曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法制造方法及图纸

使夹具与多个光束照射装置(20)相对地移动，所述多个光束照射装置(20)包括：供给光束的照明光学系统(20c)；空间光调制器(25)，将排列于两个方向的多个面镜的角度予以变更，从而对光束进行调制；驱动电路(27)，基于描绘数据来驱动空间光调制器；照射光学系统(20b)，照射出经空间光调制器(25)调制的光束，借由来自多个光束照射装置的多条光束来对基板进行扫描，在基板上描绘出图案。根据各光束照射装置的空间光调制器的面镜的动作角度的不均，对向各光束照射装置的空间光调制器供给的光束的入射角度进行调节。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种曝光装置、曝光方法以及使用所述曝光装置及曝光方法的显示用面板(panel)基板的制造方法，所述曝光装置在液晶显示(display)装置等的显示用面板基板的制造过程中，将光束(beam)照射至涂布有光刻胶(photoresist)的基板，借由光束来对基板进行扫描，在基板上描绘出图案(pattern)，本专利技术特别涉及如下的曝光装置、曝光方法以及使用所述曝光装置及曝光方法的显示用面板基板的制造方法，所述曝光装置使用多个光束照射装置，借由多条光束来对基板进行扫描。
技术介绍
使用曝光装置，借由光刻(photolithography)技术在基板上形成图案，从而制造出被用作显示用面板的液晶显示装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor, TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示(plasma display)面板用基板、以及有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等。作为曝光装置，以往，已有投影 (projection)方式的曝光装置与接近(proximity)方式的曝光装置，所述投影方式的曝光装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：手冢秀和，林知明，吉田稔，
申请(专利权)人：株式会社日立高科技，
类型：发明
国别省市：