏移检测用标记的位置来检测所述第2反射装置在所述0方向上的位置偏移，所述多个图像获取装置获取所述第2反射装置的所述多个位置偏移检测用标记的图像，所述图像处理装置对由各所述图像获取装置所获取的各所述位置偏移检测用标记的图像进行处理，以检测各所述位置偏移检测用标记的位置。3.根据权利要求1所述的接近曝光装置，其特征在于， 所述激光测长系统具有多个所述第2激光干涉仪， 所述位置偏移检测装置根据所述多个第2激光干涉仪的测定结果，来检测安装于所述第2平台的所述第2反射装置在所述0方向上的位置偏移。4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的接近曝光装置，其特征在于， 所述多个光学式位移计是分光干涉激光位移计，所述分光干涉激光位移计将宽波长带宽的光照射至参照反射面以及被测定物，根据来自所述参照反射面的反射光与来自所述被测定物的反射光的干涉光的波长以及强度，来测定直至所...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤隆悟，樋川博志，高桥聪，
申请(专利权)人：株式会社日立高科技，
类型：发明
国别省市：